3D玻璃錫槽保護氣體的循環利用方法技術

本發明專利技術涉及一種3D玻璃錫槽保護氣體的循環利用方法，該方法包括使從錫槽廢氣出氣口(2)排出的混合氣體依次經過以下步驟：冷卻混合氣體形成水蒸氣并除去水蒸氣，以及使混合氣體中的SnO

3D glass tin tank protection gas recycling method

The invention relates to a method for recycling a 3D glass tin tank shielded gas, which includes the tin bath exhaust outlet (2) mixed gas passes through the following steps: cooling water vapor mixed gas formation and removal of water vapor, and the mixed gas of SnO

【技術實現步驟摘要】
3D玻璃錫槽保護氣體的循環利用方法
本專利技術涉及玻璃制造領域，尤其是3D玻璃制造領域，特別涉及解決3D手機面板玻璃所需超薄玻璃原片生產中的一種錫槽保護氣體的循環利用方法。
技術介紹
近年來，隨著手機對于3D面板玻璃的需求急速增加，急需解決高鋁超薄玻璃原片生產技術中的很多難點，其中一個重要技術難點是對于錫槽槽壓的高度穩定性的要求。在浮法3D玻璃制造過程中，必須不間斷地向錫槽中充入大量的氮氣和氫氣的混合氣體作為保護氣體使用，以防止錫槽內液態錫被氧化。充入的這種混合氣體在錫槽內受到氧化后，形成含有以H2O、SO2、SO3、SnO2、SnO、SnS為主要成分的混合氣體(又稱為廢氣)，需要不停將這些廢氣排出。傳統的玻璃生產工藝是直接將這種混合氣體排出在廠房內。由于排氣口和大氣聯通，受環境氣壓波動影響較大，尤其是在3D玻璃所需超薄高鋁玻璃生產時，當玻璃厚度小于0.3mm后，這樣直接排放會嚴重影響玻璃的厚度控制，導致3D玻璃的產品合格率嚴重降低。此外，由于傳統玻璃生產工藝直接將廢氣排出在廠房內，這還會導致錫槽周圍的空氣中的含硫化合物含量急劇增加，嚴重影響作業人員的身體健康和大氣環境；所排出的廢氣中，含氮量濃度很高，如果不能將其循環使用，也是一種極大的浪費。
技術實現思路
上述信息僅僅用于增強對本專利技術背景的理解，因此可能包含不構成在本領域普通技術人員公知的現有技術的信息。鑒于上述背景，本專利技術的目的就是要解決現有技術中的不足，提供一種玻璃錫槽出口排出的混合氣體的循環利用方法，該方法尤其可以用于3D玻璃生產過程中的錫槽出口混合氣體的循環利用。為實現上述目的，本專利技術涉及一種錫槽混合氣體的循環利用方法，其主要涉及以下內容：(1).一種錫槽混合氣體的循環利用方法，其包括使從錫槽廢氣出氣口(2)排出的混合氣體依次經過以下步驟：冷卻混合氣體形成水蒸氣并除去水蒸氣，以及使混合氣體中的SnO2、SnO、SnS冷卻成固體粉末的氣體冷卻步驟；除去混合氣體中的固體粉末和灰塵的混合氣體除塵步驟；除去混合氣體中的氧化物的去除氧化物步驟；除去混合氣體中的氧氣和水的催化去氧步驟；通入氫氣以調整混合氣體中N2、H2比例的步驟；以及通入新鮮氮氣以控制N2、H2比例并作為新的保護氣體再次通入到錫槽(1)的氣體混合步驟，其中，上述除去混合氣體中的固體粉末和灰塵的混合氣體除塵步驟、除去混合氣體中的氧化物的去除氧化物步驟以及除去混合氣體中的氧氣和水的催化去氧步驟三個步驟的順序可以變化。(2).根據(1)所述的方法，其中，所述氣體冷卻步驟包括：將壓力為30～50Pa，溫度在100～500℃，主要成分為N2、H2、O2、H2O、SO2、SO3、SnO2、SnO、SnS、灰塵的混合氣體從錫槽廢氣出氣口(2)排出，由密閉管道在風機(3)的作用下引入氣體冷凝器(4)中，使混合氣體的溫度從100～500℃降到50℃以下，以使水蒸氣凝結成液態水并使SnO2、SnO、SnS遇冷變成固體粉末。(3).根據(2)所述的方法，其中，所述混合氣體除塵步驟包括：將通過氣體冷凝器(4)后的混合氣體通入除塵裝置(5)對氣體進行凈化以除去主要的固體粉末和灰塵，從而得到主要成份為N2、H2、O2、SO2、SO3的混合氣體，在本步驟中混合氣體的壓力為30～50Pa，溫度在50℃以下。