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所公開的用于制備去離子水的電去離子裝置配備有去離子處理單元，所述去離子處理單元包括：去離子室(D)和去離子室(D)相鄰的在其相反側(cè)上放置并且填充有陰離子交換劑的一對濃縮室(C1和C2)。去離子室(D)由離子交換膜分隔成：與濃縮室(C1)相鄰...該專利屬于奧加諾株式會社所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過奧加諾株式會社授權(quán)不得商用。