The present invention provides a photoresist baking equipment, which comprises a box body, the box body are respectively provided with different heating temperature first baking zone and second baking zone is provided with a first baffle arranged between the first and second baking baking zone area, the first area and the second area baking baking is respectively provided with at least two heater in the box; the first area is arranged at the lower part in baking glass placed in the lower part of the box body, is located in the second district is provided with a baking and glass is arranged in the position corresponding to the glass outlet, the first baking area and second baking zone are respectively provided with a first transmission mechanism and the second transmission mechanism in the first transmission mechanism and transmission mechanism are respectively arranged on the second row for the transmission frame is fixed between the first glass frame, transmission mechanism and the second transmission mechanism of the upper and lower ends are respectively provided with a rear conveying mechanism. Compared with the prior art, the temperature control of the different regions is adopted to prolong the time of the melt flow required for the smooth layer photoresist, and to improve the flatness of the flat layer.
【技術實現步驟摘要】
光阻烘烤設備
本專利技術涉及一種液晶面板生產技術,特別是一種用光阻烘烤設備。
技術介紹
現階段液晶顯示業ColorFilter(CF彩膜)制程中,有一道制程相對比較重要,即OverCoat(OC平坦層)制程,簡稱OC制程,該制程作用為隔絕有金屬元素的RGB,防止污染液晶,以及作為平坦層使液晶排布更均勻,顯示效果更佳,該制程和其他黃光制程不同,整面存留,無需進行曝光顯影過程,制程相對比較簡單,整個制作過程只有基板清洗,涂布、真空干燥和烘烤過程,其中烘烤分為預烘烤和后烘烤。預烘烤為使用熱板接觸式烘烤,溫度低于后烘烤裝置,僅起到初步固化作業,減少后烘烤部分化學質析出,由于單片腔式(單片所占空間較大)烘烤,為滿足整條產線的節拍,實際烘烤時間較短,實際功能性較低。后烘烤為熱風烘烤爐,實際烘烤溫度較高(為了使光阻徹底固化,且將大部分無用化學物質析出),由于使用CenterFork形式(單片所占空間較小),可以大批量烘烤,烘烤時間可以很長,而且OC制程最重要的制程參數——平坦度,主要影響的是光阻熔體流動(MeltFlow)階段,OC的光阻在一定溫度后會軟化具有流動性,在固化溫度前,光阻都會具有一定流動效應,以現有的預烘烤和后烘烤裝置,制程只能設定一個溫度,所有玻璃進出后按同一升溫曲線進行,相對的MeltFlow時間很短,無法達到預期要求,從常溫加熱至指定溫度非常快,均無法達到平坦層流平所需的MeltFlow時間需求。
技術實現思路
為克服現有技術的不足,本專利技術提供一種光阻烘烤設備,從而提高平坦層的平坦度。本專利技術提供了一種光阻烘烤設備,包括箱體,所述箱體內分別設有加熱 ...
【技術保護點】
一種光阻烘烤設備,其特征在于:包括箱體(1),所述箱體(1)內分別設有加熱溫度不同的第一烘烤區(2)和第二烘烤區(3),在第一烘烤區(2)和第二烘烤區(3)之間設有豎向設置的第一隔板(19),所述第一烘烤區(2)與第二烘烤區(3)內分別設有至少二個加熱器(4),所述第一烘烤區(2)的加熱溫度從下至上逐步升高,第二烘烤區(3)的加熱溫度從上至下逐步升高;在箱體(1)的下部位于第一烘烤區(2)處設有玻璃放置口(5),箱體(1)的下部位于第二烘烤區(3)處設有與玻璃放置口(5)位置相對應的玻璃取出口(6),所述第一烘烤區(2)以及第二烘烤區(3)分別設有可帶動玻璃支架(7)垂直上升或下降的第一傳送機構、第二傳送機構,在第一傳送機構與第二傳送機構上分別設有多排用于固定玻璃支架(7)的傳送架(8),傳送架(8)分別與玻璃放置口(5)以及玻璃取出口(6)相對,所述第一傳送機構與第二傳送機構之間的上下兩端后側分別設有輸送機構,所述輸送機構用于將第一烘烤區(2)的玻璃支架(7)輸送至第二烘烤區(3)或將第二烘烤區(3)內的玻璃支架(7)輸送至第一烘烤區(2),在第一隔板(19)上位于輸送機構處設有輸送 ...
【技術特征摘要】
1.一種光阻烘烤設備,其特征在于:包括箱體(1),所述箱體(1)內分別設有加熱溫度不同的第一烘烤區(2)和第二烘烤區(3),在第一烘烤區(2)和第二烘烤區(3)之間設有豎向設置的第一隔板(19),所述第一烘烤區(2)與第二烘烤區(3)內分別設有至少二個加熱器(4),所述第一烘烤區(2)的加熱溫度從下至上逐步升高,第二烘烤區(3)的加熱溫度從上至下逐步升高;在箱體(1)的下部位于第一烘烤區(2)處設有玻璃放置口(5),箱體(1)的下部位于第二烘烤區(3)處設有與玻璃放置口(5)位置相對應的玻璃取出口(6),所述第一烘烤區(2)以及第二烘烤區(3)分別設有可帶動玻璃支架(7)垂直上升或下降的第一傳送機構、第二傳送機構,在第一傳送機構與第二傳送機構上分別設有多排用于固定玻璃支架(7)的傳送架(8),傳送架(8)分別與玻璃放置口(5)以及玻璃取出口(6)相對,所述第一傳送機構與第二傳送機構之間的上下兩端后側分別設有輸送機構,所述輸送機構用于將第一烘烤區(2)的玻璃支架(7)輸送至第二烘烤區(3)或將第二烘烤區(3)內的玻璃支架(7)輸送至第一烘烤區(2),在第一隔板(19)上位于輸送機構處設有輸送口(21)。2.根據權利要求1所述的光阻烘烤設備,其特征在于:每排傳送架(8)包括至少兩個開口與玻璃支架(7)相對并且水平設置的C型支架(9),在C型支架(9)開口的上下兩端分別設有相對設置的滾筒導軌(10),所述滾筒導軌(10)分別穿過每一個C型支架(9)的開口,在上下兩個滾筒導軌(10)之間形成用于與玻璃支架(7)卡接的卡接部(11),至少一個滾筒導軌(10)上的滾筒連接有第二電機(31),第二電機(31)驅動滾筒將玻璃支架(7)輸送至輸送機構中。3.根據權利要求1所述的光阻烘烤設備,其特征在于:所述第一傳送機構以及第二傳送機構為鏈條傳動,包括設于第一烘烤區(2)和第二烘烤區(3)上下其中一端的電機(12)、設于電機(12)輸出軸上的主動齒輪(13)以及設于第一烘烤區(2)和第二烘烤區(3)另一端的從動齒輪(14),在主動齒輪(13)與從...
【專利技術屬性】
技術研發人員:徐彬,
申請(專利權)人:武漢華星光電技術有限公司,
類型:發明
國別省市:湖北,42
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