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本發(fā)明涉及一種用于容納要在真空處理工藝中處理的基板的真空室，其包括氣體入口（7）和氣體分配系統(tǒng)（9），所述氣體入口（7）連接至用于容納氣體（A、B）的氣體源，所述氣體分配系統(tǒng)（9）用于將所述氣體（A、B）從所述氣體入口（7）分配到在朝向所述...該專利屬于東電電子太陽能股份公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過東電電子太陽能股份公司授權(quán)不得商用。