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本發明屬于微納加工領域，具體涉及一種梯度漸變雙層體系材料的制備及在防偽標識中的應用。制備過程如下：首先制備聚二甲基硅氧烷片作為支撐層，拉伸后覆蓋在紫外光固化膠膜的表面，制備吸收飽和的聚二甲基硅氧烷片；然后在另一塊襯底上旋涂紫外光固化膠，將吸...該專利屬于無錫英普林納米科技有限公司所有，僅供學習研究參考，未經過無錫英普林納米科技有限公司授權不得商用。
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本發明屬于微納加工領域，具體涉及一種梯度漸變雙層體系材料的制備及在防偽標識中的應用。制備過程如下：首先制備聚二甲基硅氧烷片作為支撐層，拉伸后覆蓋在紫外光固化膠膜的表面，制備吸收飽和的聚二甲基硅氧烷片；然后在另一塊襯底上旋涂紫外光固化膠，將吸...