顯示基板的制作方法、顯示基板和顯示裝置制造方法及圖紙

提供一種顯示基板的制作方法、顯示基板和顯示裝置。該顯示基板的制作方法，包括：在襯底基板上形成絕緣層，襯底基板包括顯示區和周邊區；在絕緣層上形成平坦膜；對平坦膜進行圖案化工藝，在顯示區形成第一厚度的平坦層，在周邊區形成第二厚度的平坦層，且在第二厚度的平坦層中形成第一過孔，第二厚度小于第一厚度；對周邊區進行刻蝕處理，以使第二厚度的平坦層被減薄或去除，且在絕緣層中形成與第一過孔對應的第二過孔。該顯示基板的制作方法，利于減小周邊區的平坦層的厚度，利于第一導電單元和第二導電單元之間的連接，并利于第二導電單元與驅動電路連接，接觸面積大，接觸電阻小，連接性好。

Method for manufacturing display substrate, display substrate and display device

A method for producing a display substrate, a display substrate and a display device are provided. Including the display substrate manufacturing method, an insulating layer is formed on a substrate, a substrate including a display area and a peripheral area; a flat film is formed on the insulating layer; patterning process of flat membrane, forming a first display area in the thickness of the flat layer, the thickness of the flat layer second is formed in the surrounding area, and the first. The thickness of the flat hole is formed in the second layer, second thickness is less than the first thickness; on the surrounding area etching processing, so that the second thickness of the flat layer is thinning or removal, and with the first through hole corresponding to the second holes formed in the insulating layer. The display substrate production method, to reduce the thickness of the flat layer surrounding the area, to connect between the first conductive element and the second conductive elements, and to the second conductive unit is connected with the driving circuit, the contact area is large, small contact resistance, good connectivity.

