消影型OLED用導電玻璃及其制備方法技術

本發明專利技術公開了一種消影型OLED用導電玻璃及其制備方法，其包括依次設置的玻璃基層、打底層和ITO層，所述的打底層為高折射率材料層。高折射率材料層的折射率1.8~2.5。其通過降低打底層的透過率，使兩者的透過率之差在1.5~4%之間，大大提高了OLED透明導電玻璃的視覺效果。

Conductive glass for blanking type OLED and preparation method thereof

The invention discloses a shadow removing type conductive glass for OLED and a preparation method thereof. The utility model comprises a glass base layer, a bottom layer and a ITO layer in turn, wherein the backing layer is a high refractive index material layer. Refractive index of high refractive index material layer 1.8~2.5. By reducing the transmittance of the backing layer, the difference between the transmittance of the two layers is between 1.5~4%, and the visual effect of the OLED transparent conductive glass is greatly improved.

【技術實現步驟摘要】
消影型OLED用導電玻璃及其制備方法
本專利技術涉及導電玻璃領域，具體為一種消影型OLED用導電玻璃及其制備方法。
技術介紹
現有的OLED用透明導電玻璃采用常規的LCD用透明導電玻璃的制備方法，有些考慮到對其進行消影處理，其采取常規的消影方法為H1+L+ITO，但由于采取此方法會存在產品質量隱患，采取此種方法消影時需要的第一層高折射率材料H1對應的厚度較厚，但是高折射率材料H1屬于導電性材料，做出的消影產品后段工序經過ITO蝕刻做引線后整片導電玻璃處于導通狀態，無法滿足后段加工的需求，導致目前OLED用的透明導電玻璃都沒有進行消影處理。而現有技術中ITO和打底層透過率之差過大，影響OLED導電面板的視覺效果。針對這一問題，目前尚無有效的解決方案。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是提供一種消影型OLED用導電玻璃及其制備方法，可以降低蝕刻后ITO區域跟打底層的透過率差，提高OLED產品的視覺效果。為解決上述技術問題，本專利技術所采用的技術方案是：一種消影型OLED用導電玻璃，依次設置的玻璃基層、打底層和ITO層，所述的打底層為高折射率材料層。所述高折射率材料層的折射率1.8~2.5，其是將高折射率材料通過通入氮氧混合氣體采取磁控濺射的方式濺射得到。常見的高折射率材料有TiO2、Nb2O5、Si3N4、Ta2O5、ZrO2等。所述高折射率材料層的厚度為50?-350?，ITO層的厚度為200-1800?。所述氮氧混合氣體的體積比為30-90:10-70。所述ITO層的厚度為1600?-1800?時，對應高折射率材料層的厚度為250?-350?；ITO層的厚度為1200?-1600?時，對應高折射率材料層的厚度為200?-300?；ITO層的厚度為1000?-1200?時，對應高折射率材料層的厚度為150?-250?；ITO層的厚度為800?-1000?時，對應高折射率材料層的厚度為100?-200?；ITO層的厚度為600?-800?時，對應高折射率材料層的厚度為100?-200?；ITO層的厚度為400?-600?時，對應高折射率材料層的厚度為100?-200?；ITO層的厚度為200?-400?時，對應高折射率材料層的厚度為50?-150?。進一步地，ITO層的厚度與高折射率材料層的厚度均確定后，如果制得的樣品時的高折射率層的折射率不符合設計要求，可以通過氮氧混合氣體的體積比來進行調整。采取調節氮氧混合比例來調節高折射率層的折射率，通過適當的通入氧氣后可以較大范圍的調節高折層材料的折射率，傳統的制備工藝對于高折層的折射率無法進行更改，可制備的消影產品范圍有一定的局限性，ITO的厚度大于1500?時傳統工藝很難滿足消影產品的制備。原有的消影結構如圖1所示，GLASS+L（低折射率材料）+ITO由于后段蝕刻ITO成線條后蝕刻后打底層L與未蝕刻的區域反射或透射色差很明顯，從而給人們的視覺效果帶來不好的體驗；另外一種結構如圖2所示GLASS+H1+L+ITO可以實現消影的效果，但是采取此種結構中選取的高折射率材料H1是導電的，蝕刻ITO后時刻區域與沒有蝕刻的區域還是能形成回路，無法滿足后段功能性的需求，采取本專利技術提供的GLASS+H+ITO后既可以滿足消影的效果同時也解決了蝕刻后形成回路的問題。