一種金屬壓印版的制備方法及其在壓印金屬件中的應(yīng)用技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種金屬壓印版的制備方法，該方法包括選取印版基材，并向印版基材轉(zhuǎn)移圖文，得到包含圖文的印版基材；并在得到的包含圖文的印版基材雕刻圖文。本發(fā)明專利技術(shù)還提供了一種金屬壓印版在壓印金屬件中的應(yīng)用。使用本發(fā)明專利技術(shù)提供的金屬壓印版制備方法能夠得到精密度更高的金屬壓印版，用于壓印對(duì)精度要求較高的金屬材料，特別是貴金屬材料。本發(fā)明專利技術(shù)中的金屬壓印版厚度只有幾個(gè)毫米，甚至1?2mm，因此，重量更輕，節(jié)約材料，且移動(dòng)方便。

Method for preparing metal embossing plate and its application in metal stamping

The present invention provides a method for preparing a metal stamping version of the method, including the selection of base plate, and the printing substrate transfer include graphic, graphic printing substrate; and in the text contains graphic engraving plate substrate. The invention also provides the application of a metal embossing plate in the imprinting metal parts. The method for preparing the metal embossing plate provided by the invention can obtain a metal plate with high precision, which is used for imprinting the metal materials with high precision requirements, in particular the precious metal materials. The thickness of metal stamping version of the invention is only a few millimeters, or even 1 2mm, therefore, lighter weight, material saving, and convenient to move.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)屬于金屬材料壓印領(lǐng)域，涉及一種高精密度印版的制備方法及其在壓印金屬件中的應(yīng)用。
技術(shù)介紹
由于金屬材料不像紙張、絲綢等容易折疊，因此，一般金屬材料的壓印采用平印版，傳統(tǒng)平印版基版的制造工藝為：脫脂去油、砂目化處理、印版制作等。現(xiàn)有技術(shù)制備平印版主要存在如下缺陷：1)平印版的材料一般為模具鋼，模具鋼體積大、重量重，不易移動(dòng)，且平印版表面易生銹，不利于保存。2)印版制作過程中采用的主要為機(jī)械加工，因此，加工過程受雕刻工具的影響較大，如雕刻機(jī)50μm的刀具，則無法加工50μm以下的線條。而且越復(fù)雜的圖文，機(jī)械加工的周期越長(zhǎng)、越不利于規(guī)模化生產(chǎn)，有時(shí)雕刻過程的時(shí)長(zhǎng)達(dá)到數(shù)小時(shí)甚至數(shù)十小時(shí)。目前市面上還未見到更精細(xì)的印版制作方法，也未檢索到用于金屬材料壓印的印版制作方法，印版的制作已經(jīng)成為限制金屬材料壓印精細(xì)程度的一個(gè)重要因素。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷，提供一種制備高精密度的金屬壓印版的制備方法及其在壓印金屬件中的應(yīng)用。本專利技術(shù)提供的金屬壓印版的制備方法包括如下步驟：步驟1、選取印版基材，并向印版基材轉(zhuǎn)移圖文，得到包含圖文的印版基材；步驟2、雕刻步驟1中得到的包含圖文的印版基材，得到金屬壓印版。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述印版基材為鋼板、銅板中的任意一種或幾種組合，優(yōu)選地，所述鋼板為A3鐵板、201不銹鋼、304不銹鋼、316不銹鋼中的任意一種或幾種組合，在一個(gè)更優(yōu)選實(shí)施例中，所述印版基材的厚度為0.5-5mm，優(yōu)選為0.8-3mm，如1mm、2mm等。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，步驟1中，向印版基材轉(zhuǎn)移圖文前還包括對(duì)印版基材的前處理工序，在一個(gè)更優(yōu)選的實(shí)施例中，所述前處理工序包括切割印版基材，對(duì)印版基材進(jìn)行脫脂、拋光處理等中的任意一種或幾種組合工序。