清除裝置及其操作方法、切割裝置制造方法及圖紙

一種清除裝置及其操作方法、切割裝置。該清除裝置包括：工作臺，包括工作面；第一清除單元，設置于所述工作臺的靠近所述工作面的一側(cè)；控制單元，與所述第一清除單元連通并控制所述第一清除單元的清除操作及操作次數(shù)；至少一個檢測單元，設置于所述工作臺上，并且與所述控制單元通信連接；其中，所述第一清除單元配置為清除所述工作面上的異物，所述檢測單元配置為檢測所述工作面的清潔程度，并且向所述控制單元發(fā)送反映所述工作面的清潔程度的數(shù)據(jù)信號。該清除裝置通過檢測單元檢測工作臺的清潔程度以對是否進行下次清除操作進行控制，從而在提高清除裝置工作效率的同時保證工作臺的清潔，提高產(chǎn)品良率。

Cleaning device and its operation method and cutting device

Cleaning device, operation method and cutting device thereof. The cleaning device comprises: a worktable comprises a working surface; the first cleaning unit, near the side of the working face is arranged on the workbench; the control unit is communicated with the first cleaning unit and controls the first clear cell clearance operation and operation times; at least one detection unit is arranged in the on the bench, and the control unit of a communication connection; among them, the first cleaning unit is configured to remove foreign bodies of the working face, the detection unit configured to detect the surface cleanliness, and the control unit transmits data signals for reflecting the work surface clean degree to the. The cleaning device through the clean degree detection unit detects whether the table for the next clear operation control, thus ensuring the cleanliness of cleaning device in improving work efficiency, improve product yield.