本專利技術具有以下有益效果：1）解決因蝕刻線條后ITO區域和打底層低折射率材料L透過率之差較大，造成使用者視覺上的差異比較明顯的缺點；2）解決為了避免視覺差異明顯問題采取常規的消影方法，由于ITO層比較厚，采用常規的消影方法對應的第一層高折射率材料會比較厚，且由于該層導電，最終會導致絕緣電阻較小，蝕刻成線條后每個區域都可以導通，無法滿足后段制作的要求的缺點；傳統工藝采用鈮靶加硅靶的形式通過磁控濺射的方式制備兩層消影層，本專利技術僅采用硅靶取代傳統工藝的鈮靶加硅靶，節省了使用鈮靶的成本，生產制備時對高折層的折射率進行設計調節后能夠完成最終的消影制備，一般通過氮氧混合氣體比例來進行調整。本專利技術通過選取硅靶作為濺射靶材，通入不同比例的氮氧混合氣體，采取磁控濺射的形式啟輝濺射出新型高折射率材料層，最后得到一種新型的高折射率材料H（折射率1.8~2.5）+ITO層，達到消影效果。OLED透明導電玻璃采用的都是18歐及18歐以下的產品，偶有少數18歐以上的產品，采用高折射率的打底材料H，直接加上ITO層，降低打底層的透過率，使兩者的透過率之差在1.5~4%之間，大大提高了OLED透明導電玻璃的視覺效果。附圖說明圖1是傳統消影型OLED用導電玻璃的結構示意圖。圖2是傳統消影型OLED用導電玻璃的另一結構示意圖。圖3是本專利技術提供的消影型OLED用導電玻璃的結構示意圖。具體實施方式下面結合實施例，進一步闡明本專利技術。這些實施例應理解為僅用于說明本專利技術而不是用于限制本專利技術的保護范圍。在閱讀了本專利技術記載的內容之后，本領域技術人員可以對本專利技術作各種改動或修改，這些等效變化和修飾同樣落入本專利技術權利要求書所限定的范圍。在制備消影型OLED用導電玻璃過程中，特別是制備高折射率材料層時，以下稱H層，需要通入配比好的氮氧混合氣體通過磁控濺射的方式讓硅靶啟輝濺射得到，其中需要通入的氮氧混合氣體比例依據需要制備導電層ITO厚度而定，其對應比例以及厚度關系如下：其中導電層ITO的厚度為1600?-1800?對應通入90:10的氮氧混合氣體，對應H的厚度為250?-350?,若測試的折射率過高可以適當的通入氧氣；因為當折射率過高不符合產品要求時，不管如何調節H層的厚度都無法達到消影的效果。其中導電層ITO的厚度為1200?-1500?對應通入80:20的氮氧混合氣體，對應H的厚度為200?-300?,若測試的折射率過高可以適當的通入氧氣；其中導電層ITO的厚度為1000?-1200?對應通入70:30的氮氧混合氣體，對應H的厚度為150?-250?,若測試的折射率過高可以適當的通入氧氣；其中導電層ITO的厚度為800?-1000?對應通入60:40的氮氧混合氣體，對應H的厚度為100?-200?,若測試的折射率過高可以適當的通入氧氣；其中導電層ITO的厚度為600?-800?對應通入50:50的氮氧混合氣體，對應H的厚度為100?-200?,若測試的折射率過高可以適當的通入氧氣；其中導電層ITO的厚度為400?-600?對應通入40:60的氮氧混合氣體，對應H的厚度為100?-200?,若測試的折射率過高可以適當的通入氧氣；其中導電層ITO的厚度為200?-400?對應通入30:70的氮氧混合氣體，對應H的厚度為50?-150?,若測試的折射率過高可以適當的通入氧氣。通入氧氣后材料的折射率變化會非常敏感，通入少量的氧氣都會對材料的折射率影響非常大，以上所述的適當通入的氧氣一般為：10sccm以下。實施例1：如圖3所示，圖中1為玻璃基板，2為高折射率層，3為ITO層。該消影型OLED用導電玻璃的結構為：玻璃基板/H(250?-350?)/ITO(1600?-1800?)。其中，“/”表示層疊結構，H為高折射率層，括號內的數值代表厚度，以下實施例相同。且玻璃基板的材料為鈉鈣玻璃，厚度為0.7mm。實施例1具體制備方法是：制備時先走ITO的單層厚度用膜厚筆畫線后進本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種消影型OLED用導電玻璃，其特征在于：依次設置的玻璃基層、打底層和ITO層，所述的打底層為高折射率材料層。

【技術特征摘要】
1.一種消影型OLED用導電玻璃，其特征在于：依次設置的玻璃基層、打底層和ITO層，所述的打底層為高折射率材料層。2.根據權利要求1所述的導電玻璃，其特征在于：所述高折射率材料層的折射率1.8~2.5，其是將高折射率材料通過通入氮氧混合氣體采取磁控濺射的方式濺射得到。3.根據權利要求1所述的導電玻璃，其特征在于：所述高折射率材料層的厚度為50?-350?，ITO層的厚度為200-1800?。4.根據權利要求2所述的導電玻璃，其特征在于：所述氮氧混合氣體的體積比為30-90:10-70。5.根據權利要求3述的導電玻璃，其特征在于：所述ITO層的厚度為1600?-1800?時，對應高折射率材料層的厚度為250?-350?；ITO層的厚度為1200?-1600?時，對應高折射率材料層的厚度為200?-300?；ITO層的厚度為1000?-1200?時，對應高折射率材料層的厚度為150?-250?；ITO層的厚度為8...

【專利技術屬性】
技術研發人員：陳多，方鳳軍，何建軍，洪蒙，江濤，
申請(專利權)人：宜昌南玻顯示器件有限公司，中國南玻集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：湖北,42