防污硬質膜制造技術

本實用新型專利技術涉及光學薄膜技術領域，尤其是一種防污硬質膜，其特征在于：所述防污硬質膜至少包括類金剛石薄膜層和防污膜層，所述類金剛石薄膜層附著在所述工件的表面上，所述防污膜層附著在所述類金剛石薄膜的表面。本實用新型專利技術的優點是：兼具超硬和防污功能，能夠對覆膜產品起到非常好的保護效果；膜層與膜層之間結合力好，不易脫落，加工方便。

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及光學薄膜
，尤其是一種防污硬質膜。
技術介紹
目前，類金剛石薄膜作為一種硬質保護膜已經被用于多個領域，比如可以作為軸承、齒輪等機械零件的抗磨損鍍層，可以作為光學器件的抗磨損保護層，等等。以上應用中， 類金剛石薄膜均位于相應部件的最外層，以起到對內部結構的保護作用。在類金剛石薄膜被應用在一些場合時，比如手機外殼，人們還需要類金剛石膜層在硬膜的基礎上還兼具較好的防污、防指紋的功能。
技術實現思路
本技術的目的是根據上述現有技術的不足，提供了防污硬質膜，通過類金剛石薄膜層與防污膜層的疊加組合，使其兼具超硬和防污功能。本技術目的實現由以下技術方案完成：一種防污硬質膜，設置在工件的表面，其特征在于：所述防污硬質膜至少包括類金剛石薄膜層和防污膜層，所述類金剛石薄膜層附著在所述工件的表面上，所述防污膜層附著在所述類金剛石薄膜的表面。所述類金剛石薄膜層和所述防污膜層之間設置有打底層。所述打底層為二氧化硅打底層或二氟化鎂打底層。所述打底層的厚度為5-20nm。所述防污膜層為硅烷偶聯劑層。所述防污膜層的厚度為5-10nm。本技術的優點是：兼具超硬和防污功能，能夠對覆膜產品起到非常好的保護效果；膜層與膜層之間結合力好，不易脫落，加工方便。附圖說明圖1為本技術的第一種結構示意圖；圖2為本技術的第二種結構示意圖。具體實施方式以下結合附圖通過實施例對本技術特征及其它相關特征作進一步詳細說明，以便于同行業技術人員的理解：如圖1-2所示，圖中標記1-4分別表示為：工件1、類金剛石薄膜層2、防污膜層3、打底層4。實施例一：如圖1所示，本實施例中的防污硬質膜設置在工件1的表面，兼具超硬和防污功能，在避免工件1的表面直接接觸硬物而受到傷害的同時，防止工件1的表面被污染物污染。如圖1所示，本實施例中的防污硬質膜是由類金剛石薄膜層2和防污膜層3所組成的膜系結構，其中起到防護作用的類金剛石薄膜層2附著在工件1的表面，起到防污作用的防污膜層3附著在類金剛石薄膜層2的表面。本實施例中的類金剛石薄膜層2由磁控濺射方法制備；防污膜層3由熱阻蒸發方法制備。實施例二：本實施例相較實施例一的不同之處在于：如圖2所示，在類金剛石薄膜層2和防污膜層3之間設置有一打底層4，該打底層4的兩側表面分別與類金剛石薄膜層2和防污膜層3相結合，以使這兩個功能膜層之間結合緊密，避免膜層剝落。打底層4可以選用二氧化硅或二氟化鎂中的一種，都可以起到很好的結合效果，保證類金剛石薄膜層2和防污膜層3之間的結合緊密。本實施例中的打底層4由電子束蒸發方法制備。上述實施例在具體實施時：防污膜層2的材料可以選擇一端為含氟烷基團，另一端為包含硅氧烷基團的硅烷偶聯劑，其中含氟烷基團為非水解基團，其暴露在空氣中用于抗摩擦，硅氧烷基團用于與類金剛石薄膜層2或打底層4相結合。一般而言，防污膜層3的厚度為5-10nm，打底層4的厚度為5-20nm。各膜層均可以通過現有技術中的各種鍍膜工藝附著到工件1的表面。雖然以上實施例已經參照附圖對本技術目的的構思和實施例做了詳細說明，但本領域普通技術人員可以認識到，在沒有脫離權利要求限定范圍的前提條件下，仍然可以對本技術作出各種改進和變換，如：各膜層的具體厚度、覆蓋范圍等，故在此不一一贅述。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種防污硬質膜，設置在工件的表面，其特征在于：所述防污硬質膜至少包括類金剛石薄膜層和防污膜層，所述類金剛石薄膜層附著在所述工件的表面上，所述防污膜層附著在所述類金剛石薄膜的表面。

【技術特征摘要】
1.一種防污硬質膜，設置在工件的表面，其特征在于：所述防污硬質膜至少包括類金剛石薄膜層和防污膜層，所述類金剛石薄膜層附著在所述工件的表面上，所述防污膜層附著在所述類金剛石薄膜的表面。2.根據權利要求1所述的一種防污硬質膜，其特征在于：所述類金剛石薄膜層和所述防污膜層之間設置有打底層。3.根據權利要求2所述的一種防污硬...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李爽，張忠俊，
申請(專利權)人：光馳科技上海有限公司，
類型：新型
國別省市：上海;31