一種大口徑反射鏡清洗設(shè)備制造技術(shù)

本申請(qǐng)公開了一種大口徑反射鏡清洗設(shè)備，用于對(duì)大口徑反射鏡的鏡體進(jìn)行清洗，包括：與所述大口徑反射鏡的背部接觸，以支撐所述大口徑反射鏡的支架；設(shè)置在所述支架上，并位于所述大口徑反射鏡的底部，且能夠高壓噴出清洗液以對(duì)所述背部實(shí)現(xiàn)清洗的清洗裝置。本發(fā)明專利技術(shù)提供的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，能夠通過支架將大口徑反射鏡支撐在其頂部，同時(shí)通過清洗裝置直接對(duì)與支架接觸的鏡體背部上的凹槽進(jìn)行清洗，從而無(wú)需對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行翻轉(zhuǎn)操作，避免了大口徑反射鏡的損傷風(fēng)險(xiǎn)。

Cleaning device for large aperture reflector

The invention discloses a large aperture mirror cleaning equipment for the mirror of large aperture mirror for cleaning, including: with the large aperture mirror back contact, to support the large aperture mirror; arranged on the support, and at the bottom of large diameter reflection mirror, and high pressure washing liquid is sprayed to achieve the cleaning device on the back. Large aperture mirror cleaning equipment provided by the invention, can support large aperture mirror support at the top, at the same time through the cleaning device directly to the groove mirror body back and support on the contact for cleaning, so there is no need to flip operation of large aperture mirror, to avoid the risk of damage of large aperture mirrors.

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
一種大口徑反射鏡清洗設(shè)備
本專利技術(shù)涉及清洗設(shè)備
，特別涉及能夠?qū)Υ兡さ拇罂趶椒瓷溏R進(jìn)行清洗的一種大口徑反射鏡清洗設(shè)備。
技術(shù)介紹
隨著深空探測(cè)以及成像系統(tǒng)的快速發(fā)展，觀測(cè)和成像系統(tǒng)迫切需求更大口徑的光學(xué)系統(tǒng)以滿足人們看得更遠(yuǎn)、更清晰的要求。為此，人類不斷地設(shè)法提高工藝水平，突破當(dāng)前加工極限，使制備出的反射鏡口徑不斷增大，以滿足上述需求。SiC材料憑借其優(yōu)異性能，成為大口徑反射鏡(口徑尺寸大于2m，一般稱之為大口徑反射鏡)鏡坯尤其是輕量化反射鏡鏡坯的首先材料。我國(guó)正在開發(fā)口徑4m量級(jí)SiC反射鏡光學(xué)系統(tǒng)。而對(duì)于口徑4m量級(jí)SiC反射鏡，鍍膜前的清洗方法和工藝是需要解決的技術(shù)難題之一。在傳統(tǒng)清洗工藝中，對(duì)口徑相對(duì)較小的反射鏡(即口徑尺寸小于2m的小口徑反射鏡)，可以采用超聲波浸沒式清洗和人工直接進(jìn)行擦拭的方法實(shí)現(xiàn)清潔，以去除小口徑反射鏡上因面形拋光而殘留的粉塵和拋光粉劑等，進(jìn)而滿足后續(xù)鍍膜工序的操作要求。在此清洗過程中，需要對(duì)小口徑反射鏡進(jìn)行翻轉(zhuǎn)操作，以使鏡體背部向上，從而便于對(duì)鏡體的背部進(jìn)行全方位的清洗。相對(duì)于小口徑反射鏡，為了減重，大口徑SiC反射鏡都要做成輕量化結(jié)構(gòu)，即從鏡體背部向鏡體內(nèi)做成若干個(gè)凹槽以達(dá)到減重的目的。進(jìn)行拋光操作后，凹槽內(nèi)會(huì)存有大量的燒結(jié)時(shí)產(chǎn)生的粉塵和銑磨加工時(shí)殘留的拋光粉。在大口徑SiC反射鏡進(jìn)行鍍膜前，必須對(duì)鏡體表面及鏡體背部的凹槽內(nèi)部進(jìn)行有效的清洗，去除鏡體上的灰塵和雜質(zhì)，以提高膜層質(zhì)量和牢固度，保證膜層具有較高的反射率和耐用性。但是，由于大口徑SiC反射鏡的體積和重量都相對(duì)較大，如果采用小口徑反射鏡的清洗方式，則需要對(duì)大口徑SiC反射鏡進(jìn)行翻轉(zhuǎn)操作，操作風(fēng)險(xiǎn)較大，一方面翻轉(zhuǎn)過程可能會(huì)對(duì)SiC鏡體造成損傷，另一方面翻轉(zhuǎn)過程可能使加工后的精密面形發(fā)生改變甚至損傷鏡面，造成重大損失。因此，如何優(yōu)化大口徑反射鏡的清洗方式，以避免造成損失，已經(jīng)成為目前本領(lǐng)域技術(shù)人員亟待解決的問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
