圖案形成裝置及襯底支承裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及圖案形成裝置及襯底支承裝置。設有：基材，包括將被實施光學處理的具有透過性的撓性襯底在以規定的曲率彎曲的狀態下或是平坦的狀態下支承的面；和膜體，形成在該基材的表面上，且相對于在光學處理中所使用的光(曝光用的紫外線、對準用的可視光等)的反射率為50％以下。

【技術實現步驟摘要】
圖案形成裝置及襯底支承裝置本申請是PCT國際申請號為PCT/JP2013/057062、申請日為2013年3月13日、專利技術名稱為“襯底支承裝置及曝光裝置”、國家申請號為201380043800.5的專利技術專利申請的分案申請。
本專利技術涉及將通過處理裝置處理的撓性襯底的一部分以彎曲狀態或平坦狀態進行支承的襯底支承裝置、以及通過該支承裝置支承的撓性襯底的曝光裝置。本申請基于2012年8月28日申請的日本特愿意2012-188116號主張優先權，并在此援引其內容。
技術介紹
近年來，作為平板顯示器，除了液晶方式和等離子體方式外，有機EL方式也受到關注。在是有源矩陣方式的有機EL(AMOLED)顯示器的情況下，在包括驅動各像素的薄膜晶體管(TFT)、驅動電路、各種信號線等的背板上，層疊有包括由有機EL形成的像素發光層及透明電極層等的上板。在由有機EL形成的顯示器的制造方式中，作為以更低成本且高量產性的方式之一，提出了如下方法：將可撓性(柔性)的樹脂材料、塑料或金屬箔形成為厚度在200μm以下的長條狀的薄片(薄膜)，并在其上以卷對卷(RolltoRoll)方式直接制造出顯示器的背板和上板(專利文獻1)。在專利文獻1中，公開如下的制造方法：將構成各像素用TFT的電極層、半導體層、絕緣膜等、以及用于形成像素發光層、布線層的流動性材料通過噴墨方式等的印刷機連續地形成在可撓性的長條薄片(PET(Poly-EthyleneTerephthalate)薄膜等)上，由此低成本地制造顯示器。而且，在專利文獻1中還提出了如下方案：為了精密地加工出夾著絕緣層而上下層疊的TFT的柵極電極層與漏極/源極電極層的相對位置關系及各電極的形狀等，形成通過紫外線的照射能夠使表面的親疏水性改性的自組裝單分子層(SAM)，并使用利用了紫外線的圖案曝光裝置來更為精密地加工出各電極層的形狀。【現有技術文獻】【專利文獻1】國際公開2010/001537號
技術實現思路
上述的專利文獻1的曝光裝置將平面掩模的圖案經由投影光學系統投影曝光于被平坦地支承的可撓性的長條襯底薄片上。而在通過卷對卷方式在被連續搬運的撓性襯底薄片上將掩模的圖案反復進行曝光的情況下，通過采用將襯底薄片的搬運方向作為掃描方向、使掩模為圓筒狀的旋轉掩模的掃描型曝光裝置，能夠期待生產性的飛躍性提高。被連續搬運的撓性襯底薄片是薄的襯底，通過空氣軸承的平坦或彎曲的墊面等而被支承。或者，襯底薄片卷附在旋轉滾筒(直徑大的輥)的圓筒狀外周面的一部分上，從而以彎曲狀態被支承。在利用曝光裝置在形成有ITO等透明層的透明度高的PET薄膜、PEN(Poly-EthyleneNaphthalate)薄膜、極薄玻璃等上布圖的情況下，向涂布于該襯底表面的感光層(例如，光致抗蝕劑、感光性硅烷偶聯劑等)投射的圖案曝光光會到達襯底之下的墊面或是旋轉滾筒的外周面。因此，存在在墊面或旋轉滾筒的外周面反射了光成分(返回光)從襯底的背面側向表面側(投影光學系統那一方)返回來，從而使形成于感光層的圖案的像質劣化的情況。若能夠將位于襯底背側的墊面或旋轉滾筒的外周面的反射率抑制得很低，則能夠忽略該返回光帶來的影響。但是，為了進行曝光裝置的校準以及襯底的對位，會在平坦的墊面或旋轉滾筒的外周面的一部分上設置基準標記或基準圖案，在通過光學的對準顯微鏡等對這些基準標記或基準圖案進行檢測時，由于墊面或旋轉滾筒的外周面的反射率低，所以會產生難以以良好的對比度檢測基準標記或基準圖案的問題等。本專利技術方式的目的在于提供襯底支承裝置，其能夠降低來自對襯底進行支承的部件的反射光(返回光)所帶來的影響。此外，本專利技術方式的目的在于提供襯底支承裝置，其能夠利用由對準顯微鏡等形成的光學觀察裝置良好地檢測出在對襯底進行支承的裝置的支承面的一部分上形成的基準標記及基準圖案、或是來自形成在襯底上的標記及圖案的反射光(返回光)。再者，本專利技術方式的目的還在于提供曝光裝置，其在由上述那樣的襯底支承裝置支承的襯底上實施高精度的光布圖。