【技術實現步驟摘要】
顯示基板的制作方法、顯示基板和顯示裝置
本公開至少一實施例涉及一種顯示基板的制作方法、顯示基板和顯示裝置。
技術介紹
在薄膜晶體管液晶顯示器(Thin-Film-TransistorLiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)產品中，常采用平坦層(Organiclayer，ORG)平坦膜層和降低負載。
技術實現思路
本公開的至少一實施例涉及一種顯示基板的制作方法、顯示基板和顯示裝置，利于減小周邊區的平坦層的厚度或去除周邊區的平坦層，利于第一導電單元和第二導電單元之間的連接，并利于第二導電單元與驅動電路連接，接觸面積大，接觸電阻小，連接性好。本公開的至少一實施例提供一種顯示基板的制作方法，包括：在襯底基板上形成絕緣層，所述襯底基板包括顯示區和周邊區；在所述絕緣層上形成平坦膜；對所述平坦膜進行圖案化工藝，在所述顯示區形成第一厚度的平坦層，在所述周邊區形成第二厚度的平坦層，且在所述第二厚度的平坦層中形成第一過孔，所述第二厚度小于所述第一厚度；對所述周邊區進行刻蝕處理，以使所述第二厚度的平坦層被減薄或去除，且在所述絕緣層中形成與所述第一過孔對應的第二過孔。本公開的至少一實施例還提供一種顯示基板，包括：襯底基板，所述襯底基板包括顯示區和周邊區；絕緣層，設置在所述襯底基板上；平坦層，設置在所述絕緣層上，所述平坦層包括設置在所述顯示區的顯示區平坦層和設置在所述周邊區的周邊區平坦層，所述周邊區平坦層的厚度小于所述顯示區平坦層的厚度，在所述周邊區設有貫穿所述平坦層和所述絕緣層的過孔。本公開的至少一實施例還提供一種顯示基板，包括：襯底基板，所述襯底基板包括顯示區和周邊區；柵極絕緣層，設置在所述襯底基板上；鈍化層，設置在所述柵極絕緣層上，所述鈍化層包括設置在所述顯示區的第一厚度的鈍化層和設置在所述周邊區的第二厚度的鈍化層，所述第二厚度小于所述第一厚度，在所述柵極絕緣層和所述第二厚度的鈍化層中設有過孔，或者，在所述第二厚度的鈍化層中設有過孔。本公開的至少一實施例還提供一種顯示裝置，包括本公開實施例所述的任一顯示基板。附圖說明為了更清楚地說明本公開實施例的技術方案，下面將對實施例的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅涉及本公開的一些實施例，而非對本公開的限制。圖1為一種顯示基板俯視示意圖；圖2為一種顯示基板的周邊區的接線俯視示意圖；圖3為圖1沿A-B處的剖視示意圖；圖4為一種顯示基板的周邊區的俯視示意圖；圖5為圖4沿C-D處的一種剖視示意圖；圖6為圖4沿C-D處的另一種剖視示意圖(本公開一實施例提供的在減薄時恰巧第二厚度的平坦層被完全去除時第二導電單元與第一導電單元連接的示意圖)；圖7為一種顯示基板的周邊區的俯視示意圖；圖8為圖7沿E-F處的剖視示意圖；圖9A為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區形成第一導電單元、柵極絕緣層和鈍化層的示意圖；圖9B為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區形成平坦膜的示意圖；圖9C為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區形成第二厚度的平坦層的示意圖；圖9D為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區在柵極絕緣層和鈍化層中對應第二厚度的平坦層中的第一過孔處形成第二過孔的示意圖；圖9E為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區形成第二導電單元的示意圖；圖9F為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區形成第二導電單元與驅動電路連接的示意圖；圖10為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區刻蝕工藝中第二厚度的平坦層被完全去除并且鈍化層(絕緣層)被刻蝕部分厚度的示意圖；圖11為本公開一實施例提供的在周邊區/Pad區刻蝕工藝中第二厚度的平坦層被完全去除并且鈍化層(絕緣層)被刻蝕部分厚度時第二導電單元與第一導電單元連接的示意圖；圖12為本公開一實施例提供的第一導電單元設置在柵極絕緣層和鈍化層之間時第二導電單元通過第二過孔與第一導電單元連接的示意圖；圖13為本公開一實施例提供的第一導電單元設置在柵極絕緣層和鈍化層之間時第二導電單元通過第二過孔與第一導電單元連接的示意圖。附圖標記：101-襯底基板；10-顯示區；01-周邊區；011-接線區；012-扇出區；121-薄膜晶體管；01020-連接線；1021-柵線；1041-數據線；105-鈍化層；0105-厚度被減薄的鈍化層；106-黑矩陣；107-彩膜層；0133-平坦層過孔；0134-鈍化層過孔；0102-第一導電單元；135-絕緣層；平坦膜1080；108-第一厚度的平坦層；0108-第二厚度的平坦層；0131-第一過孔；0132-第二過孔；01320-過孔；151-驅動電路；1511-連接電極；141-各向異性導電膠；1411-各向異性導電膠的導電部分；1412-各向異性導電膠的不導電部分；24-子像素單元；1091-像素電極。具體實施方式為使本公開實施例的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合本公開實施例的附圖，對本公開實施例的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例是本公開的一部分實施例，而不是全部的實施例。基于所描述的本公開的實施例，本領域普通技術人員在無需創造性勞動的前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本公開保護的范圍。除非另外定義，本公開使用的技術術語或者科學術語應當為本公開所屬領域內具有一般技能的人士所理解的通常意義。本公開中使用的“第一”、“第二”以及類似的詞語并不表示任何順序、數量或者重要性，而只是用來區分不同的組成部分。同樣，“包括”或者“包含”等類似的詞語意指出現該詞前面的元件或者物件涵蓋出現在該詞后面列舉的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“連接”或者“相連”等類似的詞語并非限定于物理的或者機械的連接，而是可以包括電性的連接，不管是直接的還是間接的。“上”、“下”、“左”、“右”等僅用于表示相對位置關系，當被描述對象的絕對位置改變后，則該相對位置關系也可能相應地改變。在彩色濾光片整合于陣列基板(ColorfilteronArray，COA)的產品中，常采用ORG平坦子像素(例如RGB)色阻段差，ORG位于RGB色阻之上。而在低功耗小尺寸移動產品中常采用ORG降低負載，從而降低產品功耗。以COA液晶顯示面板的陣列基板為例，如圖1所示，陣列基板包括襯底基板101，襯底基板101包括顯示區10和周邊區01。如圖1所示，襯底基板101上還設置有多條柵線1021和多條數據線1041。例如，多條柵線1021與多條數據線1041相互絕緣，多條柵線1021與多條數據線1041交叉限定多個子像素單元24。例如，周邊區01設置在顯示區10的至少一側。例如，周邊區01圍繞顯示區10設置。例如，顯示區10位于顯示基板的中部，例如，顯示區10包括按陣列排列的多個子像素單元，每個子像素單元包括薄膜晶體管(ThinFilmTransistor，TFT)121作為開關元件。薄膜晶體管121例如包括柵極、柵極絕緣層、有源層和源漏極。如圖2所示，周邊區01包括接線區(Pad區)011和扇出區(Fanout區)012，接線區011內的第一導電單元0102與扇出區012內連接線01020電連接。例如，第一導電單元0102與扇出區012的連接線01020可一體形成，但不限于此。第一導電單元0102可通過過孔(圖中未示出)本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種顯示基板的制作方法，包括：在襯底基板上形成絕緣層，所述襯底基板包括顯示區和周邊區；在所述絕緣層上形成平坦膜；對所述平坦膜進行圖案化工藝，在所述顯示區形成第一厚度的平坦層，在所述周邊區形成第二厚度的平坦層，且在所述第二厚度的平坦層中形成第一過孔，所述第二厚度小于所述第一厚度；對所述周邊區進行刻蝕處理，以使所述第二厚度的平坦層被減薄或去除，且在所述絕緣層中形成與所述第一過孔對應的第二過孔。

