本發明專利技術公開了一種氣壓平衡調節裝置，用于馬弗爐內外氣壓的平衡調節，包括閥座，閥座內設置有第一導氣通道，閥座上設置有圓柱狀套筒，圓柱狀套筒的外壁插嵌在馬弗爐的側壁上，圓柱狀套筒的內孔中設置有閥體，閥體左側設置有第二導氣通道，第二導氣通道與第一導氣通道相連通，閥體右側設置有第三導氣通道，閥體頂部設置有導流腔，導流腔與第二導氣通道和第三導氣通道相連通，導流腔內設置有壓塊，壓塊兩側分別壓在第二導氣通道和第三導氣通道上，閥座上設置有進氣口，閥體上設置有出氣口，進氣口與出氣口分別設置在馬弗爐的內部與外部。該氣壓平衡調節裝置既能有效消除馬弗爐內外的氣壓差，保證物料正常加熱，又能有效確保馬弗爐的正常使用。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及氣壓調節領域，更具體地說，特別涉及一種氣壓平衡調節裝置。
技術介紹
在工業生產中，為進一步方便物料熱處理的控制，通常會在一些工業爐的內腔安裝馬弗爐，然后將物料放置在馬弗爐內部進行處理，如此，既可以給物料的熱處理過程提供雙層保護，又可以更穩定控制物料的熱處理環境。馬弗爐是英文Muffle furnace翻譯過來的。Muffle是包裹的意思，furnace是爐子，恪爐的意思。馬弗爐在中國的通用叫法有以下幾種:電爐、電阻爐、茂福爐、馬福爐。馬弗爐是一種通用的加熱設備，依據外觀形狀可分為箱式爐、管式爐、坩禍爐，馬弗爐采用的是封閉結構。在物料進行加熱的過程中，為防止物料的高溫環境下氧化，通常需要對工業爐的內腔進行抽真空處理，在抽真空的過程中，工業爐內腔的氣壓會急速下降，而馬弗爐內氣壓不受影響。如此，馬弗爐的內外會存在壓力差，且工業爐內腔真空度越高，壓力差越大，當壓力差達到一定程度時，馬弗爐的側壁就會發生變形，嚴重者甚至造成馬弗爐的損壞，極大影響了物料的熱處理流程?，F有技術中，為克服上述缺陷，通常會在馬弗爐側壁上安裝一根導氣管，然后在工業爐側壁上安裝另一根導氣管，然后將上述兩根導氣管牽引到工業爐外部，再將兩根導氣管連接在一起，從而實現工業爐內腔與馬弗爐內腔之間的氣壓平衡。使用上述裝置雖然能夠在一定程度上解決馬弗爐內外壓差不平衡的問題，但是由于從馬弗爐外部接一根導氣管通入馬弗爐內腔時，需要先在工業爐與馬弗爐側壁上開孔，再將導氣管直接插嵌在該孔內，如此當外界大氣壓與工業爐內壓力差達到一定限度時，很容易導致漏氣現象發生，影響物料的正常加熱；此外，使用上述兩導氣管形式的結構很容易在高溫環境下發生故障，嚴重影響馬弗爐的正常使用。綜上所述，如何提供一種既能有效消除馬弗爐內外的氣壓差，保證物料正常加熱，又能有效確保馬弗爐正常使用的氣壓平衡調節裝置成為了本領域技術人員亟待解決的問題。
技術實現思路
本專利技術要解決的技術問題為提供一種氣壓平衡調節裝置，該氣壓平衡調節裝置通過其結構設計，既能有效消除馬弗爐內外的氣壓差，保證物料正常加熱，又能有效確保馬弗爐的正常使用?！N氣壓平衡調節裝置，用于馬弗爐內外氣壓的平衡調節，包括閥座，所述閥座內設置有第一導氣通道，所述閥座上設置有圓柱狀套筒，所述圓柱狀套筒的外壁插嵌在馬弗爐的側壁上，所述圓柱狀套筒的內孔中設置有閥體，所述閥體左側設置有第二導氣通道，所述第二導氣通道與所述第一導氣通道相連通，所述閥體右側設置有第三導氣通道，所述閥體頂部設置有導流腔，所述導流腔與所述第二導氣通道和所述第三導氣通道相連通，所述導流腔內設置有壓塊，所述壓塊兩側分別壓在所述第二導氣通道和所述第三導氣通道上，所述閥座上設置有進氣口，所述進氣口用于將所述第一導氣通道與所述閥座外部連通，所述閥體上設置有出氣口，所述出氣口用于將所述第三導氣通道與所述閥體外部連通，所述進氣口與所述出氣口分別設置在馬弗爐的內部與外部。優選地，所述圓柱狀套筒的內孔與所述閥體之間設置有密封塊。本專利技術的有益效果是:本專利技術提供的氣壓平衡調節裝置通過其結構設計，既能有效消除馬弗爐內外的氣壓差，保證物料正常加熱，又能有效確保馬弗爐的正常使用。【附圖說明】為了更清楚地說明本專利技術實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據提供的附圖獲得其他的附圖。附圖1為本專利技術實施例一種氣壓平衡調節裝置整體結構示意圖；附圖2為本專利技術實施例一種氣壓平衡調節裝置安裝在馬弗爐上時的結構示意圖?！揪唧w實施方式】為了使本
