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本實用新型提供用于化學氣相沉積工藝的石墨盤和異形襯底，所述石墨盤具有用于放置襯底的凹槽，所述凹槽為異形凹槽，所述異形凹槽中放置異形襯底，所述異形凹槽和異形襯底用于增大石墨盤的利用率。本實用新型通過在石墨盤中放置異形襯底，提高了石墨盤的利用率...該專利屬于光達光電設備科技（嘉興）有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過光達光電設備科技（嘉興）有限公司授權不得商用。
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