用于在透明襯底中制造納米結構的方法技術

用于在透明襯底(10)中制造納米結構(11)的方法，該方法具有如下步驟：a)以限定的厚度將第一結構載體層(20)涂覆到襯底(100)的至少一個表面上；b)將納米結構(21)構造到第一結構載體層(20)中；和c)氧化第一結構載體層(20)。

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種用于在透明襯底中制造納米結構的方法。本專利技術還涉及一種在透明襯底中的納米結構。
技術介紹
防反射涂層被用于在例如透鏡、物鏡、棱鏡、板等的光學表面上抑制或者減少光學反射，并且提高透射。通過反射射線的破壞性干涉可以實現(xiàn)在調質面上減小反射率。為此將調質層涂覆到所述光學表面上。用于在光學表面上減少反射的替代方案是在物體表面上的納米結構。在這種情況下，幾何尺寸和在這種結構之間的距離必須小于入射的光學射線的波長。這些引起基本連續(xù)變化的折射率的幾何形狀適合作為納米結構，例如銳角錐臺。折射率的平緩過渡不大程度與波長和角度有關地降低反射率。在優(yōu)化的結構幾何形狀中能夠與極化無關地減小反射。通過在表面上構造的納米結構的增透效應被稱為所謂的“蛾眼效應”。DE102007014538A1公開了一種通過蝕刻可以直接在石英玻璃上產生蛾眼結構的方法。
技術實現(xiàn)思路
本專利技術的任務是，提供一種用于增透光學表面的改進方法。根據(jù)第一方面，通過用于在透明襯底中制造納米結構的方法解決該任務，該方法具有如下步驟：a)以限定的厚度將第一結構載體層涂覆到襯底的至少一個表面上；b)在第一結構載體層中構造納米結構；和c)氧化第一結構載體層。根據(jù)本專利技術首先在第一結構載體層中構造納米結構，該第一結構載體層接著在氧化工藝中完全氧化，并且在此轉換成透明材料。結果，由此提供與透明襯底集成構造的納米結構。有利地，在結構載體層中能夠比在透明襯底中更容易構造納米結構。尤其以這種方式支持一般改進的操作和變容易的曝光工藝。本方法的有利擴展方案是從屬權利要求的主題。本方法的有利擴展方案設置，納米結構的元件構造成金字塔形。由此實現(xiàn)了這樣的納米結構：通過該納米結構實現(xiàn)從空氣到玻璃基本連續(xù)變化的折射率，由此實現(xiàn)蛾眼結構。本方法的有利擴展方案設置，在納米結構的金字塔形元件中構造限定的側面角。這能夠以簡單的方式通過第一結構載體層的下蝕刻或者上蝕刻工藝實現(xiàn)。由此可以有效率地影響金字塔形元件的成形，并且可以有利地顯著提高成形間隙。本方法的另一有利實施方式設置，在第一結構載體層中在透明襯底的兩個表面上構造納米結構。在此充分利用這種情況：在透明襯底的兩側上存在第一結構載體層，由此，結果可以在透明襯底的兩個表面中構造納米結構。本方法的另一有利實施方式設置，將保護層至少部分地涂覆到第一結構載體層的納米結構上。以這種方式可以保護透明襯底的限定區(qū)域免受繼續(xù)加工的影響。此外，通過保護層可以在透明襯底中產生透光的和不透光的區(qū)域。本方法的另一擴展方案設置，保護層不涂覆在納米結構的區(qū)域中。以這種方式會支持，納米結構相對于第一結構載體層的表面被下沉地構造，由此使具有敏感納米結構的透明襯底的繼續(xù)加工變容易。本方法的有利擴展方案設置，使用氮化物作為保護層。由此提供一種技術上的實現(xiàn)可能性，以便限定透明的和不透明的區(qū)域。在不透明的涂層區(qū)域中不設置氧化，或者說氧化明顯更緩慢地進行。本方法的有利擴展方案設置，將透明襯底的中間層涂覆到第一結構載體層上，其中，將第二結構載體層涂覆到該中間層上，其中，至少部分地移除第二結構載體層以及中間層，其中，在第一結構載體層中構造納米結構。之后，暴露地氧化存在的第一結構載體層。以這種方式，第二結構載體層和中間層承擔所述結構的保護并且能夠在透明襯底的另一側上實現(xiàn)結構化，或者說在透明襯底內部實現(xiàn)不透光的區(qū)域。本方法的有利擴展方案設置，多晶硅被用于結構載體層。由此使用半導體技術的低成本且可靠的、能夠以光刻技術良好地限定地結構化納米結構的材料。本方法的另一實施方式設置，使用SiO2作為透明的襯底材料。以這種方式提供低成本的透光的襯底-基底材料，在該襯底-基底材料中構造納米結構，并且以這種方式引起防反射效應。附圖說明下面，根據(jù)多個附圖借助其它特征和優(yōu)點詳細描述本專利技術。在此，所有特征獨立于其在說明書中和附圖中的描述地或者說獨立于其在權利要求中的引用形成本專利技術的主題。附圖不是以必要的方式比例正確地實施，而是尤其用于闡明根據(jù)本專利技術的原理。在附圖中示出：圖1用于在光學表面上產生破壞性干涉的常見的層布置；圖2用于制造納米結構的方法的第一實施方式的原理作用方式；圖3用于制造納米結構的方法的擴展方案的原理作用方式；圖4用于制造納米結構的方法的擴展方案的原理作用方式；圖5根據(jù)本專利技術的方法的實施方式的原理流程。具體實施方式圖1示出在透明襯底10(例如玻璃)上通過破壞性干涉產生的常見防反射層的原理的作用方式。具有波長λ的入射射線E在具有厚度d的調質層VS的表面上部分地反射到反射射線R1中。ni，ng和ns稱為空氣折射率、調質層VS折射率和襯底折射率。射線E的不反射部分穿過調質層VS并且部分地在調質層VS與襯底10之間的界面上反射到射線R2中。兩個反射的分射線R1和R2在具有相同幅值時可以在相位差π的情況下被完全破壞性干涉。對于寬的波長范圍和角度范圍來說，通過使用多個具有不同折射率的層也可以減少反射。圖2原理性示出根據(jù)本專利技術的用于在透明襯底10中或上的納米結構的制造工藝的作用方式。優(yōu)選可以使用石英玻璃晶片(英文：fusedsillca)作為透明襯底10。在LPCVD工藝(英文：lowpressurechemicalvapourdeposition)中，第一結構載體層20以多晶硅形式通過外延沉積同時沉積在石英玻璃晶片的兩個晶片側上。在工藝技術上可非常好地監(jiān)控沉積的第一結構載體層的厚度，由此可以構造限定地設計尺寸的第一結構載體層20。在多晶硅沉積以后，石英玻璃晶片不再透光，因此可以在半導體微芯片工廠的常見設備上繼續(xù)進行工藝處理。在涂漆以后通過曝光設備(未示出)進行曝光，該曝光設備的光源能夠在多晶硅中成像亞微米結構或者納米結構21。在光漆顯影以后優(yōu)選通過多晶硅的反應離子蝕刻(英文：trenchen)進行結構化。蝕刻工藝有利地允許，通過選擇有目的的參數(shù)在寬的范圍中自由成形納米結構21的蝕刻側面，其中，能夠構造納米結構21的金字塔形元件或者子結構的正或負的蝕刻側面角。結果，由此得到例如具有可非常準確地設計尺寸和可再現(xiàn)的側面角的納米結構21的金字塔形元件，這些側面角已經通過上蝕刻或下蝕刻實現(xiàn)。通過多晶硅的限定厚度能夠定義納米結構21的高度。納米結構21元件的尺寸位于小于光的波長的數(shù)量級范圍，為了該光而設置這些結構。通過布局限定了納米結構21的側面結構形狀，并且通過控制工藝限定了納米結構的垂直結構形狀。在需要時也可以如上所述地結構化石英玻璃晶片10的第二襯底側(未示出)。在結構化并移除光刻漆以后，在恒溫工藝中，多晶硅在氧化環(huán)境下氧化成透光的SiO2。結果，以這種方式在透明玻璃材料中存在納米結構11，該納米結構可以非常好地設計尺寸，并且如下所述，該納米結構還可以經受可選擇的其它加工步驟。圖3原理性示出，可以將多晶硅形式的第一結構載體層20涂覆到具有納米結構11的透光的襯底10上。在圖3b中示出的另一加工步驟中，在納米結構11區(qū)域中局部蝕刻掉該多晶硅(例如借助于保護掩膜)，由此，可以通過在納米結構11區(qū)域中移除多晶硅來實現(xiàn)局部蝕刻。結果，如圖3c所示，以這種方式構造了“沉降”到第一多晶硅層20的最高水平下面的納米結構11，這允許，旋轉整個晶片，之后在第二側上進行工藝處理，而不會損傷敏感的納米結構11。這對于繼續(xù)加工具本文檔來自技高網...