根據本專利技術的第1方式，提供一種襯底支承裝置，包括：基材，具有對被實施光學處理(例如，曝光處理和對準時的計測處理)的具有透過性的撓性襯底以彎曲的狀態或平坦狀態進行支承的面；和膜體，形成在該基材的面之上，并且相對于在光學處理中所使用的光的反射率為50％以下。根據本專利技術的第2方式，提供一種襯底支承裝置，包括：基材，具有對被實施光學處理(例如，曝光處理和對準時的計測處理)的具有透過性的撓性襯底以彎曲的狀態或平坦狀態進行支承的面；膜體，形成在該基材的面之上，并且相對于在光學處理中所使用的光的反射率為50％以下；和基準圖案，在該膜體的表面通過微小層差形成。根據本專利技術的第3方式，提供一種曝光裝置，其利用第1方式或第2方式的襯底支承裝置進行圖案曝光。專利技術效果根據本專利技術的第1方式、第2方式，能夠提供支承裝置，當在具有透過性的薄襯底上曝光圖案時，該支承裝置能夠降低成為噪聲的不需要的曝光(不需要圖案的映入等)。根據本專利技術的第3方式，能夠提供能進行精密的圖案曝光的曝光裝置。附圖說明圖1是示出第1實施方式的曝光裝置的概略構成的圖。圖2是示出圖1的曝光裝置的主要部分的配置的立體圖。圖3是示出圖1、圖2的曝光裝置的投影光學系統的構成的圖。圖4是示出照明區域與投影區域的配置關系的示意圖。圖5是示出對襯底進行支承的旋轉滾筒與編碼器讀頭的配置的圖。圖6是示出襯底上的對準系統與投影區域的配置關系的圖。圖7是示意性示出被支承在旋轉滾筒上的襯底的構造的圖。圖8是示出第1實施方式的旋轉滾筒的表面構造的剖視圖。圖9是示出基于旋轉滾筒的表面材料的厚度的反射率特性的圖。圖10是示出第2實施方式的旋轉滾筒的表面構造的立體圖。圖11是示出第2實施方式的旋轉滾筒的表面構造的剖視圖。圖12是示出第3實施方式的圖案描畫裝置的構成的圖。圖13是說明圖12的裝置所實現的襯底的描畫方式的圖。圖14是示出第4實施方式的旋轉滾筒的表面構造的立體圖。圖15是示出第5實施方式的旋轉滾筒的表面構造的剖面的圖。圖16是示出第6實施方式的圖案曝光裝置的構成的圖。具體實施方式[第1實施方式]圖1是示出本實施方式的柔性襯底用的投影型曝光裝置EX的整體構成的圖。曝光裝置EX對從前一工序的處理裝置搬運來的可撓性的薄片狀襯底P的感光層照射與顯示器用的電路圖案及布線圖案相對應的紫外線布圖光。紫外線包括例如作為水銀放電等的輝光的g線(436Nm)、h線(405Nm)、I線(365Nm)，還有KrF、XECl、ArF等準分子激光(各自的波長為248nm、308nm、193nm)，還有來自半導體激光光源、LED光源、高頻波激光光源等的波長為400nm以下的光。圖1的曝光裝置EX設于溫度調節腔EVC內。曝光裝置EX經由被動或主動的防振單元SU1、SU2而設置于制造車間的地面上。在曝光裝置EX內設有用于將從前一工序運送來的襯底P以規定的速度向后一工序運送的搬運機構。搬運機構由邊緣位置控制器EPC、驅動輥DR4、旋轉滾筒DR、張緊力調整輥RT1、RT2以及2組驅動輥DR6、DR7等構成，所述邊緣位置控制器EPC用于將襯底P的Y方向(與長度方向正交的寬度方向)上的中心控制在恒定位置；所述驅動輥DR4被夾持著；旋轉滾筒DR一邊將襯底P上被圖案曝光本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種圖案形成裝置，對沿長邊方向輸送的撓性的片狀襯底進行光學處理來形成圖案，其特征在于，包括：襯底支承部件，其具有：基材，用于將所述片狀襯底以彎曲狀態或平坦狀態進行支承；膜體，形成于支承所述片狀襯底的所述基材的表面；通過層差形成在所述膜體上的基準圖案；圖案曝光部，其投射第一光而將所述圖案曝光，所述第一光用于對被所述襯底支承部件所支承的所述片狀襯底進行光學處理；以及光學檢測部，為了光學檢測所述基準圖案，投射與所述第一光不同波長的第二光來檢測來自所述基準圖案的反射光，調整所述膜體的厚度，將所述膜體的相對于所述第一光的反射率設定為小于相對于所述第二光的反射率。

【技術特征摘要】
