溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。
曝光設(shè)備、曝光方法以及器件制造方法。在晶片工作臺上設(shè)置構(gòu)成編碼器系統(tǒng)的多個頭，并且，基于與刻度板（21）（衍射光柵（RG））相對的頭的輸出來測量晶片工作臺在XY平面內(nèi)的位置信息。并且，此處通過設(shè)置在各個頭內(nèi)的測量系統(tǒng)（640）來測量各個頭（...該專利屬于株式會社尼康所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過株式會社尼康授權(quán)不得商用。