的人員更好地理解本申請中的技術方案，下面將結合本申請實施例中的附圖，對本申請實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本申請一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本申請中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都應當屬于本申請保護的范圍。參見附圖1和附圖2，附圖1和附圖2提供了本專利技術的一種具體實施例，其中，附圖1為本專利技術實施例一種氣壓平衡調節裝置整體結構示意圖；附圖2為本專利技術實施例一種氣壓平衡調節裝置安裝在馬弗爐上時的結構示意圖。如附圖1和附圖2所示，本專利技術提供了一種氣壓平衡調節裝置，用于馬弗爐11內外氣壓的平衡調節，包括閥座1、第一導氣通道2、圓柱狀套筒3、閥體4、第二導氣通道5、第三導氣通道6、導流腔7、壓塊8、進氣口 9以及出氣口 10。本專利技術提供的氣壓平衡調節裝置包括閥座1，閥座1內設置有第一導氣通道2，閥座1上設置有圓柱狀套筒3，圓柱狀套筒3的外壁插嵌在馬弗爐11的側壁上。圓柱狀套筒3的內孔中設置有閥體4，閥體4左側設置有第二導氣通道5，第二導氣通道5與第一導氣通道2相連通，閥體4右側設置有第三導氣通道6。閥體4頂部設置有導流腔7，導流腔7與第二導氣通道5和第三導氣通道6相連通，導流腔7內設置有壓塊8，壓塊8兩側分別壓在第二導氣通道5和第三導氣通道6上。閥座1上設置有進氣口 9，進氣口 9用于將第一導氣通道2與閥座1外部連通，閥體4上設置有出氣口 10，出氣口 10用于將第三導氣通道6與閥體4外部連通，進氣口 9與出氣口 10分別設置在馬弗爐11的內部與外部。具體實施過程中，馬弗爐11安裝在工業爐內，工業爐進行抽真空處理時，當馬弗爐11的內部與外部的壓力差沒有超過額定壓力差時，壓塊8保持下落的狀態，壓在第二導氣通道5和第三導氣通道6上。此時，本專利技術提供的氣壓平衡調節裝置內部氣流通道處于閉合狀態，氣流無法通過氣壓平衡調節裝置在馬弗爐11的內部與外部之間流通。當馬弗爐11的內部與外部的壓力差超過額定壓力差時，壓在第二導氣通道5和第三導氣通道6上的壓塊8會被氣流頂起，如此，本專利技術提供的氣壓平衡調節裝置內部氣流通道處于打開狀態。氣流可以通過進氣口 9進入，依次通過第一導氣通道2、第二導氣通道5、第三導氣通道6，最后從出氣口 10導出，由于進氣口 9與出氣口 10分別設置在馬弗爐11的內部與外部，如此可以通過本專利技術提供的氣壓平衡調節裝置來實現馬弗爐11的內部與外部的氣壓平衡調節。本專利技術中，可以通過設置壓塊8的重量來調節馬弗爐11的內部與外部的額定壓力差值。本專利技術中，氣流方向是從氣壓高的區域流向氣壓低的區域，若馬弗爐11的內部氣壓低于與外部氣壓，氣流則會從出氣口 10進入，而從進氣口 9出來。整體來說，本專利技術提供的氣壓平衡調節裝置通過其結構設計，既能有效消除馬弗爐內外的氣壓差，保證物料正常加熱，又能有效確保馬弗爐的正常使用。本實施例中，為進一步提高氣壓平衡調節裝置的密封性能，圓柱狀套筒3的內孔與所述閥體4之間設置有密封塊。以上對本專利技術所提供的一種氣壓平衡調節裝置進行了詳細介紹。本文中應用了具體個例對本專利技術的原理及實施方式進行了闡述，以上實施例的說明只是用于幫助理解本專利技術的方法及其核心思想。應當指出，對于本
的普通技術人員來說，在不脫離本專利技術原理的前提下，還可以對本專利技術進行若干改進和修飾，這些改進和修飾也落入本專利技術權利要求的保護范圍內。【主權項】1.一種氣壓平衡調節裝置，用于馬弗爐內外氣壓的平衡調節，其特征在于本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種氣壓平衡調節裝置，用于馬弗爐內外氣壓的平衡調節，其特征在于，包括閥座，所述閥座內設置有第一導氣通道，所述閥座上設置有圓柱狀套筒，所述圓柱狀套筒的外壁插嵌在馬弗爐的側壁上，所述圓柱狀套筒的內孔中設置有閥體，所述閥體左側設置有第二導氣通道，所述第二導氣通道與所述第一導氣通道相連通，所述閥體右側設置有第三導氣通道，所述閥體頂部設置有導流腔，所述導流腔與所述第二導氣通道和所述第三導氣通道相連通，所述導流腔內設置有壓塊，所述壓塊兩側分別壓在所述第二導氣通道和所述第三導氣通道上，所述閥座上設置有進氣口，所述進氣口用于將所述第一導氣通道與所述閥座外部連通，所述閥體上設置有出氣口，所述出氣口用于將所述第三導氣通道與所述閥體外部連通，所述進氣口與所述出氣口分別設置在馬弗爐的內部與外部。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：胡祥龍，戴煜，胡高健，諶雷，
申請(專利權)人：湖南頂立科技有限公司，
類型：發明
國別省市：湖南;43
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。