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本發明提供了用于使用獨立光源的晶片溫度測量的方法和設備。在蝕刻處理期間測量襯底溫度的設備包括：形成在襯底支撐表面中的一個或多個窗口；被構造為脈沖產生第一信號的第一信號發生器；以及定位為接收從第一信號發生器透射穿過一個或多個窗口的能量的第一傳...
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