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一種改變光束偏振方向二維分布的裝置，其特點在于其構成包括沿入射光束方向依次是起偏器、四分之一波片和反射式空間光調制器，該反射式空間光調制器的控制端與控制器的輸出端相連，入射光束通過所述的起偏器起偏后形成線偏振光，該線偏振光的偏振方向與Y軸平...該專利屬于中國科學院上海光學精密機械研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院上海光學精密機械研究所授權不得商用。
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一種改變光束偏振方向二維分布的裝置，其特點在于其構成包括沿入射光束方向依次是起偏器、四分之一波片和反射式空間光調制器，該反射式空間光調制器的控制端與控制器的輸出端相連，入射光束通過所述的起偏器起偏后形成線偏振光，該線偏振光的偏振方向與Y軸平...