一種隱形眼鏡及其制作方法技術

本發明專利技術提供了一種隱形眼鏡及其制作方法，所述隱形眼鏡包括：用于與人眼接觸的基底鏡片，所述基底鏡片包括用于與人眼接觸的第一表面和與所述第一表面相背的第二表面；以及，形成于所述基底鏡片的第二表面上的偏光層，所述偏光層能夠透過預設偏振方向的光。本發明專利技術所提供的隱形眼鏡，通過在基底鏡片上設置偏光層，使得預設偏振方向的光才能透過鏡片，可阻隔因散射、屈折、反射等各種因素所造成之刺眼的眩光，也能將對人眼有害的紫外光線阻隔，人在強光下長期活動時，眼睛不易疲倦，達到真正保護的功能，而且能讓看見的東西更清晰、立體，避免了框架式太陽鏡所存在的佩戴不適應以及活動性不便的問題。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及眼鏡
，尤其涉及一種隱形眼鏡及其制作方法。
技術介紹
人們在開車或戶外活動時，特別是夏天，需要佩戴太陽鏡來遮擋陽光和路面眩光，以減輕眼睛瞳孔調節造成的疲勞或強光刺激造成的傷害。但是部分人群并不習慣佩戴太陽鏡，尤其是對于近視患者來說，鏡片較厚，不舒適，另外還存在活動性不便等問題。
技術實現思路
本專利技術的目的在于提供一種隱形眼鏡及其制作方法，能夠將對人眼有害的紫外光線及眩光阻隔，使人在強光下長期活動時，眼睛不易疲倦，達到真正保護的功能，且避免了框架式太陽鏡所存在的佩戴不適應以及活動性不便的問題。本專利技術所提供的技術方案如下：一種隱形眼鏡，包括：用于與人眼接觸的基底鏡片，所述基底鏡片包括用于與人眼接觸的第一表面和與所述第一表面相背的第二表面；以及，形成于所述第二表面上的偏光層，所述偏光層能夠透過預設偏振方向的光。進一步的，所述偏光層包括：形成于所述第二表面上的納米線柵陣列結構，所述納米線柵陣列結構包括間隔排列的多個線柵，各線柵的延伸方向一致。進一步的，所述納米線柵陣列結構的周期為100～150nm。進一步的，所述線柵的寬度為40～90nm；所述線柵的高度為100～150nm。進一步的，所述線柵為金屬線。進一步的，在所述偏光層的遠離所述基底鏡片的一側還形成有保護層。一種如上所述的隱形眼鏡的制作方法，包括：提供一基底鏡片，所述基底鏡片包括用于與人眼接觸的第一表面和與所述第一表面相背的第二表面；在所述第二表面上形成偏光層，所述偏光層能夠透過預設偏振方向的光。進一步的，在所述方法中，在所述第二表面上形成偏光層包括：在所述第二表面上形成納米線柵陣列結構，所述納米線柵陣列結構包括間隔排列的多個線柵，各線柵的延伸方向一致。進一步的，在所述方法中，采用納米壓印方式在所述第二表面上形成所述納米線柵陣列結構；或者，采用光刻方式在所述第二表面上形成所述納米線柵陣列結構。進一步的，所述方法還包括：在所述偏光層的遠離所述基底鏡片的一側形成保護層。本專利技術所帶來的有益效果如下：本專利技術所提供的隱形眼鏡，通過在基底鏡片上設置偏光層，使得預設偏振方向的光才能透過鏡片，可阻隔因散射、屈折、反射等各種因素所造成之刺眼的眩光，也能將對人眼有害的紫外光線阻隔，人在強光下長期活動時，眼睛不易疲倦，達到真正保護的功能，而且能讓看見的東西更清晰、立體，避免了框架式太陽鏡所存在的佩戴不適應以及活動性不便的問題。附圖說明圖1表示本專利技術所提供的隱形眼鏡的整體結構示意圖；圖2表示本專利技術所提供的隱形眼鏡的正視圖；圖3表示本專利技術所提供的隱形眼鏡的斷面圖。具體實施方式為使本專利技術實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本專利技術實施例的附圖，對本專利技術實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本專利技術的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本專利技術的實施例，本領域普通技術人員所獲得的所有其他實施例，都屬于本專利技術保護的范圍。針對現有技術中部分人群不適應佩戴太陽鏡或佩戴太陽鏡存在活動性不便等問題，本專利技術提供了一種隱形眼鏡，能夠將對人眼有害的紫外光線及眩光阻隔，使人在強光下長期活動時，眼睛不易疲倦，達到真正保護的功能，且避免了框架式太陽鏡所存在的佩戴不適應以及活動性不便的問題。如圖1至圖3所示，本專利技術所提供的隱形眼鏡10包括：用于與人眼接觸的基底鏡片100，所述基底鏡片100包括用于與人眼接觸的第一表面和與所述第一表面相背的第二表面；以及，形成于所述基底鏡片100的第二表面上的偏光層200，所述偏光層200能夠透過預設偏振方向的光。本專利技術所提供的隱形眼鏡，所述基底鏡片100，用于與人眼接觸，由常規的隱形眼鏡材料制成，如：透明玻璃或合成樹脂制成，其可以是平鏡或近視鏡片；所述偏光層200貼附在所述基底鏡片100的第二表面上，不直接接觸人的眼球。本專利技術所提供的隱形眼鏡，通過在基底鏡片100上設置偏光層200，使得只有預設偏振方向的光才能透過鏡片，可阻隔因散射、屈折、反射等各種因素所造成之刺眼的眩光，也能將對人眼有害的紫外光線阻隔，人在強光下長期活動時，眼睛不易疲倦，達到真正保護的功能，而且能讓看見的東西更清晰、立體，避免了框架式太陽鏡所存在的佩戴不適應以及活動性不便的問題。以下說明本專利技術所提供的隱形眼鏡的一種優選實施例。在本實施例中，如圖2和圖3所示，所述偏光層200包括：形成于所述基底鏡片100的第二表面上的納米線柵陣列結構，所述納米線柵陣列結構包括間隔排列的多個線柵201，各線柵201的延伸方向一致。上述方案，通過在基底鏡片100上設計規則排列的納米線柵陣列結構，使得該納米線柵陣列結構的各線柵201固定在一個角度。當光入射到納米線柵陣列結構時，所述納米線柵陣列結構對光具有很好的選擇性，使得電場方向平行于線柵201的延伸方向的光會被反射回去，電場方向垂直于線柵201的延伸方向的偏振光則會透射過去，也就是說，所述納米線柵陣列結構具有良好的偏振特性，使得只有偏振方向與線柵201的延伸方向垂直的垂直偏振光才能透過基底鏡片100，而偏振方向與線柵201的延伸方向平行的平行偏振光則被阻擋。采用上述方案，本專利技術實施例所提供的隱形眼鏡可完全阻隔因散射、屈折、反射等各種因素所造成之刺眼的眩光，也能將對人眼有害的紫外光線完全阻隔，而且所述偏光層200采用納米線柵陣列結構，厚度極薄，不會增加人眼的佩戴不適感，人在強光下長期活動時，眼睛不易疲倦，達到真正保護的功能，而且能讓看見的東西更清晰、立體。需要說明的是，在上述方案中，所述偏光層200是采用的納米線柵201結構，在實際應用中，所述偏光層200還可以是采用其他結構來形成的，例如：偏光濾鏡等，對此不進行局限。此外，為了在太陽光的寬波段范圍內獲得好的偏振效果，線柵201的周期需使用波長的幾分之一甚至更小，優選的，所述納米線柵陣列結構的周期為150nm以下，其中周期在100～150nm最佳，還可以通過調節納米線柵陣列結構的深寬比可以獲得偏振性能優秀的隱形太陽鏡，優選的，所述線柵201的寬度為40～90nm，所述線柵201的高度為100～150nm。采用上述方案，所述隱形眼鏡的納米線柵陣列結構可以起到最好的偏振性能。當然可以理解的是，在實際應用中，例如：需要僅過濾掉某一特定波段的光時，所述納米線柵陣列結構的周期以及深寬比等參數還可以根據實際需求來進行合理的調整，在此并不對此進行局限。此外，在本專利技術所提供的優選實施例中，所述線柵201為金屬線。此外，在本專利技術所提供的優選實施例中，在所述偏光層200的遠離所述基底鏡片100的一側還形成有保護層。采用上述方案，通過設置所述保護層，可以一方面來對所述納米線柵陣列結構進行保護，另一方面可以選擇人眼接觸更為舒適的材料來制作保護層，以增加舒適感。此外，本專利技術的實施例中還提供了一種制作本專利技術實施例中所提供的隱形眼鏡的制作方法，所述方法包括：提供一基底鏡片100，所述基底鏡片100包括用于與人眼接觸的第一表面和與所述第一表面相背的第二表面；在所述基底鏡片100的第二表面上形成偏光層200，所述偏光層200能夠透過預設偏振方向的光。進一步的，在所述方法中，在所述基底鏡片100的第二表面上形成偏光層200包括：在所述基底鏡片100的第二表面上形成納米線柵陣列結構，所述納米線柵陣列結本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種隱形眼鏡，其特征在于，包括：用于與人眼接觸的基底鏡片，所述基底鏡片包括用于與人眼接觸的第一表面和與所述第一表面相背的第二表面；以及，形成于所述第二表面上的偏光層，所述偏光層能夠透過預設偏振方向的光。