【技術保護點】
用于在透明襯底(10)中制造納米結構(11)的方法，具有如下步驟：a)以限定的厚度將第一結構載體層(20)涂覆到所述襯底(100)的至少一表面上；b)在所述第一結構載體層(20)中構造納米結構(21)；和c)氧化所述第一結構載體層(20)。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】2014.06.18 DE 102014211753.41.用于在透明襯底(10)中制造納米結構(11)的方法，具有如下步驟：a)以限定的厚度將第一結構載體層(20)涂覆到所述襯底(100)的至少一表面上；b)在所述第一結構載體層(20)中構造納米結構(21)；和c)氧化所述第一結構載體層(20)。2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其中，所述納米結構(21)的元件構造成金字塔形。3.根據(jù)權利要求2所述的方法，其中，在所述納米結構(21)的金字塔形元件中構造限定的側面角。4.根據(jù)權利要求1至3中任一項所述的方法，其中，在所述第一結構載體層(20)中在所述透明襯底(10)的兩個表面上構造所述納米結構(21)。5.根據(jù)上述權利要求中任一項所述的方法，其中，將保護層至少部分地涂覆到所述第一結構載體層(20)的納米結構(21)上。6.根據(jù)權利要求5所述的方法，其中，所述保護層不涂覆在所述納米結構(21)的區(qū)域中。...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：S·平特，
申請(專利權)人：羅伯特·博世有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：德國;DE