環式撞擊型氣化爐制造技術

本發明專利技術公開了一種環式撞擊型氣化爐，包括內設氣化室(2)的爐體，爐體的頂蓋部安裝有氣化原料噴嘴(1)以向下噴出環狀氣化原料流體，氣化室的內周壁設有沿周向間隔布置的多個氣化劑噴嘴(222)，其噴出的氣化劑流體與氣化原料流體在氣化室內相互撞擊而發生燃燒和氣化反應。氣化原料噴嘴內可形成有供氣化原料通過的單流體通道(11)，圍繞氣化室的爐體周壁可包括從外至內的保溫層(23)、氣化劑環層(22)和水冷壁(21)，氣化劑輸送管布置在氣化劑環層內。本發明專利技術的環式撞擊型氣化爐適于大規模碳質材料的氣化處理，兩種噴嘴的獨立安裝和撞擊式氣固混合，能夠優化爐內溫度分布，強化氣固混合，提高燃料利用率，提高噴嘴和氣化爐使用壽命。

【技術實現步驟摘要】
201610293983

【技術保護點】
一種環式撞擊型氣化爐，包括內設氣化室(2)的爐體，所述爐體的上部設有氣化原料噴嘴(1)，該氣化原料噴嘴(1)朝向所述氣化室(2)噴出環狀氣化原料流體，所述爐體上還設有多個與所述氣化原料噴嘴(1)非同軸布置的多個氣化劑噴嘴(222)，多個所述氣化劑噴嘴(222)噴出的氣化劑流體與所述環狀氣化原料流體在所述氣化室(2)內相互撞擊而發生燃燒和氣化反應。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：彭寶仔，劉臻，管清亮，鞏志堅，
申請(專利權)人：神華集團有限責任公司，北京低碳清潔能源研究所，
類型：發明
國別省市：北京;11