【技術實現(xiàn)步驟摘要】
清除裝置及其操作方法、切割裝置
本公開涉及一種清除裝置及其操作方法、切割裝置。
技術介紹
在產(chǎn)品(例如顯示面板)的切割工藝過程中，切割裝置會將顯示面板中無用的虛設(Dummy)區(qū)域切割掉，在進入下一制程(例如切割后續(xù)產(chǎn)品)之前需要清除切割裝置的工作臺上的異物(例如切割產(chǎn)生的碎屑等)，例如通過清除裝置將異物掃入碎壓機中。工作臺上存在的異物會使得后續(xù)產(chǎn)品切割過程中的不平，影響產(chǎn)品的切割良率。但是在當前的技術工藝中，不能保證工作臺上的異物會被清除干凈，而傳統(tǒng)的例如設定清掃次數(shù)的方法會降低清除效率并延長產(chǎn)品生產(chǎn)時間，而且也無法保證異物會被清除干凈，既無法保證產(chǎn)品良率又增加成本。公開內(nèi)容本公開至少一實施例提供一種清除裝置及其操作方法、切割裝置以解決上述技術問題。該清除裝置中設置有檢測工作面清潔程度的檢測單元，可以依據(jù)實時監(jiān)控的工作面的清潔程度以判斷是否對工作面繼續(xù)進行清除操作，可以在保證工作面的清潔程度并提高產(chǎn)品良率的同時，避免因重復清除操作等造成的設備例如清除單元過度損耗的問題。本公開至少一實施例提供一種清除裝置，包括：工作臺，包括工作面；第一清除單元，設置于所述工作臺的靠近所述工作面的一側(cè)；控制單元，與所述第一清除單元連通并控制所述第一清除單元的清除操作及操作次數(shù)；至少一個檢測單元，設置于所述工作臺上，并且與所述控制單元通信連接；其中，所述第一清除單元配置為清除所述工作面上的異物，所述檢測單元配置為檢測所述工作面的清潔程度，并且向所述控制單元發(fā)送反映所述工作面的清潔程度的數(shù)據(jù)信號。例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述數(shù)據(jù)信號反映為工作面未清潔，所述控制單元設置為控制所述第一清除單元再次清掃所述工作面；或者所述數(shù)據(jù)信號反映為工作面已清潔，所述控制單元設置為控制所述第一清除單元停止清掃所述工作面。例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述檢測單元可以包括用于發(fā)射信號的發(fā)射端和用于接收所述信號的接收端，所述發(fā)射端和所述接收端分別位于所述工作臺的相對兩側(cè)。例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述信號可以包括激光或超聲波。例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述控制單元中可以設置有限制所述第一清除單元操作次數(shù)的第一閾值。例如，本公開至少一實施例提供的清除裝置，還可以包括設置于所述工作臺的所述工作面一側(cè)的第二清除單元。例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述控制單元中可以設置有限制所述第二清除單元操作次數(shù)的第二閾值。例如，本公開至少一實施例提供的清除裝置，還可以包括與所述控制單元連通的報警系統(tǒng)，其中，所述報警系統(tǒng)設置為所述第一清除單元的操作次數(shù)大于所述第一閾值時啟動；和/或所述報警系統(tǒng)設置為所述第二清除單元的操作次數(shù)大于所述第二閾值時啟動。例如，在本公開至少一實施例提供的清除裝置中，所述第一清除單元包括刷除裝置、噴氣裝置或水洗裝置；和/或所述第二清除單元包括真空吸收裝置。例如，本公開至少一實施例提供的清除裝置，還可以包括設置于所述工作臺一側(cè)的碎壓機。本公開至少一實施例提供一種切割裝置，其包括上述任一的清除裝置。例如，本公開至少一實施例提供的切割裝置，還可以包括：設置于所述工作臺的面向所述工作面一側(cè)的切割頭，其中，所述切割頭配置為切割位于所述工作面上的待處理物。本公開至少一實施例提供一種上述任一清除裝置的操作方法，包括：控制所述第一清除單元對所述工作面進行一次清除操作；對所述工作面進行清潔程度檢測，檢測的所述數(shù)據(jù)信號發(fā)送至所述控制單元；控制所述控制單元對所述數(shù)據(jù)信號進行分析以判斷是否進行下一次清除操作。例如，在本公開至少一實施例提供的操作方法中，當所述控制單元判斷工作面上存在異物，對所述工作面進行下一次清除操作并對清除操作后的所述工作面的清潔程度進行檢測；或者當所述控制單元判斷工作面上不存在異物，結(jié)束清除裝置的清除操作。例如，本公開至少一實施例提供的操作方法，還可以包括：提供報警系統(tǒng)和限制所述第一清除單元操作次數(shù)的第一閾值，其中，當所述第一清除單元的操作次數(shù)大于所述第一閾值時啟動所述報警系統(tǒng)。附圖說明為了更清楚地說明本公開實施例的技術方案，下面將對實施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實施例，而非對本公開的限制。圖1為本公開一實施例提供的清除裝置的結(jié)構示意圖；圖2為本公開一實施例提供的清除裝置的操作方法過程圖。附圖標記：10-工作臺；11-工作面；100-第一清除單元；200-顯示面板；201-第一顯示面板；202-第二顯示面板；300-檢測單元；301-發(fā)射端；302-接收端；400-碎壓機。具體實施方式為使本公開實施例的目的、技術方案和優(yōu)點更加清楚，下面將結(jié)合本公開實施例的附圖，對本公開實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本公開的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本公開的實施例，本領域普通技術人員在無需創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本公開保護的范圍。除非另外定義，本公開使用的技術術語或者科學術語應當為本公開所屬領域內(nèi)具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數(shù)量或者重要性，而只是用來區(qū)分不同的組成部分。“包括”或者“包含”等類似的詞語意指出現(xiàn)該詞前面的元件或者物件涵蓋出現(xiàn)在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。“上”、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對位置關系，當被描述對象的絕對位置改變后，則該相對位置關系也可能相應地改變。在進行顯示面板的切割過程中，需要將顯示面板的虛設部分切割掉。切割掉的虛設部分掉落到工作臺上需要清除。在進行清除操作后，異物仍可能存留在工作臺上。以用毛刷清除工作臺的方式為例進行說明：毛刷在對工作臺進行多次清除操作之后會有磨損，導致在后續(xù)清除切割掉的虛設部分的過程中，毛刷磨損處的虛設部分未被清除，從而殘留在工作臺上；或者，在進行清除操作時，毛刷的壓入量過大可能會將切割掉的虛設部分壓碎從而形成碎屑，碎屑可能會存留在毛刷中而導致在后續(xù)清除過程中，夾雜碎屑的毛刷會將碎屑重新帶到工作臺上；在產(chǎn)品制程中，相關設備內(nèi)部的微粒及其它外界因素等也可能導致平臺上。為了說明的方便，在本說明書中將需要清除的虛設部分、碎屑以及其他需要清除的物質(zhì)統(tǒng)稱為“異物”。如果工作臺上存在異物，在對產(chǎn)品進行加工處理例如對顯示面板進行切割工藝過程中，顯示面板中有異物存在的部分可能會被抬高，如此導致顯示面板放置不平。在進行切割工藝過程中，放置不平的顯示面板會導致切割不均勻而影響產(chǎn)品良率。對于上述技術問題，傳統(tǒng)的應對方法主要是在可能殘留異物的制程中，設定一個固定的清除操作次數(shù)，例如設定該操作次數(shù)為兩次。首先，此方法在不確定平臺上是否存在異物即進行清除操作，會加速清除單元的損耗例如毛刷磨損；其次，工作臺上通常會覆蓋有對工作臺進行防護的保護玻璃，如此在不確定工作臺上是否有異物存在的情況下即對工作臺進行兩次清除操作，也會加速保護玻璃的損耗；再者，設定對工作臺進行兩次清除操作的方法，雖然可以提高清除工作臺上的本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
一種清除裝置，包括：工作臺，包括工作面；第一清除單元，設置于所述工作臺的靠近所述工作面的一側(cè)；控制單元，與所述第一清除單元連通并控制所述第一清除單元的清除操作及操作次數(shù)；至少一個檢測單元，設置于所述工作臺上，并且與所述控制單元通信連接；其中，所述第一清除單元配置為清除所述工作面上的異物，所述檢測單元配置為檢測所述工作面的清潔程度，并且向所述控制單元發(fā)送反映所述工作面的清潔程度的數(shù)據(jù)信號。

