一種半連續雙室高溫真空爐制造技術
【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種真空設備，具體涉及低生產成本、高效率、無污染、操作性好的實現光棒新工藝燒結的半連續雙室高溫真空爐。
技術介紹
隨著對光纖通信的推廣和普及，以及我國寬帶中國戰略的實施，對光纖材料的需求急劇增加，國際上對此市場的競爭又要求光纖企業提高生產效率、降低生產成本，而本專利技術就是實現以上要求的一種真空設備。
技術實現思路
針對現在光纖企業生產效率低、生產成本高的問題，本專利技術提供一種半連續雙室高溫真空爐。本專利技術的半連續雙室高溫真空爐，要點在于結構特征包括一是配有抽氣裝置，設備具備完善的密封結構；二是立式雙室結構，上部是準備室工件由此進出，下部是加熱室工件在此加熱燒結，中間插板閥可以完全將上下兩室斷開；三是第三層是傳動裝置；四是工件置于真空腔體內的高純石墨筒內。半連續雙室高溫真空爐的使用工藝是首先打開進出料門，將工件送入準備室殼體內，掛到水冷吊桿，完成此過程時需通過操作調整門調整位置；兩門進出料門和操作調整門關閉，啟動真空系統開始排氣，監測真空計達到設定真空度，插板閥打開，升降電機將工件送入加熱室爐體的石墨管內，然后在加熱電源、測溫儀和控制系統的共同作用下，實現PID控溫加熱燒結，加熱時旋轉電機啟動，工件旋轉加熱，確保工件在圓周方向均勻受熱，徑向方向的多區獨立加熱、獨立控溫，保證徑向方向加熱的均勻性；加熱結束后，升降電機將工件升到準備室殼體內，插板閥關閉，工件冷卻至出爐條件，打開進出料門，取出工件，完成一個工件的燒結；在連續生產中，加熱室爐體始終處于真空下、熱態中，這樣既節省電能消耗，又提高設備的使用壽命，整個過程全自動完成。本專利技術的有益效果...
【技術保護點】
一種半連續雙室高溫真空爐，其特征在于結構特征包括一是配有抽氣裝置，設備具備完善的密封結構；二是立式雙室結構，上部是準備室工件由此進出，下部是加熱室工件在此加熱燒結，中間插板閥可以完全將上下兩室斷開；三是第三層是傳動裝置；四是工件置于真空腔體內的高純石墨筒內。
【技術特征摘要】
1.一種半連續雙室高溫真空爐，其特征在于結構特征包括一是配有抽氣裝置，設備具備完善的密封結構；二是立式雙室結構，上部是準備室工件由此進出，下部是加熱室工件在此加熱燒結，中間插板閥可以完全將上下兩室斷開；三是第三層是傳動裝置；四是工件置于真空腔體內的高純石墨筒內。2.一種半連續雙室高溫真空爐，其特征在于使用工藝是首先打開進出料門，將工件送入準備室殼體內，掛到水冷吊桿，完成此過程時需通過操作調整門調整位置；兩門進出料門和操作調整門關閉，啟動真空系統開始排氣，監測真空計達到設定真...
【專利技術屬性】
技術研發人員：王兵，楊碩，尚智，
申請(專利權)人：沈陽廣泰真空科技有限公司，
類型：發明
國別省市：遼寧;21
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