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，步驟1中，向印版基材轉(zhuǎn)移圖文的方法包括翻曬法、雕刻法、計(jì)算機(jī)繪制法中的任意一種或幾種組合。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述翻曬法包括向經(jīng)過前處理的印版基材涂布感光膠，并干燥所述感光膠，得到涂布感光膠的印版基材；將原稿圖文繪制成圖文區(qū)域透光的底片，并將所述底片貼覆于涂布感光膠的印版基材，經(jīng)過曬版，完成向印版基材轉(zhuǎn)移圖文，得到包含圖文的印版基材。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述曬版優(yōu)選為紫外光曬版，紫外光透過所述底片的透光部分，照射到感光膠上，使感光膠硬化，完成曬版，得到包含圖文的印版基材。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述干燥的條件為：使用20℃-60℃的熱風(fēng)干燥，優(yōu)選為30℃-50℃的熱風(fēng)干燥，如35℃、45℃等。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述雕刻法包括將圖文貼覆于經(jīng)過前處理的印版基材表面，在經(jīng)過前處理的印版基材表面描刻劃痕。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述計(jì)算機(jī)繪制法包括使用計(jì)算機(jī)在經(jīng)過前處理的印版基材上繪制與所述圖文相同的圖案。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，步驟2中包含圖文的印版基材的雕刻方法包括化學(xué)腐蝕法、激光雕刻法中的任意一種或其組合。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述化學(xué)腐蝕法包括去離子水沖洗硬化后的感光膠，裸露出印版基材，使用刻蝕液腐蝕裸露的印版基材，并去除未感光的感光膠，得到部分表面凹陷的金屬壓印版。化學(xué)腐蝕的次數(shù)不作限定，可以根據(jù)圖文層次要求調(diào)整，如可以為一次、兩次、多次等。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述刻蝕液包括三氯化鐵，所述刻蝕液中所述三氯化鐵的濃度為30-50Be，優(yōu)選為35-45Be，如38Be、42Be等。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述刻蝕液還包括鹽酸、硝酸、冰醋酸、氫氟酸、雙氧水等中的一種或任意幾種組合。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述刻蝕液還可以包括還原劑，所述還原劑為碘化鉀、碘、次碘酸鉀、亞碘酸鉀中的任意一種或其組合。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，化學(xué)刻蝕的溫度為40-60℃，優(yōu)選為45-55℃，如48℃、52℃等。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述激光雕刻法包括在計(jì)算機(jī)中制作圖文，將經(jīng)過前處理的印版基材定位于激光雕刻機(jī)工作臺(tái)上，設(shè)定計(jì)算機(jī)參數(shù)，進(jìn)行激光雕刻。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，雕刻步驟1中得到的包含圖文的印版基材后，還包括對(duì)雕刻后的印版基材進(jìn)行后處理工藝，所述后處理工藝包括校對(duì)、調(diào)整雕刻后的印版基材，在雕刻后的印版基材表面鍍鉻中的任意一種或幾種組合。本專利技術(shù)的第二個(gè)方面在于提供一種金屬壓印版在壓印金屬件中的應(yīng)用。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述金屬壓印版為前述方法制備的任意一種金屬壓印版。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，壓印的所述金屬件的材質(zhì)可以為金、銀、銅、鉑、鋁等中的任意一種或幾種組合。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，使用所述金屬壓印版壓印金屬件時(shí)，壓印的所述金屬件的一側(cè)與所述金屬壓印版直接接觸，壓印的所述金屬件的另一側(cè)設(shè)有印刷膠版和/或紅鋼紙。在一個(gè)優(yōu)選實(shí)施例中，所述金屬壓印版的尺寸與壓印的所述金屬件的尺寸相同，所述印刷膠版和/或紅鋼紙的尺寸大于壓印的所述金屬件的尺寸。使用本專利技術(shù)提供的金屬壓印版制備方法能夠得到精細(xì)度更高的金屬壓印版，用于壓印對(duì)精度要求較高的金屬材料，特別是貴金屬材料。本專利技術(shù)中的金屬壓印版厚度只有幾個(gè)毫米，因此，重量更輕，節(jié)約材料，且移動(dòng)方便。