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本發明公開了一種大高徑比輻射環的取向壓制裝置及壓制方法，所述取向壓制裝置設于壓機的支架上，所述壓機包括上壓制缸、下壓制缸、支架和控制器；所述取向壓制裝置包括由不導磁材料制成的下陰模和設于下陰模上的由導磁材料制成的上陰模，上、下陰模上設有相對...
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