【技術特征摘要】
1.一種清除裝置，包括：工作臺，包括工作面；第一清除單元，設置于所述工作臺的靠近所述工作面的一側(cè)；控制單元，與所述第一清除單元連通并控制所述第一清除單元的清除操作及操作次數(shù)；至少一個檢測單元，設置于所述工作臺上，并且與所述控制單元通信連接；其中，所述第一清除單元配置為清除所述工作面上的異物，所述檢測單元配置為檢測所述工作面的清潔程度，并且向所述控制單元發(fā)送反映所述工作面的清潔程度的數(shù)據(jù)信號。2.根據(jù)權利要求1所述的清除裝置，其中，所述數(shù)據(jù)信號反映為工作面未清潔，所述控制單元設置為控制所述第一清除單元再次清掃所述工作面；或者所述數(shù)據(jù)信號反映為工作面已清潔，所述控制單元設置為控制所述第一清除單元停止清掃所述工作面。3.根據(jù)權利要求1所述的清除裝置，其中，所述檢測單元包括用于發(fā)射信號的發(fā)射端和用于接收所述信號的接收端，所述發(fā)射端和所述接收端分別位于所述工作臺的相對兩側(cè)。4.根據(jù)權利要求3所述的清除裝置，其中，所述信號包括激光或超聲波。5.根據(jù)權利要求1-4中任一所述的清除裝置，其中，所述控制單元中設置有限制所述第一清除單元操作次數(shù)的第一閾值。6.根據(jù)權利要求5所述的清除裝置，還包括設置于所述工作臺的所述工作面一側(cè)的第二清除單元。7.根據(jù)權利要求6所述的清除裝置，其中，所述控制單元中設置有限制所述第二清除單元操作次數(shù)的第二閾值。8.根據(jù)權利要求7所述的清除裝置，還包括與所述控制單元連通的報警系統(tǒng)，...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：劉平，胡慶玉，金用燮，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，合肥鑫晟光電科技有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：北京,11