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本發明公開了一種擋光式微機電可變光衰減器的制作方法。該方法在微納加工工藝的基礎上，采用體硅加工技術制作可變光衰減器的固定擋光板和活動擋光板，通過在固定擋光板、活動擋光板上淀積擋光材料，起到對光束的遮擋限制作用；固定擋光板上制作通光孔，用于約...
該專利屬于中國科學院半導體研究所所有，僅供學習研究參考，未經過中國科學院半導體研究所授權不得商用。

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