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    一種高溫超導涂層導體用氧化鎳緩沖層的制備方法技術

    技術編號:10577404 閱讀:102 留言:0更新日期:2014-10-29 11:01
    本發明專利技術公開了一種高溫超導涂層導體用氧化鎳緩沖層的室溫電化學制備方法。采用電化學氧化的方法,以堿溶液為電解液,通過陽極氧化的手段在NiW合金基片上外延生長氧化鎳緩沖層。先對NiW合金基帶進行清潔處理;然后以NaOH或者KOH溶液為電解液,NiW合金基帶為工作電極,以飽和甘汞電極為參比電極,鉑片作對電極,對NiW合金基帶進行陽極氧化,其中電解液的濃度為1-8mol/L,陽極氧化電流為10-50mA,陽極氧化時間為5-30分鐘,從而得到NiO緩沖層。該方法在室溫進行,無需氬氣、氧氣氣氛,大大降低生產成本,提高生產效率。

    【技術實現步驟摘要】

    【技術保護點】
    一種高溫超導涂層導體用氧化鎳緩沖層的制備方法,其步驟如下:步驟一:對具有高度立方織構金屬NiW合金基片進行清潔處理;步驟二:在稀釋后濃度為30%?50%的硝酸溶液中懸空浸漬40?120秒,去除表面氧化,取出洗凈晾干;步驟三:以堿溶液為電解液,立方織構金屬NiW合金基片為工作電極,以飽和甘汞電極為參比電極,鉑片作對電極,對立方織構金屬NiW合金基片進行陽極氧化,從而得到NiO緩沖層。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:劉勝利,劉晨,
    申請(專利權)人:南京大學蘇州高新技術研究院,
    類型:發明
    國別省市:江蘇;32

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