(4).根據(3)述的方法，其中，所述去除氧化物步驟包括：使通過除塵裝置(5)的混合氣體通過堿性塔(6)和氫氧根離子發生化學反應，除去混合氣體中的硫氧化物和產生的水，從而得到主要成分是N2、H2、O2的混合氣體，在本步驟中該混合氣體的壓力為30～50Pa，溫度在50℃以下。(5).根據(4)所述的方法，其中，所述催化去氧步驟包括：使通過堿性塔(6)的混合物氣體通入含有鈀催化劑的除氧裝置(7)，并且從氫氣管道(8)向所述除氧裝置(7)中通入氫氣，以進行反應H2+O2＝H2O，從而除去氧氣以及所生成的水。(6).根據(5)所述的方法，其中，調整N2、H2比例的步驟包括：通過除氧裝置(7)后的混合氣體主要成分為N2、H2，壓力為30～50Pa，溫度在50℃以下，其氧含量小于5ppm，通過氫氣管道(8)向除氧裝置(7)中通入氫氣并控制混合氣體中N2和H2的比例。(7).根據(6)所述的方法，其中，所述氣體混合步驟包括：將上述控制了N2和H2的比例的混合氣體送入混合裝置(11)，然后通過氮氣管道(9)通路新鮮氮氣與該控制了N2和H2的比例的混合氣體混合，以最終調節N2和H2的比例，然后經由錫槽保護氣體通入口(12)作為新的保護氣體通入到錫槽(1)內使用。(8).根據(1)～(7)中任一項所述的方法，其中，氣體冷卻步驟、混合氣體除塵步驟、去除氧化物步驟、催化去氧步驟，調整N2、H2比例的步驟、氣體混合步驟為閉環循環過程。(9).根據(1)～(8)中任一項所述的方法，其用于3D玻璃的制造。(10).根據(1)～(9)中任一項所述的方法，其中，在氣體混合步驟后，最終調節N2和H2的比例為，N2占全部氣體中的90％，H2占全部氣體中的7％。此外，在本專利技術的方法中，氣體冷卻步驟、混合氣體除塵步驟、去除氧化物步驟、催化去氧步驟，調整N2、H2比例的步驟、氣體混合步驟為閉環循環過程。本專利技術的方法尤其適用于3D玻璃的制造。在本專利技術的方法中，在氣體混合步驟后，調整后的N2、H2比例為，N2占全部氣體中的90％，H2占全部氣體中的7％。本專利技術同現有技術相比，降低了錫槽內氣體壓力波動，消除了錫槽作業場地受外排廢氣的空氣污染，消除了氮氣的浪費。為解決3D玻璃面板原片生產時合格率低，減少空氣污染和節約能源提供了一種全新的技術方案。此外，本領域技術人員也可以理解上述步驟的順序也可以進行適當地調整，只要可以實現本專利技術的目的即可，例如在本專利技術中，上述除去混合氣體中的固體粉末和灰塵的混合氣體除塵步驟、除去混合氣體中的氧化物的去除氧化物步驟以及除去混合氣體中的氧氣和水的催化去氧步驟三個步驟的順序可以變化，即在對廢氣進行了冷卻處理之后，可以先去除固體粉末和灰塵、再去除氧化物、再去除氧氣和水，也可以先去除氧化物、氧氣和水、然后再除去固體粉末和灰塵，或者可以先除去氧氣和水、然后再除去固體粉末和灰塵，然后再除去氧化物，本領域技術人員可以理解，這三個步驟的順序可以按照實際情況進行安排。附圖說明通過閱讀下文優選的具體實施方式中的詳細描述，本專利技術各種其他的優點和益處對于本領域普通技術人員將變得清楚明了。說明書附圖僅用于示出優選實施方式的目的，而并不認為是對本專利技術的限制。顯而易見地，下面描述的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。而且在整個附圖中，用相同的附圖標記表示相同的部件。圖1是本專利技術的工藝流程圖。符號說明1錫槽2錫槽廢氣出氣口3風機4氣體冷凝器5除塵裝置6堿性塔7除氧裝置8氫氣管9氮氣管10氣體檢測裝置11混合裝置12錫槽保護氣體通入口具體實施方式下面將參照附圖更詳細地描述本專利技術的具體實施例。雖然附圖中顯示了本專利技術的具體實施例，然而應當理解，可以以各種形式實現本專利技術而不應被這里闡述的實施例所限制。相反，提供這些實施例是為了能夠更透徹地理解本專利技術，并且能夠將本專利技術的范圍完整的傳達給本本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種錫槽混合氣體的循環利用方法，其包括使從錫槽廢氣出氣口(2)排出的混合氣體依次經過以下步驟：冷卻混合氣體形成水蒸氣并除去水蒸氣，以及使混合氣體中的SnO

