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本發(fā)明公開了一種用于化學(xué)機(jī)械拋光的拋光液，包括用于粗拋的拋光液和用于精拋的拋光液；其中：所述粗拋的拋光液包括：納米磨料5~10wt%，氧化劑為1.5~3wt%，表面活性劑0.01wt%，pH調(diào)節(jié)劑，余量為去離子水，粒度為60~100nm，P...該專利屬于中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所授權(quán)不得商用。