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本發明涉及一種用于在真空處理室內支撐基板（9）的基座，其包括平面（11），用于將基板（9）安置在其上，使得基板（9）與平面（11）導熱接觸，基座（1）包括至少三個相鄰的區域（5、6、8）：外部區域（8）、中間區域（6）和內部區域（5），所述...
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