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本發明涉及干法金屬蝕刻方法。描述用于蝕刻襯底上的含鋁層的方法。該方法包括由包含鹵族元素的處理成分形成等離子體并將襯底暴露于等離子體以蝕刻含鋁層。該方法可以附加地包括將襯底暴露于含氧環境以氧化含鋁層的表面并控制含鋁層的蝕刻速率。該方法還可以包...
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