【技術特征摘要】
1.一種顯示基板的制作方法，包括：在襯底基板上形成絕緣層，所述襯底基板包括顯示區和周邊區；在所述絕緣層上形成平坦膜；對所述平坦膜進行圖案化工藝，在所述顯示區形成第一厚度的平坦層，在所述周邊區形成第二厚度的平坦層，且在所述第二厚度的平坦層中形成第一過孔，所述第二厚度小于所述第一厚度；對所述周邊區進行刻蝕處理，以使所述第二厚度的平坦層被減薄或去除，且在所述絕緣層中形成與所述第一過孔對應的第二過孔。2.根據權利要求1所述的顯示基板的制作方法，其中，所述第二厚度的平坦層小于或等于所述絕緣層的厚度。3.根據權利要求1所述的顯示基板的制作方法，其中，在所述襯底基板上形成所述絕緣層之前，還包括在所述周邊區形成第一導電單元。4.根據權利要求3所述的顯示基板的制作方法，其中，在形成所述第二過孔后，還包括在所述周邊區形成第二導電單元，所述第二導電單元通過所述第二過孔與所述第一導電單元電連接。5.根據權利要求4所述的顯示基板的制作方法，其中，在減薄時所述第二厚度的平坦層被完全去除，并且，所述絕緣層被去除部分厚度，在余下的所述絕緣層中形成與所述第一過孔對應的第二過孔。6.根據權利要求1-5任一項所述的顯示基板的制作方法，其中，所述絕緣層包括鈍化層，或者，所述絕緣層包括柵極絕緣層和鈍化層，其中，所述柵極絕緣層比所述鈍化層更靠近所述襯底基板。7.根據權利要求1-5任一項所述的顯示基板的制作方法，其中，所述圖案化工藝包括曝光工藝和顯影工藝，采用多色調掩模板對所述平坦膜進行曝光。8.根據權利要求1-5任一項所述的顯示基板的制作方法，在形成所述平坦膜之前，還包括在所述顯示區形成彩色濾光層。...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王小元，方琰，張逵，許志財，鄧鳴，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，重慶京東方光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：北京,11