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本發明涉及一種真空設備，具體涉及低生產成本、高效率、無污染、操作性好的實現光棒新工藝燒結的半連續雙室高溫真空爐，結構特征包括一是配有抽氣裝置，設備具備完善的密封結構；二是立式雙室結構，上部是準備室工件由此進出，下部是加熱室工件在此加熱燒結，...
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