溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本發明涉及一種用于建立對于輻射產生裝置（14）的輻射規劃的方法（1，2）。輻射規劃具有多個輻射位置（33），其至少部分地和/或至少暫時地與在應用（12）輻射規劃的時刻可以出現的至少一個框架參數（29）相關。在建立（1）輻射規劃時更強地考慮輻...該專利屬于GSI亥姆霍茲重離子研究中心有限責任公司所有，僅供學習研究參考，未經過GSI亥姆霍茲重離子研究中心有限責任公司授權不得商用。
溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。
本發明涉及一種用于建立對于輻射產生裝置（14）的輻射規劃的方法（1，2）。輻射規劃具有多個輻射位置（33），其至少部分地和/或至少暫時地與在應用（12）輻射規劃的時刻可以出現的至少一個框架參數（29）相關。在建立（1）輻射規劃時更強地考慮輻...