【技術特征摘要】
1.一種錫槽混合氣體的循環利用方法，其包括使從錫槽廢氣出氣口(2)排出的混合氣體依次經過以下步驟：冷卻混合氣體形成水蒸氣并除去水蒸氣，以及使混合氣體中的SnO2、SnO、SnS冷卻成固體粉末的氣體冷卻步驟；除去混合氣體中的固體粉末和灰塵的混合氣體除塵步驟、除去混合氣體中的氧化物的去除氧化物步驟和除去混合氣體中的氧氣和水的催化去氧步驟；通入氫氣以調整混合氣體中N2、H2比例的步驟；以及通入新鮮氮氣以控制N2、H2比例并作為新的保護氣體再次通入到錫槽(1)的氣體混合步驟，其中，上述混合氣體除塵步驟、去除氧化物步驟以及催化去氧步驟三個步驟的順序可以變化。2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述氣體冷卻步驟包括：將壓力為30～50Pa，溫度在100～500℃，主要成分為N2、H2、O2、H2O、SO2、SO3、SnO2、SnO、SnS、灰塵的混合氣體從錫槽廢氣出氣口(2)排出，由密閉管道在風機(3)的作用下引入氣體冷凝器(4)中，使混合氣體的溫度從100～500℃降到50℃以下，以使水蒸氣凝結成液態水并使SnO2、SnO、SnS遇冷變成固體粉末。3.根據權利要求2所述的方法，其中，所述混合氣體除塵步驟包括：將通過氣體冷凝器(4)后的混合氣體通入除塵裝置(5)對氣體進行凈化以除去主要的固體粉末和灰塵，從而得到主要成份為N2、H2、O2、SO2、SO3的混合氣體，在本步驟中混合氣體的壓力為30～50Pa，溫度在50℃以下。4.根據權利要求3所述的方法，其中，所述去除氧化物步驟包括：使通過除塵裝置(5)的混合氣體通過堿性塔(...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李利升，李青，伍靜，王卓卿，
申請(專利權)人：四川旭虹光電科技有限公司，東旭集團有限公司，東旭科技集團有限公司，
類型：發明
國別省市：四川,51