2012.08.28 JP 2012-1881161.一種圖案形成裝置，對沿長邊方向輸送的撓性的片狀襯底進行光學處理來形成圖案，其特征在于，包括：襯底支承部件，其具有：基材，用于將所述片狀襯底以彎曲狀態或平坦狀態進行支承；膜體，形成于支承所述片狀襯底的所述基材的表面；通過層差形成在所述膜體上的基準圖案；圖案曝光部，其投射第一光而將所述圖案曝光，所述第一光用于對被所述襯底支承部件所支承的所述片狀襯底進行光學處理；以及光學檢測部，為了光學檢測所述基準圖案，投射與所述第一光不同波長的第二光來檢測來自所述基準圖案的反射光，調整所述膜體的厚度，將所述膜體的相對于所述第一光的反射率設定為小于相對于所述第二光的反射率。2.根據權利要求1所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述基材由以鐵或鋁為主成分的金屬材料制成，所述膜體作為2層以上的多層膜形成在所述基材的表面，所述膜體相對于所述第一光的反射率為20％以下。3.根據權利要求2所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述多層膜是形成在所述基材的表面上的基底層和形成在所述基底層之上的頂層的雙層構造，所述基底層的厚度大于所述頂層的厚度。4.根據權利要求3所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述基底層為鉻(Cr)、銅(Cu)、鋁(Al)、銀(Ag)或金(Au)中的任一個，所述頂層為氧化鉻(Cr2O3、CrO)、氧化鈦(TiO)、鋯石、氧化鉿、類金剛石(DLC)中的任一個。5.根據權利要求4所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述基底層由鉻(Cr)構成，所述頂層由厚度為30nm～150nm的氧化鉻(Cr2O3、CrO)構成。6.根據權利要求4所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述基底層由銅(Cu)構成，所述頂層由厚度為0.5μm以上的類金剛石(DLC)構成。7.根據權利要求3所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述基準圖案通過微小層差形成于所述基底層，所述頂層沿著所述基底層的微小層差層疊。8.根據權利要求1～7中任一項所述的圖案形成裝置，其特征在于，設所述第一光的中心波長為λ1、m為包括零的任意整數、所述基準圖案的層差量為ΔDP時，設定為如下范圍：λ1·(m+1/8)/2≦ΔDP≦λ1·(m+7/8)/2，或者λ1·(m+1/4)/2≦ΔDP≦λ1·(m+3/4)/2。9.根據權利要求1～7中任一項所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述第一光為紫外波段的光，所述第二光為可視波段～紅外波段的波長區域的光。10.一種圖案形成裝置，在沿長邊方向輸送的具有光透過性的撓性的片狀襯底的感光層形成圖案，其特征在于，包括：旋轉滾筒，其以外周面的一部分支承所述片狀襯底，所述外周面自中心線以一定半徑彎曲成圓筒面狀，并且所述旋轉滾筒為了沿長邊方向輸送所述片狀襯底而繞所述中心線旋轉；圖案曝光部，其將曝光用光投射于由所述旋轉滾筒支承著的所述片狀襯底的感光層，將圖案曝光，所述曝光用光包括使所述片狀襯底的感光層曝光的波長；對準系統，其照射與所述曝光用光不同波長的對準用光，檢測在由所述旋轉滾筒支承著的所述片狀襯底上形成的對準用標記，所述旋轉滾筒具有膜體和基準圖案，所述膜體被調整厚度，以使相對于所述對準用光的反射率大于相對于所述曝光用光的反射率，所述基準圖案通過層差形成于所述膜體上，以便能夠由所述對準系統檢測。11.根據權利要求10所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述旋轉滾筒由具有圓筒狀外周面的基材形成，所述基材由以鐵或鋁為主成分的金屬材料制成，所述膜體是以2層以上形成在所述基材的外周面之上的多層膜，所述膜體的相對于所述曝光用光的反射率為20％以下。12.根據權利要求11所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述多層膜是形成在所述基材的外周面之上的基底層和形成在所述基底層之上的頂層的雙層構造，所述基底層的厚度大于所述頂層的厚度。13.根據權利要求12所述的圖案形成裝置，其特征在于，所述基底層為鉻(Cr)、銅(Cu)、鋁(Al)、銀(Ag)或金(Au)中的任一個，所述頂層為氧...

【專利技術屬性】
技術研發人員：加藤正紀，鬼頭義昭，堀正和，木內徹，
申請(專利權)人：株式會社尼康，
類型：發明
國別省市：日本,JP