一種溶劑回收系統和方法以及涂布機和涂布光阻的方法技術方案

本發明專利技術涉及光阻液回收領域，具體公開了一種溶劑回收系統和方法以及涂布機和涂布光阻的方法。所述溶劑回收系統包括蒸餾罐、液化冷卻罐和過濾器，將待回收的含有光阻和溶劑的混合廢液在所述蒸餾罐中進行蒸餾以使得所述溶劑氣化以與光阻分離，氣化之后的溶劑依次經所述液化冷卻罐進行冷卻并經所述過濾器進行過濾除雜。采用本發明專利技術提供的溶劑回收系統和方法能夠對含有光阻的混合廢液中的溶劑進行有效回收，從而能夠節約溶劑供給成本，節能環保，極具工業應用前景。

Solvent recovery system and method, coating machine and method for coating photoresist

The invention relates to the field of photoresist recovery, in particular to a solvent recovery system and method, a coating machine and a method for coating photoresist. The solvent recovery system including distillation tank, liquefied cooling tank and the filter will be recycled containing photoresist and solvent mixed liquid in the distillation tank is distilled to allow the solvent to separate the gasification and light resistance, after the gasification of the liquid solvent in the cooling tank for cooling and by the a filter to filter the impurity. The solvent recovery system and method provided by the invention can effectively recover the mixed wastewater containing photoresist in the solvent, which can save cost, solvent supply of energy saving and environmental protection, great prospect in industrial application.

