一種面狀曝光系統及曝光部件技術方案

本發明專利技術涉及紫外光應用技術領域，具體涉及一種面狀曝光系統及曝光部件，所述面狀曝光系統，包括光源組件，所述光源組件在曝光面內形成有面狀光斑，所述光源組件存在有至少一條移動軌跡，以及存在有至少一個曝光行程，所述面狀光斑對應的照射區域中存在有至少一個有效曝光區域，當所述光源組件沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，所述有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分差值小于10%。本申請的面狀曝光系統，保證了進行曝光工作時，待曝光區域中各個位置被曝光的均勻性，保證良好的曝光效果；而且，還進一步的消除了因光斑單元內部輻照強度不均勻而導致曝光不均勻的問題。

A surface exposure system and exposure unit

The present invention relates to the technical field of application of ultraviolet light, in particular relates to a planar exposure system and exposure parts, the surface exposure system includes a light source module, the light source component is formed on the surface of spot exposure surface, the light source component has at least one moving track, and there is at least one exposure the trip, the plane beam irradiation region corresponding there is at least one effective exposure area, when the light source component along the trajectory of moving one of the exposure stroke, the effective exposure area of the arbitrary point or any region of the light energy integral difference is less than 10%. The application of planar exposure system, ensure the uniformity of exposure at work, the location of each area to be exposed by exposure, exposure to ensure good results; and also eliminates the spot within the unit radiation intensity caused by uneven uneven exposure problems.