有鑒于此，本專利技術(shù)提供了一種新型的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，其在對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行清洗時(shí)，無(wú)需令大口徑反射鏡進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，在保持鏡體背部向下的情況下就可以完成對(duì)凹槽內(nèi)部的清洗，避免了大口徑反射鏡的損傷風(fēng)險(xiǎn)。為了達(dá)到上述目的，本專利技術(shù)提供如下技術(shù)方案：一種大口徑反射鏡清洗設(shè)備，用于對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行清洗，包括：與所述大口徑反射鏡的背部接觸，以支撐所述大口徑反射鏡的支架；設(shè)置在所述支架上，并位于所述大口徑反射鏡的底部，且能夠噴出清洗液以對(duì)所述背部實(shí)現(xiàn)清洗的清洗裝置。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，還包括設(shè)置在所述支架上，并位于所述大口徑反射鏡的底部，且能夠噴出氣流以干燥所述背部的風(fēng)干裝置。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，還包括控制所述清洗裝置和所述風(fēng)干裝置的啟停、轉(zhuǎn)速以及所述清洗液和所述氣流噴出壓力的控制裝置。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，所述清洗裝置包括多個(gè)水平設(shè)置的導(dǎo)液管，每個(gè)所述導(dǎo)液管上均設(shè)置有多個(gè)噴出所述清洗液的液體噴嘴。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，所述導(dǎo)液管通過豎直設(shè)置的轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在所述支架上。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，所述風(fēng)干裝置包括水平設(shè)置的導(dǎo)氣管，和設(shè)置在所述導(dǎo)氣管上用于噴出所述氣流的氣體噴嘴，所述導(dǎo)氣管設(shè)置在所述轉(zhuǎn)軸上。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，還包括通過傳動(dòng)機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置，所述驅(qū)動(dòng)裝置在所述控制裝置的控制下實(shí)現(xiàn)啟停和轉(zhuǎn)速控制。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，所述支架包括多個(gè)定位鎖定裝置，全部所述定位鎖定裝置在所述轉(zhuǎn)軸的周向上圍繞所述轉(zhuǎn)軸均勻分布。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，還包括固定設(shè)置在所述支架上，與所述導(dǎo)液管和所述導(dǎo)氣管滑動(dòng)連接，用于支撐并導(dǎo)向所述導(dǎo)液管和所述導(dǎo)氣管的環(huán)形導(dǎo)軌。優(yōu)選的，上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備中，還包括：用于存儲(chǔ)并向所述清洗裝置提供所述清洗液的儲(chǔ)液桶；設(shè)置在所述支架外側(cè)的環(huán)形擋液板；廢液回收槽，所述支架、所述清洗裝置和所述環(huán)形擋液板位于所述廢液回收槽內(nèi)。本專利技術(shù)提供的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，用于對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行清洗，主要包括支架和清洗裝置，在需要對(duì)大口徑反射鏡的鏡體背部上的凹槽進(jìn)行清洗時(shí)，可以無(wú)需翻轉(zhuǎn)大口徑反射鏡，而是直接將大口徑反射鏡吊裝到支架上，使支架與大口徑反射鏡的背部接觸，此時(shí)支架位于大口徑反射鏡的底部，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)大口徑反射鏡的支撐，而設(shè)置在支架上的清洗裝置，也位于被支架支撐的大口徑反射鏡的底部，清洗過程中，清洗裝置將清洗液噴射至位于其上方的凹槽中，對(duì)凹槽實(shí)現(xiàn)清洗。本專利技術(shù)提供的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，能夠通過支架將大口徑反射鏡支撐在其頂部，同時(shí)通過清洗裝置直接對(duì)與支架接觸的鏡體背部上的凹槽進(jìn)行清洗，從而無(wú)需對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行翻轉(zhuǎn)操作，避免了大口徑反射鏡的損傷風(fēng)險(xiǎn)。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術(shù)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術(shù)的實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)提供的附圖獲得其他的附圖。圖1為本專利技術(shù)實(shí)施例提供的大口徑反射鏡清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。在圖1中：1-支架，2-清洗裝置，3-風(fēng)干裝置，4-控制裝置，5-轉(zhuǎn)軸，6-驅(qū)動(dòng)裝置，7-環(huán)形導(dǎo)軌，8-擋液板，9-廢液回收槽；11-定位鎖定裝置，21-導(dǎo)液管，22-液體噴嘴，31-導(dǎo)氣管，32-氣體噴嘴。