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本發明涉及一種微光刻投射曝光設備的光學系統，其包含至少一個反射鏡裝置(200)，該反射鏡裝置具有多個反射鏡元件，這些元件可彼此獨立地位移以改變由該反射鏡裝置反射的光的角度分布；以及偏陣影響光學裝置(300、800、900)，該偏陣影響光學裝...該專利屬于卡爾蔡司SMT有限責任公司所有，僅供學習研究參考，未經過卡爾蔡司SMT有限責任公司授權不得商用。
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本發明涉及一種微光刻投射曝光設備的光學系統，其包含至少一個反射鏡裝置(200)，該反射鏡裝置具有多個反射鏡元件，這些元件可彼此獨立地位移以改變由該反射鏡裝置反射的光的角度分布；以及偏陣影響光學裝置(300、800、900)，該偏陣影響光學裝...