【技術實現步驟摘要】
一種面狀曝光系統及曝光部件
本專利技術涉及紫外光應用
，具體涉及一種面狀曝光系統及曝光部件。
技術介紹
在紫外光應用
中，光刻微細加工在各行業中應用越來越廣泛，為了提高生產效率，人們希望曝光光源有高的有效輻照強度和良好的均勻性，以及有大的有效光斑面積。但是，對于曝光光源而言，增加有效光斑面積與增加有效輻照強度是相互矛盾的。為了實現有效輻照強度和有效光斑面積的同時提高，目前的方式是采用多個光源拼接成光源條，在曝光面上形成一條帶狀的照射光斑，曝光過程中，通過移動光源條，使帶狀的照射光斑掃過待曝光面，進而實現較大面積的曝光。在進一步的設計工作中，專利技術人發現，上述這種采用光源條進行掃描的方式還存在有不足，具體在于：由于光源呈條狀布置，為了具有較寬的照射光斑，所以，光束角通常都較大，曝光面的有效輻照強度不高，而且整個曝光過程移動行程較大，部件移動部件結構復雜，還不便于光源移動的精確控制。
技術實現思路
本專利技術的目的在于：針對目前紫外曝光
中，存在上述的不足，提供一種照射光斑均勻性良好、有效光斑面積較大，曝光過程移動行程較短的光源結構。為了實現上述目的，本專利技術采用的技術方案為：一種面狀曝光系統，包括光源組件，所述光源組件在曝光面內形成有面狀光斑，所述光源組件存在有至少一條移動軌跡，以及存在有至少一個曝光行程，所述面狀光斑對應的照射區域中存在有至少一個有效曝光區域，當所述光源組件沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，所述有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分，積分后在有效曝光區域內任意一點或任意一區域的光照能量積分差值小于10%。本申請的面狀曝光系統，在實際使用過程中，待曝光區域置于有效曝光區域內，通過移動光源組件，光源組件在沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分差值小于10%，即，保證了進行曝光工作時，待曝光區域中各個位置被曝光具有較為一致的均勻性，保證良好的曝光效果；而且，由于是采用上述的方式實現曝光的均勻性，所以，在另一方面也相對的減小了對光源組件靜態光斑均勻性的要求，進而也減小了生產難度和制造成本；再一方面，在實際中，形成面狀光斑的光源組件，通常是有若干單個的光源單元組拼而成，面狀光斑也由光源單元形成的光斑單元組拼而成，所以，對于單個光源形成的光斑單元而言，其光斑單元內部各個區域的輻照強度也存在差異，采用本申請的上述曝光系統，還進一步的消除了這種因光斑單元內部輻照強度不均勻而導致曝光不均勻的問題；更進一步的，由于面狀光斑是由若干光斑單元依次拼接或部分重疊或間隙配合形成的，所以，在光斑單元之間或者重疊處，其輻照強度與其他部位的輻照強度并不相同，所以，采用本申請的面狀曝光系統，也消除了因光源單元拼接所引起曝光不均勻的問題。優選的，光源組件在沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分相等。作為最優的方案，即是使有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分相等，如此，即保證了各個點或區域被曝光的均勻性。優選的，所述光源組件沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，所述有效曝光區域始終處于被照射狀態。采用該種方式，即，采用一面狀光斑照射區域大于待曝光區域的光源組件，如此設置，可以大幅縮短曝光行程，一方面是提高曝光效果，另一方面，也能夠更精確的控制本申請面狀曝光系統的移動精度，進一步的提高曝光精度，再一方面，也能夠簡化移動本申請面狀曝光系統的驅動結構，進而也方便了加工制造。優選的，所述光源組件包括有若干個光源單元，每一個所述光源單元在所述曝光面上都形成有一個光斑單元，相鄰的所述光斑單元依次拼接或部分重疊或間隙配合的形成所述面狀光斑。優選的，所述光源組件還包括有若干個用于調整光源單元發出光線的光學透鏡，每一個所述光源單元與一個光學透鏡配合。每個光源單元都與一個光學透鏡相配合，使得光源單元發出的光線先被光學透鏡調整后再照射在曝光面上形成光斑單元，所以，各個光源單元的光斑單元以部分重疊的方式、相互拼接或者在相鄰光斑單元之間存在微小間隙的方式，形成長條狀的光斑，如此使得，形成光斑單元光線的光束角較小，光斑具有較高的有效輻照強度，進一步的提高了曝光效率和曝光的精密度。優選的，相鄰所述光源單元光軸之間的距離為L，當各個光源單元形成的光斑單元之間為間隙配合時，相鄰光斑單元之間的距離小于0.1L。在實際設計工作中，專利技術人發現，采用上述方式設置光源單元，保證了本申請面狀曝光系統在移動中，能夠方便的實現有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分，積分后在有效曝光區域內任意一點或任意一區域的光照能量積分相等或者差值小于10%這一目的，避免光斑單元之間間隙較大而給制定移動軌跡或/和曝光行程帶來困難。優選的，所述光源單元的規格和型號相同，所述光學透鏡的尺寸和材質相同。采用相同規格和型號的光源單元，以及采用相同尺寸和材質的，在同一曝光面內，能夠保證各個光斑單元具有較好的一致性，進一步的方便光源單元之間相對位置的布置。作為一種優選，所有光源單元為均布設置。作為一種優選，所述光斑單元的形狀為長方形、正方形或者正六邊形。通過上述的結構可以方便光斑單元在曝光面上配合形成整體的面狀光斑。作為一種優選，所述光斑單元之間的配合部位相互錯開布置。優選的，所述光源單元為波長從200納米到420納米的紫外LED光源。采用該波長的紫外光，保證光線的輻照強度，進而保證移動時，能夠對待曝光區域進行可靠的曝光。本申請還公開了一種曝光部件，一種曝光部件，包括驅動部件和上述的面狀曝光系統，所述驅動部件用于驅動所述面狀曝光系統沿所述移動軌跡移動。本申請的曝光部件，由于采用了上述的面狀曝光系統，在進行曝光工作時，能夠提供面積較大，并且輻照強度均勻，移動形成較短的有效曝光區域。優選的，當所述光斑單元的形狀為正方形或者長方形時，所述移動軌跡與所述光斑單元的對角線方向相平行，所述曝光行程等于或者大于一個光斑單元的對角線長度。通過上述的結構，當面狀曝光系統沿光斑單元對角線方向移動一個等于或者大于光斑單元對角線長度的曝光行程時，在有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分差值小于10%，保證了進行曝光工作時，待曝光區域中各個位置被曝光的均勻性。綜上所述，由于采用了上述技術方案，本申請的有益效果是：1、本申請的面狀曝光系統，在實際使用過程中，待曝光區域置于有效曝光區域內，通過移動光源組件，光源組件在沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分差值小于10%，即，保證了進行曝光工作時，待曝光區域中各個位置被曝光具有較為一致的均勻性，保證良好的曝光效果；而且，由于是采用上述的方式實現曝光的均勻性，所以，在另一方面也相對的減小了對光源組件靜態光斑均勻性的要求，進而也減小了生產難度和制造成本；再一方面，在實際中，形成面狀光斑的光源組件，通常是有若干單個的光源單元組拼而成，面狀光斑也由光源單元形成的光斑單元組拼而成，所以，對于單個光源形成的光斑單元而言，其光斑單元內部各個區域的輻照強度也存在差異，采用本申請的上述曝光系統，還進一步的消除了這種因光斑單元內部輻照強度不均勻而導致曝光不均勻的問題；更進一步的，由于面狀本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種面狀曝光系統，其特征在于：包括光源組件，所述光源組件在曝光面內形成有面狀光斑，所述光源組件存在有至少一條移動軌跡，以及存在有至少一個曝光行程，所述面狀光斑對應的照射區域中存在有至少一個有效曝光區域，當所述光源組件沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，所述有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分，積分后在有效曝光區域內任意一點或任意一區域的光照能量積分差值小于10%。

【技術特征摘要】
1.一種面狀曝光系統，其特征在于：包括光源組件，所述光源組件在曝光面內形成有面狀光斑，所述光源組件存在有至少一條移動軌跡，以及存在有至少一個曝光行程，所述面狀光斑對應的照射區域中存在有至少一個有效曝光區域，當所述光源組件沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，所述有效曝光區域內的任意一點或任意一區域的光照能量積分，積分后在有效曝光區域內任意一點或任意一區域的光照能量積分差值小于10%。2.根據權利要求1所述的面狀曝光系統，其特征在于：所述光源組件沿所述移動軌跡移動一個所述曝光行程時，所述有效曝光區域始終處于被照射狀態。3.根據權利要求2所述的面狀曝光系統，其特征在于：所述光源組件包括有若干個光源單元，每一個所述光源單元在所述曝光面上都形成有一個光斑單元，相鄰的所述光斑單元依次拼接或部分重疊或間隙配合的形成所述面狀光斑。4.根據權利要求3所述的面狀曝光系統，其特征在于：所述光源組件還包括有若干個用于調整光源單元發出光線的光學透鏡，每一個所述光源單元與一個光學透鏡配合。5.根據權利要求4所述的面狀曝光系統，其特征在于：相鄰所述光源單元光軸之間的距離為L...

【專利技術屬性】
技術研發人員：霍永峰，
申請(專利權)人：成都恒坤光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：四川,51