溫馨提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。
一種極紫外光刻厚掩模缺陷的快速仿真方法，該方法將缺陷多層膜等效為無缺陷平面鏡和缺陷平面鏡兩部分，首先通過薄掩模近似得到掩模吸收層衍射譜，相位補(bǔ)償后經(jīng)過缺陷多層膜反射，然后再進(jìn)行相位補(bǔ)償，最后通過薄掩模近似和相位補(bǔ)償，得到極紫外光刻缺陷掩模衍...該專利屬于中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所授權(quán)不得商用。