【技術實現步驟摘要】
一種溶劑回收系統和方法以及涂布機和涂布光阻的方法
本專利技術涉及光阻液回收領域，具體涉及一種溶劑回收系統、包括該溶劑回收系統的涂布機、一種溶劑回收的方法以及一種涂布光阻的方法。
技術介紹
在半導體或液晶面板等的制造過程中，需要在基板上涂布光阻液(由光阻通過溶劑稀釋得到)以曝光顯影。在此過程中，為了使得光阻液可以均勻地涂布在基板上，通常會先在基板上涂布大量的光阻液，以使涂布后光阻液能夠均勻披覆于整個基板上，然而此種涂布方式中光阻液的利用率一般約為10％，而其余高達90％的光阻液都在涂布過程中直接被排入廢液槽內，所以使用大量的光阻液來涂布基板將造成浪費，同時也會衍生出生產成本高的問題。此外，伴隨著近年來液晶面板的大型化，所使用的基板也朝著大型化方向發展，這樣也會增大光阻液的用量。因此，就經濟方面、環境方面考慮，均期望對涂布之后的含有光阻的混合廢液進行回收再利用。對此，有部分業者在涂布的過程中，將濺出的光阻液利用回收桶收集回收，以便將該回收桶中的光阻液送回原供應廠進行再生處理，以再次重復使用。這種方式雖然可減少部分光阻液的浪費，但送回原供應廠的運輸、處理上均會增加生產成本，再者該光阻液可能因置放時間過久或溫度變化因素而造成變質，從而導致無法再生使用。鑒于此，另有業者又研發出了一些裝置回收含有光阻的混合廢液，以減少成本的支出。例如，CN201417363Y公開了一種光阻液的循環回收裝置，其利用復數個混合桶的設計而獲得較為充分的緩沖空間，這樣不僅可針對預備桶上回收的光阻液進行有效的回收，更可儲備較多處理后的光阻液以供后續利用；再者，在處理過程中利用抽真空裝置以及恒溫裝置的設計，能夠避免在攪拌過程中產生氣泡及溫度提高而影響產品品質，從而使回收處理過后的光阻液品質更加穩定且使用壽命更長。再如，CN205210514U公開了一種回收涂布機管道內光刻膠的裝置，包括光刻膠容器、光刻膠管道、光刻膠抽取裝置、涂布刮刀、涂布機管道以及光刻膠回收容器，所述光刻膠回收容器通過光刻膠回收管道與光刻膠抽取裝置相連，所述光刻膠管道上設置有過濾器和流量計，所述光刻膠抽取裝置開設有三個端口，第一端口與光刻膠管道連接，第二端口與涂布機管道連接，第三端口與光刻膠回收管道連接。研究表明，該裝置能夠對光阻液進行有效的回收。
技術實現思路
本專利技術的目的是為了提供一種新的溶劑回收系統、包括該溶劑回收系統的涂布機、一種溶劑回收的方法以及一種涂布光阻的方法。具體地，本專利技術提供了一種溶劑回收系統，其中，所述溶劑回收系統包括蒸餾罐、液化冷卻罐和過濾器，將待回收的含有光阻和溶劑的混合廢液在所述蒸餾罐中進行蒸餾以使得所述溶劑氣化以與光阻分離，氣化之后的溶劑依次經所述液化冷卻罐進行冷卻并經所述過濾器進行過濾除雜。優選地，所述蒸餾罐包括：蒸餾罐罐體，用于盛放待回收的混合廢液；以及低壓泵，用于在蒸餾過程中降低所述蒸餾罐罐體內的壓力；和/或，加熱器，用于在蒸餾過程中對所述混合廢液進行加熱。優選地，所述液化冷卻罐包括：液化冷卻罐罐體，用于盛放源自所述蒸餾罐的溶劑；以及制冷管路，用于盛放冷卻液以使得從所述蒸餾罐氣化之后的溶劑經熱交換冷卻液化。優選地，所述過濾器的濾網直徑使得將經所述液化冷卻罐冷卻之后的溶劑中的固體雜質去除。優選地，所述溶劑回收系統還包括溶劑回收罐，用于儲存回收后的溶劑。本專利技術還提供了一種涂布機，其中，所述涂布機包括涂布單元以及上述溶劑回收系統，源自所述涂布單元的混合廢液引入所述溶劑回收系統中進行溶劑回收。本專利技術還提供了一種溶劑回收的方法，其中，該方法包括將待回收的含有光阻和溶劑的混合廢液進行蒸餾以使得所述溶劑氣化以與光阻分離，氣化之后的溶劑依次進行冷卻液化以及過濾除雜。優選地，所述混合廢液中光阻的含量為5-60重量％；優選地，所述光阻為BM感材、OC材料、PS材料和著色材料中的至少一種。優選地，所述蒸餾的條件包括溫度為80℃以上，壓力為10-3000Pa；優選地，所述蒸餾的條件包括溫度為150-200℃，壓力為10-1000Pa。優選地，所述冷卻的條件包括冷卻源的溫度為25℃以下，優選為18℃以下。優選地，所述過濾在過濾器中進行，且所述過濾器的濾網直徑為0.3-0.8μm。此外，本專利技術還提供了一種涂布光阻的方法，該方法包括將光阻液涂布在基板上，其中，該方法還包括將在涂布過程中產生的含有光阻和溶劑的混合廢液采用上述方法進行溶劑的回收。采用本專利技術提供的方法能夠對含有光阻的混合廢液中的溶劑進行有效回收，從而能夠節約溶劑供給成本，節能環保，極具工業應用前景。本專利技術的其它特征和優點將在隨后的具體實施方式部分予以詳細說明。附圖說明附圖是用來提供對本專利技術的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與下面的具體實施方式一起用于解釋本專利技術，但并不構成對本專利技術的限制。在附圖中：圖1為本專利技術提供的溶劑回收系統的一種具體實施方式。附圖標記說明1-蒸餾罐；2-液化冷卻罐；3-過濾器；4-溶劑回收罐。具體實施方式以下對本專利技術的具體實施方式進行詳細說明。應當理解的是，此處所描述的具體實施方式僅用于說明和解釋本專利技術，并不用于限制本專利技術。在本文中所披露的范圍的端點和任何值都不限于該精確的范圍或值，這些范圍或值應當理解為包含接近這些范圍或值的值。對于數值范圍來說，各個范圍的端點值之間、各個范圍的端點值和單獨的點值之間，以及單獨的點值之間可以彼此組合而得到一個或多個新的數值范圍，這些數值范圍應被視為在本文中具體公開。本專利技術提供的溶劑回收系統包括蒸餾罐、液化冷卻罐和過濾器，將待回收的含有光阻和溶劑的混合廢液在所述蒸餾罐中進行蒸餾以使得所述溶劑氣化以與光阻分離，氣化之后的溶劑依次經所述液化冷卻罐進行冷卻并經所述過濾器進行過濾除雜。本專利技術對所述蒸餾罐的具體結構沒有特別的限定，只要能夠將所述混合廢液中的溶劑蒸發而光阻不蒸發從而將溶劑與光阻分離即可。由于光阻與溶劑屬于兩種物質，沸點不同，溶劑的沸點較低，而光阻的沸點較高，通過將溶劑蒸發即可實現兩者的分離，而在低壓和/或加熱條件下能夠使得溶劑蒸發得更快，從而更有利于溶劑的回收。相應地，根據本專利技術的一種優選實施方式，所述蒸餾罐包括：蒸餾罐罐體，用于盛放待回收的混合廢液；以及低壓泵，用于在蒸餾過程中降低所述蒸餾罐罐體內的壓力；和/或，加熱器，用于在蒸餾過程中對所述混合廢液進行加熱。其中，所述蒸餾罐罐體內的壓力優選為10-3000Pa，更優選為10-1000Pa；溫度優選為80℃以上，優選為150-200℃。在本專利技術中，所述壓力均指表壓。本專利技術對所述液化冷卻罐的具體結構沒有特別的限定，只要能夠使得來自蒸餾罐的經氣化之后的溶劑冷卻液化即可。根據本專利技術的一種具體實施方式，所述液化冷卻罐包括：液化冷卻罐罐體，用于盛放源自所述蒸餾罐的溶劑；以及制冷管路，用于盛放冷卻液以使得從所述蒸餾罐氣化之后的溶劑經熱交換冷卻液化。其中，所述制冷管路通常需要通入溫度較低的冷卻液，該冷卻液例如可以為水、冷卻油、冷卻氣體等中的至少一種，其溫度通常可以為25℃以下，優選為18℃以下。根據本專利技術，待回收的混合廢液中除了含有光阻和溶劑之外，通常還含有固體添加劑。這些添加劑在溶劑的蒸餾過程中有可能會隨著溶劑一起蒸出，而經冷卻液化之后則再次凝結為固態。因此，為了將這部分雜質去除，需要將冷卻之后的溶劑采用本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種溶劑回收系統，其特征在于，所述溶劑回收系統包括蒸餾罐、液化冷卻罐和過濾器，將待回收的含有光阻和溶劑的混合廢液在所述蒸餾罐中進行蒸餾以使得所述溶劑氣化以與光阻分離，氣化之后的溶劑依次經所述液化冷卻罐進行冷卻并經所述過濾器進行過濾除雜。

