一種掩模板及掩模組件制造技術

本實用新型專利技術實施例提供了一種掩模板及掩模組件，涉及顯示技術領域，可以提高蒸鍍的均勻性，從而改善顯示效果。該掩模板包括第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預定剛性的塑膠材料，且厚度為5～150μm。用于制備顯示器中的有機材料層。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及顯示
，尤其涉及一種掩模板及掩模組件。
技術介紹
有機發光二極管(Organic?Light?Emitting?Diode，簡稱OLED)是一種有機薄膜電致發光器件，其具有易形成柔性結構、視角寬等優點；因此，利用有機發光二極管的顯示技術已成為一種重要的顯示技術。OLED的全彩顯示一般包括R(紅)G(綠)B(藍)子像素獨立發光、或白光OLED結合彩色濾光膜等方式。其中，RGB子像素獨立發光是目前采用最多的彩色模式，其是利用子像素單元中的有機發光材料獨立發光。目前，有機發光材料層一般都是通過對有機材料進行真空蒸發鍍膜形成。其中，對于RGB子像素獨立發光的OLED，由于每個RGB子像素單元采用不同的有機發光材料，因而RGB子像素單元的有機發光層需要分別進行蒸鍍，在此過程中一般采用金屬材料的掩模板來控制有機材料在基板上的鍍膜位置，然后依次在每個子像素單元中蒸鍍相應的有機材料。然而，由于金屬材料的掩模板有其厚度的限制，當有機材料顆粒以較小的傾斜角度入射時，該部分有機材料顆粒會被蒸鍍孔壁遮蔽而無法到達基板，從而使得每個子像素單元的邊緣蒸鍍厚度會明顯低于子像素單元中間的蒸鍍厚度，此稱為“陰影效應”。在此基礎上，由于金屬材料的掩模板材料的特性，在制作上述掩模板的蒸鍍孔的過程中，只有在能量聚集到一定程度時，才能在其上形成蒸鍍孔，在此過程中，如圖1所示，通常會由于能量的聚集，使得蒸鍍孔1012的表面不是完全垂直的，而是會存在夾角的問題，這就進一步加重“陰影效應”的產生。
技術實現思路
本技術的實施例提供一種掩模板及掩模組件，可以提高蒸鍍的均勻性，從而改善顯示效果。為達到上述目的，本技術的實施例采用如下技術方案：一方面，提供一種掩模板，包括：第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預定剛性的塑膠材料，且厚度為5～150μm。優選的，所述掩模板本體的材料包括聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚醚酰亞胺中的至少一種。優選的，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度相等。進一步優選的，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的厚度為5～20μm。基于上述，優選的，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板之間的間距為0～5μm。另一方面，提供一種掩模組件，包括上述的掩模板、以及用于固定拉平所述掩模板的掩模框。優選的，所述掩模框包括位于相對兩側的夾緊部分，所述夾緊部分夾緊所述掩模板的相對兩側邊緣。本技術實施提供了一種掩模板及掩模組件，該掩模板包括第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預定剛性的塑膠材料，且厚度為5～150μm。一方面，通過將掩模板本體的材料選定為具有一定剛性的塑膠材料，并合理設置掩模板本體的厚度，相對現有技術中金屬材料的掩模板，可以改善形成所述蒸鍍孔時，由于能量的聚集而產生的夾角以及掩模板厚度的問題而產生的“陰影效應”；另一方面，通過設置兩個子掩模板并將兩個子掩模板的蒸鍍孔的尺寸設置為相等且完全重疊，可以使遠離蒸鍍基板的一個子掩模板例如第一子掩模板來保證僅能使較大傾斜角(例如接近垂直角度)入射的蒸鍍材料進入并通過第二子掩模板的蒸鍍孔，在此過程中由于避免了其余小角度傾斜角入射的蒸鍍材料對蒸鍍均勻性的影響，從而可以提高蒸鍍的均勻性，進而改善了顯示效果。附圖說明為了更清楚地說明本技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1為現有技術提供的掩模板的蒸鍍孔的示意圖；圖2為本技術實施例提供的一種掩模板的結構示意圖一；圖3為本技術實施例提供的一種掩模板的結構示意圖二；圖4為本技術實施例提供的一種掩模組件的結構示意圖；圖5為本技術實施例提供的制作掩模板的流程示意圖。附圖標記：10-掩模板；101-第一子掩模板；102-第二子掩模板；1011-第一掩模板本體；1012-蒸鍍孔；1021-第二掩模板本體；201-掩模框的夾緊部分。具體實施方式下面將結合本技術實施例中的附圖，對本技術實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本技術一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本技術中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本技術保護的范圍。本技術實施例提供了一種掩模板10，如圖2和圖3所示，該掩模板10包括：第一子掩模板101和第二子掩模板102；所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102均包括掩模板本體和設置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔1012；所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102上的所述蒸鍍孔1012尺寸相等且完全重疊。其中，所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102的所述掩模板本體的材料均為具有預定剛性的塑膠材料，且厚度為5～150μm。這里，可將所述第一子掩模板101的掩模板本體稱為第一掩模板本體1011，將所述第二子掩模板102的掩模板本體稱為第二掩模板本體1021。需要說明的是，第一，位于所述第一子掩模板101的所述蒸鍍孔1012和位于所述第二子掩模板102的所述蒸鍍孔1012一一對應。第二，本技術實施例中，所述第一掩模板本體1011和所述第二掩模板本體1021的材料為，不宜在進行有機材料蒸鍍時，使該掩模板10產生形變的塑膠材料，即：具有低熱膨脹系數且具有一定剛性的材料。第三，不對所述第一子掩模板101和所述第二子掩模板102之間的間距(可以直接接觸，也可以具有一定的間距)進行限定，以能使通過所述蒸鍍孔1012蒸鍍到基板上的有機材料層均勻為準。第四，本實用本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種掩模板，其特征在于，包括：第一子掩模板和第二子掩模板；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設置在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體的材料均為具有預定剛性的塑膠材料，且厚度為5～150μm。

【技術特征摘要】
1.一種掩模板，其特征在于，包括：第一子掩模板和第二子掩模
板；
所述第一子掩模板和所述第二子掩模板均包括掩模板本體和設置
在所述掩模板本體上的蒸鍍孔；所述第一子掩模板和所述第二子掩模
板上的所述蒸鍍孔尺寸相等且完全重疊；
其中，所述第一子掩模板和所述第二子掩模板的所述掩模板本體
的材料均為具有預定剛性的塑膠材料，且厚度為5～150μm。
2.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述掩模板本體
的材料包括聚酰亞胺、聚碳酸酯、聚醚酰亞胺中的至少一種。
3.根據權利要求1所述的掩模板，其特征在于，所述第一子...

【專利技術屬性】
技術研發人員：謝明哲，謝春燕，劉陸，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：新型
國別省市：北京;11