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本發(fā)明公開一種曝光裝置、器件制造方法。一種曝光裝置，通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)和液體把圖案像投影到基板上來(lái)對(duì)所述基板進(jìn)行曝光，所述曝光裝置包括：液浸機(jī)構(gòu)，用液體充滿所述投影光學(xué)系統(tǒng)和所述基板之間，在所述基板上的一部分上形成液浸區(qū)；以及基板臺(tái)，保持并移...該專利屬于株式會(huì)社尼康所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)株式會(huì)社尼康授權(quán)不得商用。