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本發(fā)明公開(kāi)一種干涉曝光裝置，包括：一光源，用于提供曝光光束；一干涉頭，用于將所述曝光光束形成至少兩束干涉光束并會(huì)聚于基底表面形成一干涉曝光圖形，所述干涉頭沿垂向做一維運(yùn)動(dòng)；一運(yùn)動(dòng)承載單元，用于提供所述基底至少三自由度運(yùn)動(dòng)；一測(cè)量單元，用于獲...該專利屬于上海微電子裝備有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)上海微電子裝備有限公司授權(quán)不得商用。