【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及半導體
,尤其涉及一種SOI?MOS器件閃爍噪聲的測試設備及測試方法。
技術介紹
現今超大規模集成電路高速發展,制造工藝不斷進步,隨著工藝的特征尺寸的減小,工作電壓也逐漸的變小,噪聲對器件的影響就越發的凸顯出來了,它會造成信號的失真,甚至誤操作。噪聲一般分外部噪聲和器件的本征噪聲,外部噪聲一般是由于其他儀器或者環境等所造成的擾動,此部分的噪聲一般采用接地,屏蔽和濾波的方法,可將其所產生的噪聲降至最低;器件的本征噪聲是由于器件本身所固有噪聲,和器件的制造工藝有著密不可分的聯系,其包括熱噪聲,產生復合噪聲,散粒噪聲,和閃爍噪聲等。另一方面,由于無線通訊設備的廣泛的應用,對振蕩器的要求也越來越高,事實上,以閃爍噪聲為代表的低頻噪聲在振蕩電路中扮演著重要的角色,低頻的器件噪聲會影響振蕩器的頻率,因此也成為設計振蕩器的關鍵要素之一。基于以上兩點,低頻噪聲對于評估一個器件的好與壞也變得越來越重要了,也是繼氧化層完整性,熱載流子效應,和負偏壓溫度不穩定性之后,又一表征器件特性的重要參數。因此準確的測試出閃爍噪聲在工程和研究中變得日益重要,現有的測試方案通常采用keithley公司的半導體特征分析系統K14200-SCS、可編程低電流放大器K1428-PROG和低通濾波器,以及的ACS(自動特征分析套件)軟件等軟硬件配置起來的測試系統。但是這種測試方法是用keithley的K1 ...
【技術保護點】
一種SOI?MOSFET器件閃爍噪聲的測試方法,該方法包括以下步驟:a)測試待測器件(100)的輸出特性,確定器件的直流偏置條件;b)根據步驟a)得到的直流偏置條件設置柵極偏置源(101),并通過低通濾波器(102)接到所述器件(100)的柵極上;c)將所述器件的漏極連接到低噪聲電流放大器(103)的輸入端,再將低噪聲電流放大器(103)的輸出端連接到低噪聲電壓放大器(104)的輸入端,最后將低噪聲電壓放大器(104)的輸出端接到信號分析儀(105)的輸入端;d)將低噪聲電壓放大器(104)和信號分析儀(105)的采樣模式設置為直流模式;e)將所述待測器件(100)放在夾具上,打開柵極偏置源(102)的電源,等待一定的時間;f)打開低噪聲電流放大器(103)的電壓源,為漏端提供偏置;g)設置低噪聲電壓放大器的放大倍率為1,調節低噪聲電流放大器(103)的放大倍率使低噪聲電壓放大器(104)的輸出達到最大值;h)時域采樣,并計算出需要補償的電流;i)打開低噪聲電流放大器(103)的補償電流源,設置需要補償的電流,根據低噪聲電流放大器(103)帶寬和放大倍率的關系將其的放大倍率設置為最大; ...
【技術特征摘要】
1.一種SOI?MOSFET器件閃爍噪聲的測試方法,該方法包括以
下步驟:
a)測試待測器件(100)的輸出特性,確定器件的直流偏置條件;
b)根據步驟a)得到的直流偏置條件設置柵極偏置源(101),并通
過低通濾波器(102)接到所述器件(100)的柵極上;
c)將所述器件的漏極連接到低噪聲電流放大器(103)的輸入端,
再將低噪聲電流放大器(103)的輸出端連接到低噪聲電壓放大器
(104)的輸入端,最后將低噪聲電壓放大器(104)的輸出端接到信
號分析儀(105)的輸入端;
d)將低噪聲電壓放大器(104)和信號分析儀(105)的采樣模
式設置為直流模式;
e)將所述待測器件(100)放在夾具上,打開柵極偏置源(102)
的電源,等待一定的時間;
f)打開低噪聲電流放大器(103)的電壓源,為漏端提供偏置;
g)設置低噪聲電壓放大器的放大倍率為1,調節低噪聲電流放大
器(103)的放大倍率使低噪聲電壓放大器(104)的輸出達到最大值;
h)時域采樣,并計算出需要補償的電流;
i)打開低噪聲電流放大器(103)的補償電流源,設置需要補償
的電流,根據低噪聲電流放大器(103)帶寬和放大倍率的關系將其
的放大倍率設置為最大;
j)將低噪聲電壓放大器(104)和信號分析儀(105)的采樣模式
設置為交流模式;
k)調節低噪聲電壓放大器(104)的放大倍率使低噪聲電壓放大
器(104)的輸出達到最大值;
1)頻域采樣,讀取數據;
m)改變漏端電壓,重復步驟f)到步驟1);
n)設置漏端電壓為0,重復步驟f)到步驟1);
o)改變柵極電壓,重復步驟c)至步驟n)。
2.根據權利要求1所述的測試方法,其中步驟d)所述的直流模
式的特征是直流信號和交流信號都可以通過。
3.根據權利要求1所述的測試方法,其中步驟e)所述的時間為
5分鐘。
4.根據權利要求1所述的測試方法,其中步...
【專利技術屬性】
技術研發人員:李書振,卜建輝,畢津順,曾傳濱,羅家俊,韓鄭生,
申請(專利權)人:中國科學院微電子研究所,
類型:發明
國別省市:北京;11
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