具體實(shí)施方式本專利技術(shù)提供了一種新型的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，其在對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行清洗時(shí)，無(wú)需令大口徑反射鏡進(jìn)行翻轉(zhuǎn)，在保持鏡體背部向下的情況下就可以完成對(duì)凹槽內(nèi)部的清洗，避免了大口徑反射鏡的損傷風(fēng)險(xiǎn)。下面將結(jié)合本專利技術(shù)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本專利技術(shù)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本專利技術(shù)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本專利技術(shù)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本專利技術(shù)保護(hù)的范圍。如圖1所示，本專利技術(shù)實(shí)施例提供的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，用于對(duì)大口徑反射鏡(口徑尺寸大于2m的反射鏡，圖中未示出)的鏡體進(jìn)行清洗，主要包括：與大口徑反射鏡的背部(此背部指的是鏡體的與鏡面相對(duì)的部位)接觸，以在底部支撐大口徑反射鏡的支架1；設(shè)置在支架1上，同樣位于大口徑反射鏡的底部，能夠噴出清洗液以對(duì)大口徑反射鏡的背部實(shí)現(xiàn)清洗的清洗裝置2。當(dāng)需要使用上述大口徑反射鏡清洗設(shè)備對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行清洗時(shí)，可以無(wú)需翻轉(zhuǎn)大口徑反射鏡，而是直接將大口徑反射鏡吊裝到支架1上，使支架1與大口徑反射鏡的背部接觸，此時(shí)支架1位于大口徑反射鏡的底部，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)大口徑反射鏡的支撐，而設(shè)置在支架1上的清洗裝置2，也位于被支架1支撐的大口徑反射鏡的底部，清洗過程中，清洗裝置2將清洗液噴射至位于其上方的凹槽中，對(duì)凹槽實(shí)現(xiàn)清洗。本實(shí)施例提供的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，利用合理有效的機(jī)械清洗方式替代傳統(tǒng)超聲波清洗和人工擦拭，通過采用鏡面朝上的方式，實(shí)現(xiàn)了對(duì)大口徑、復(fù)雜輕量化結(jié)構(gòu)的SiC反射鏡的背部和凹槽內(nèi)部的高壓噴淋清洗，無(wú)需再對(duì)鏡體進(jìn)行翻轉(zhuǎn)操作，提高了清洗工藝的安全性和可靠性，避免了鏡體翻轉(zhuǎn)可能帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)，滿足了國(guó)內(nèi)大口徑SiC反射鏡鍍膜對(duì)相關(guān)應(yīng)用的迫切需求，填補(bǔ)了國(guó)內(nèi)相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)空白，為本文檔來(lái)自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種大口徑反射鏡清洗設(shè)備，用于對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行清洗，其特征在于，包括：與所述大口徑反射鏡的背部接觸，以支撐所述大口徑反射鏡的支架；設(shè)置在所述支架上，并位于所述大口徑反射鏡的底部，且能夠噴出清洗液以對(duì)所述背部實(shí)現(xiàn)清洗的清洗裝置。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種大口徑反射鏡清洗設(shè)備，用于對(duì)大口徑反射鏡進(jìn)行清洗，其特征在于，包括：與所述大口徑反射鏡的背部接觸，以支撐所述大口徑反射鏡的支架；設(shè)置在所述支架上，并位于所述大口徑反射鏡的底部，且能夠噴出清洗液以對(duì)所述背部實(shí)現(xiàn)清洗的清洗裝置。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，其特征在于，還包括設(shè)置在所述支架上，并位于所述大口徑反射鏡的底部，且能夠噴出氣流以干燥所述背部的風(fēng)干裝置。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，其特征在于，還包括控制所述清洗裝置和所述風(fēng)干裝置的啟停、轉(zhuǎn)速以及所述清洗液和所述氣流噴出壓力的控制裝置。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，其特征在于，所述清洗裝置包括多個(gè)水平設(shè)置的導(dǎo)液管，每個(gè)所述導(dǎo)液管上均設(shè)置有多個(gè)噴出所述清洗液的液體噴嘴。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的大口徑反射鏡清洗設(shè)備，其特征在于，所述導(dǎo)液管通過豎直設(shè)置的轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)的設(shè)置在所述支架上。6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的大口徑反射鏡清洗...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：申振峰，高勁松，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：中國(guó)科學(xué)院長(zhǎng)春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所，
類型：發(fā)明
國(guó)別省市：吉林,22