附圖說明圖1為本專利技術(shù)提供的制備金屬壓印版的流程圖；圖2為本專利技術(shù)提供的金屬壓印版壓印金屬件過程的部分結(jié)構(gòu)圖。具體實(shí)施方式制備金屬壓印版實(shí)施例一如圖1所示，為本專利技術(shù)制備金屬壓印版的流程圖，首選選取合適的印版基材，并對(duì)印版基材進(jìn)行前處理，然后將繪制好的原稿圖文轉(zhuǎn)移至經(jīng)過前處理的印版基材上，然后在包含圖文的印版基材上制備印版圖文，并校正、調(diào)整制備的印版圖文，對(duì)印版圖文表面鍍鉻后完成印版制作，得到金屬壓印版。選取材質(zhì)為不銹鋼的平板印版基材，印版基材的厚度為1mm，除厚度方向不變，切割其他方向的尺寸至與待壓印金屬件的尺寸相同。并對(duì)印版基材表面進(jìn)行脫酯、拋光處理，得到經(jīng)過前處理的印版基材。在經(jīng)過前處理的印版基材表面均勻涂布一層感光膠；將原稿圖文繪制成圖文區(qū)域透光的底片；將該底片準(zhǔn)確地貼覆于涂有感光膠的經(jīng)過前處理的印版基材表面；然后在紫外光條件下曬版，紫外光光線通過底片的透光部分，紫外光的強(qiáng)度、曬版時(shí)間不作限定，目的在于使紫外光透過底片，使印版基材表面需要雕刻位置的感光膠硬化，完成曬版。曬版完成后，使用去離子水沖洗掉硬化的感光膠，裸露出需要雕刻的印版基材。使用濃度為40Be的三氯化鐵蝕刻液對(duì)裸露的印版基材表面進(jìn)行化學(xué)腐蝕雕刻，根據(jù)待壓印的金屬件的圖文層次要求，可選擇一次或多次化學(xué)腐蝕雕刻，并對(duì)雕刻后的印版圖文進(jìn)行校對(duì)、調(diào)整，除未感光的感光膠，在得到的雕刻后的印版圖文表面進(jìn)行鍍鉻處理，得到圖文凹陷的金屬壓印版。實(shí)施例二如圖1所示，為本專利技術(shù)制備金屬壓印版的流程圖，首選選取合適的印版基材，并對(duì)印版基材進(jìn)行前處理，然后將繪制好的原稿圖文轉(zhuǎn)移至經(jīng)過前處理的印版基材上，然后在包含圖文的印版基材上制備印版圖文，并校正、調(diào)整制備的印版圖文，對(duì)印版圖文表面鍍鉻后完成印版制作，得到金屬壓印版。選取材質(zhì)為銅的平板印版基材，印版基材的厚度為2mm，除厚度方向不變，切割其他方向的尺寸至與待壓印金屬件的尺寸相同。并對(duì)印版基材表面進(jìn)行脫酯、拋光處理，得到經(jīng)過前處理的印版基材。在計(jì)算機(jī)中繪制與原稿圖文相同的軟件圖文，將經(jīng)過前處理的印版基材準(zhǔn)確定位于激光雕刻機(jī)的工作平臺(tái)上。根據(jù)待壓印金屬件的類型設(shè)置激光雕刻機(jī)的參數(shù)。激光雕刻機(jī)的功率為10-50KW，優(yōu)選為18-35KW，雕刻角度為-45°-135°，如-本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種金屬壓印版的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：步驟1、選取印版基材，并向印版基材轉(zhuǎn)移圖文，得到包含圖文的印版基材；步驟2、雕刻步驟1中得到的包含圖文的印版基材，得到金屬壓印版。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種金屬壓印版的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：步驟1、選取印版基材，并向印版基材轉(zhuǎn)移圖文，得到包含圖文的印版基材；步驟2、雕刻步驟1中得到的包含圖文的印版基材，得到金屬壓印版。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述印版基材為鋼板、銅板中的任意一種或幾種組合，所述鋼板為A3鐵板、201不銹鋼、304不銹鋼、316不銹鋼中的任意一種或幾種組合，所述印版基材的厚度為0.5-5mm。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟1中，向印版基材轉(zhuǎn)移圖文前還包括對(duì)印版基材的前處理工序，所述前處理工序包括切割印版基材，對(duì)印版基材進(jìn)行脫脂、拋光處理等中的任意一種或幾種組合工序。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟1中，向印版基材轉(zhuǎn)移圖文的方法包括翻曬法、雕刻法、計(jì)算機(jī)繪制法中的任意一種或幾種組合。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述翻曬法包括向經(jīng)過前處理的印版基材涂布感光膠，并干燥所述感光膠，得到涂布感光膠的印版基材；將原稿圖文繪制成圖文區(qū)域透光的底片，并將所述底片貼覆于涂布感光膠的印版基材，經(jīng)過曬版，完成向印版基...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：吳淵明，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：上海淵泉集幣收藏品有限公司，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：上海;31