【技術特征摘要】
1.一種溶劑回收系統，其特征在于，所述溶劑回收系統包括蒸餾罐、液化冷卻罐和過濾器，將待回收的含有光阻和溶劑的混合廢液在所述蒸餾罐中進行蒸餾以使得所述溶劑氣化以與光阻分離，氣化之后的溶劑依次經所述液化冷卻罐進行冷卻并經所述過濾器進行過濾除雜。2.根據權利要求1所述的溶劑回收系統，其中，所述蒸餾罐包括：蒸餾罐罐體，用于盛放待回收的混合廢液；以及低壓泵，用于在蒸餾過程中降低所述蒸餾罐罐體內的壓力；和/或，加熱器，用于在蒸餾過程中對所述混合廢液進行加熱。3.根據權利要求1所述的溶劑回收系統，其中，所述液化冷卻罐包括：液化冷卻罐罐體，用于盛放源自所述蒸餾罐的溶劑；以及制冷管路，用于盛放冷卻液以使得從所述蒸餾罐氣化之后的溶劑經熱交換冷卻液化。4.根據權利要求1所述的溶劑回收系統，其中，所述過濾器的濾網直徑使得將經所述液化冷卻罐冷卻之后的溶劑中的固體雜質去除。5.根據權利要求1-4中任意一項所述的溶劑回收系統，其中，所述溶劑回收系統還包括溶劑回收罐，用于儲存回收后的溶劑。6.一種涂布機，其特征在于，所述涂布機包括涂布單元以及權利要求1-5中任意一項所述的溶...

【專利技術屬性】
技術研發人員：汪杰，陳聰文，
申請(專利權)人：東旭昆山顯示材料有限公司，東旭集團有限公司，東旭科技集團有限公司，
類型：發明
國別省市：江蘇,32