本發(fā)明公開了一種晶圓高溫清洗蝕刻設(shè)備，包括框體；清洗腔設(shè)于框體內(nèi)；旋轉(zhuǎn)平臺(tái)設(shè)置在清洗腔內(nèi)，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上具有wafer；防護(hù)部件能夠升降并且旋轉(zhuǎn)的設(shè)置在wafer的上方，防護(hù)部件上開有進(jìn)液孔；至少二個(gè)藥液噴嘴位置可調(diào)的設(shè)于防護(hù)部件的上方，藥...

本發(fā)明公開了一種藥液回收設(shè)備，包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)；藥液槽沿著旋轉(zhuǎn)臺(tái)的外周向分布，藥液槽的底部設(shè)有外出液口；安裝架設(shè)置在藥液槽的下方，安裝架上設(shè)有豎向設(shè)置的導(dǎo)向線軌；內(nèi)分流罩設(shè)置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)和藥液槽之間，并能通過內(nèi)驅(qū)動(dòng)部主動(dòng)的在導(dǎo)向線軌內(nèi)上下升降；外...

本技術(shù)公開了一種晶圓交錯(cuò)夾持旋轉(zhuǎn)清洗平臺(tái)，包括夾持臺(tái)，夾持臺(tái)經(jīng)由旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)；多個(gè)第一夾持PIN和多個(gè)第二夾持PIN可轉(zhuǎn)動(dòng)的間隔設(shè)置在夾持臺(tái)上；驅(qū)動(dòng)模組的一端與旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)相連，另一端用以驅(qū)動(dòng)第一夾持PIN和第二夾持PIN在夾持臺(tái)上...

本技術(shù)公開了一種晶圓夾持機(jī)構(gòu)，包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)，多個(gè)夾持部的頂部從旋轉(zhuǎn)臺(tái)穿出，夾持部可轉(zhuǎn)動(dòng)的與旋轉(zhuǎn)臺(tái)相連，多個(gè)夾持部用以對(duì)晶圓進(jìn)行夾持；每個(gè)夾持部尾端的一側(cè)設(shè)有可上下移栽的移栽驅(qū)動(dòng)部，移栽驅(qū)動(dòng)部設(shè)于旋轉(zhuǎn)臺(tái)內(nèi)；當(dāng)移栽驅(qū)動(dòng)部遠(yuǎn)離夾持部的尾端時(shí)，夾...

本技術(shù)公開了一種掩模板清洗設(shè)備，包括設(shè)置在清潔腔室內(nèi)的旋轉(zhuǎn)部、大面清洗部、側(cè)面清洗部和避讓組件；旋轉(zhuǎn)部上設(shè)有多個(gè)定位PIN，用以裝載掩模板并帶動(dòng)掩模板旋轉(zhuǎn)；大面清洗部可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在旋轉(zhuǎn)部的上方；側(cè)面清洗部設(shè)置在旋轉(zhuǎn)部的上方，用以在旋轉(zhuǎn)部...

本技術(shù)公開了一種基板單片清洗裝置，包括傳輸部，傳輸部包括對(duì)接設(shè)置的第一傳輸組件和第二傳輸組件；雙面清洗部設(shè)置在第一傳輸組件和第二傳輸組件的對(duì)接處；兩個(gè)推動(dòng)部設(shè)置在傳輸部的兩端；多個(gè)端面清洗部件間隔設(shè)置在第一傳輸組件的兩側(cè)；轉(zhuǎn)向部設(shè)置在第...

本技術(shù)公開了一種基板高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)，包括旋轉(zhuǎn)臺(tái)面，支撐限位部配置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)面上；頂升部配置在支撐限位部的下方，用于通過驅(qū)動(dòng)支撐限位部后將基板頂升的同時(shí)露出基板的任意側(cè)面；保護(hù)板配置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)面的上，保護(hù)板內(nèi)上開有限位槽；其中，當(dāng)所述頂升部不頂...

本實(shí)用新型公開了一種小流量藥液快速升溫用加熱裝置，包括加熱罐，加熱罐內(nèi)具有密閉空間，且加熱罐的頂部開有與密閉空間相通的注水口；至少一個(gè)發(fā)熱部件沿著加熱罐長(zhǎng)度方向設(shè)置在密閉空間內(nèi)，并從加熱罐的頂部穿出；所述藥液部包括多個(gè)沿著所述加熱罐長(zhǎng)度...

本實(shí)用新型公開了一種晶圓和保溫機(jī)構(gòu)平行度和間距可調(diào)的晶圓高溫蝕刻裝置，包括腔室，腔室內(nèi)具有酸性藥液機(jī)械臂、堿性藥液機(jī)械臂和背面清洗噴嘴，還包括位于腔室內(nèi)的底板；水平調(diào)節(jié)底板可上下升降的設(shè)置在底板的上方，水平調(diào)節(jié)底板上具有水平調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；晶...

本實(shí)用新型公開了一種晶圓背面清洗裝置，包括旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上開有排液口；中空軸可轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)于旋轉(zhuǎn)平臺(tái)的下端面，中空軸與排液口相通；至少一個(gè)噴嘴設(shè)于旋轉(zhuǎn)平臺(tái)內(nèi)，并且噴嘴的噴向朝著位于旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上方晶圓的背面；液體噴射管路沿著中空軸內(nèi)部往上延...

本實(shí)用新型公開了一種酸堿排氣通道分離的晶圓清洗腔體，包括腔體，腔體內(nèi)設(shè)有晶圓固定臺(tái)，晶圓固定臺(tái)上設(shè)有卡爪，晶圓的上方設(shè)有酸性藥液懸臂和堿性藥液懸臂，還包括設(shè)置在腔體內(nèi)兩側(cè)的排氣腔室，排氣腔室的底部開有排堿進(jìn)氣口；第一分隔組件和第二分隔組...

本實(shí)用新型公開了一種能避免晶元污染的清洗腔，包括腔體，腔體內(nèi)具有容納空間，用于放置承載晶圓的承載臺(tái)；片材覆蓋在腔體的上方，并往腔體的兩端延伸，片材上開有用于藥液臂噴液的進(jìn)液口以及取放晶圓的進(jìn)料口；片材可在腔體上方進(jìn)行左右移動(dòng)，使得進(jìn)液口...

本實(shí)用新型公開了一種晶圓蝕刻用承載機(jī)構(gòu)，包括承載部，所述承載部上具有承載臺(tái)面；若干個(gè)所述卡接部上下貫穿的設(shè)于所述承載臺(tái)面上，所述卡接部的上部具有用于將晶圓卡接的卡槽；驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述卡接部的底部相連；其中，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述卡接部在卡接...