【技術特征摘要】
1.一種隱形眼鏡，其特征在于，包括：用于與人眼接觸的基底鏡片，所述基底鏡片包括用于與人眼接觸的第一表面和與所述第一表面相背的第二表面；以及，形成于所述第二表面上的偏光層，所述偏光層能夠透過預設偏振方向的光。2.根據權利要求1所述的隱形眼鏡，其特征在于，所述偏光層包括：形成于所述第二表面上的納米線柵陣列結構，所述納米線柵陣列結構包括間隔排列的多個線柵，各所述線柵的延伸方向一致。3.根據權利要求2所述的隱形眼鏡，其特征在于，所述納米線柵陣列結構的周期為100～150nm。4.根據權利要求3所述的隱形眼鏡，其特征在于，所述線柵的寬度為40～90nm；所述線柵的高度為100～150nm。5.根據權利要求2所述的隱形眼鏡，其特征在于，所述線柵為金屬線。6.根據權利要求1所述的隱形眼鏡，其特征在于，在所述偏光層的遠離所述基底鏡...

【專利技術屬性】
技術研發人員：呂振華，邱云，王延峰，徐曉玲，杜淵鑫，王志東，尤楊，馬力，牛亞男，王丹，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，北京京東方顯示技術有限公司，
類型：發明
國別省市：北京;11