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193nm?P光大角度減反射薄膜元件的制備方法,涉及ArF準分子激光應用技術領域,解決了P偏振態193nm激光光束大角度入射擴束棱鏡組時,由于剩余反射導致該模塊光學損耗過大的問題。本發明在采用真空熱沉積方法在基底上交替沉積LaF3薄膜層和M...該專利屬于中國科學院長春光學精密機械與物理研究所所有,僅供學習研究參考,未經過中國科學院長春光學精密機械與物理研究所授權不得商用。
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193nm?P光大角度減反射薄膜元件的制備方法,涉及ArF準分子激光應用技術領域,解決了P偏振態193nm激光光束大角度入射擴束棱鏡組時,由于剩余反射導致該模塊光學損耗過大的問題。本發明在采用真空熱沉積方法在基底上交替沉積LaF3薄膜層和M...