本實用新型專利技術涉及一種增加真空度的裝置，包括裝置系統主體，所述裝置系統主體內設有真空泵系統盤面，所述真空泵系統盤面上安裝有原氣動閥組件，所述原氣動閥組件包括原氣動閥件AV、原氣動閥件CV和原氣動閥件VG，所述原氣動閥組件的一側安裝有新增氣動閥組件，所述新增氣動閥組件包括新增氣動閥件AV、新增氣動閥件AV和新增氣動閥件AV，在原本盤面上只有普通的真空發生器裝置以及原氣動閥組件的部分，換鋼瓶前會進行盤面抽真空吹掃，這時候只會有真空發生器動作，達到盤面抽真空的目的，但實際情況并不能滿足制程工藝的真空度，故而增加一套真空泵系統，有效的解決了原先真空度不足，對盤面管路吹掃的潔凈度到不到制程要求的問題。盤面管路吹掃的潔凈度到不到制程要求的問題。盤面管路吹掃的潔凈度到不到制程要求的問題。
【技術實現步驟摘要】
一種增加真空度的裝置
[0001]本技術涉及高新產業特種氣體供應
，尤其涉及一種增加真空度的裝置。
技術介紹
[0002]特氣柜是特種氣體供應系統里主要設備,特種氣體是光電子、微電子等領域，特別是超大規模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池、半導體發光器件和半導體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐源材料，在半導體工業中，用到的氣體種類繁多,但有些氣體在吹掃過程中對真空發生器要求比較苛刻，一般的真空發生器在更換鋼瓶前和更換鋼瓶后，對盤面管路吹掃的潔凈度到不到制程要求，進而會影響產品的良率，因此，為解決該問題特別增加了一套真空泵系統來增加管路吹掃的真空度的措施，顯得尤為重要。
技術實現思路
[0003]本技術的目的在于克服現有技術的缺陷，提供了一種增加真空度的裝置，具有能夠有效解決真空度不足的問題，對盤面管路吹掃潔凈度高的優點。
[0004]實現上述目的的技術方案是：
[0005]本技術提供了一種增加真空度的裝置，包括裝置系統主體，所述裝置系統主體內設有真空泵系統盤面，所述真空泵系統盤面上安裝有原氣動閥組件，所述原氣動閥組件包括原氣動閥件 AV11、原氣動閥件CV和原氣動閥件VG，所述原氣動閥組件的一側安裝有新增氣動閥組件，所述新增氣動閥組件包括新增氣動閥件AV10、新增氣動閥件AV6和新增氣動閥件AV12，所述新增氣動閥組件的上、下兩側分別安裝有新增壓力傳感器PT和真空泵體。
[0006]優選的，所述新增氣動閥件AV10、所述新增氣動閥件AV6、所述新增氣動閥件AV12、所述新增壓力傳感器PT和所述真空泵體均設置有一個。為了解決盤面管路抽真空的問題，使得盤面管路潔凈度高。
[0007]優選的，所述真空泵體上設有泵口。為了使得真空泵體能夠正常的連接工作。
[0008]優選的，所述原氣動閥組件、所述新增氣動閥組件、所述新增壓力傳感器PT和所述真空泵體之間連接有真空泵系統管路。為了使得原氣動閥組件、新增氣動閥組件、新增壓力傳感器PT 和真空泵體之間能夠正常穩定的連接運作。
[0009]優選的，所述真空泵體與外設電源電性連接。為了保證真空泵體正常的運作。
[0010]本技術的有益效果是：本技術在使用的過程中，增加真空度的裝置包括真空泵體、新增氣動閥組件和新增壓力傳感器PT，新增氣動閥組件包括新增氣動閥件AV10、新增氣動閥件 AV6和新增氣動閥件AV12，通過增加本技術裝置能有效的解決盤面管路抽真空的問題，在原本盤面上只有普通的真空發生器裝置以及原氣動閥組件的部分，原氣動閥組件包括原氣動閥件 AV11、原氣動閥件CV和原氣動閥件VG，換鋼瓶前會進行盤面抽真空吹掃，這時候只會有真空發生器動作，達到盤面抽真空的目的，但實際情況并不能滿足制程工藝的真空度，故而增加一套真空泵系統，有效的解決了原先真空度不足，對盤面管路吹
掃的潔凈度到不到制程要求，進而會影響產品良率的問題，保證吹掃過程正常有序的進行。
附圖說明
[0011]圖1為本技術中真空泵系統盤面內的結構示意圖；
[0012]附圖標記說明：
[0013]1、裝置系統主體；2、真空泵系統盤面；3、真空泵系統管路；4、原氣動閥組件；41、原氣動閥件AV11；42、原氣動閥件 CV；43、原氣動閥件VG；5、新增氣動閥組件；51、新增氣動閥件AV10；52、新增氣動閥件AV6；53、新增氣動閥件AV12；6、新增壓力傳感器PT；7、真空泵體。
具體實施方式
[0014]下面結合附圖和具體實施例對本技術作進一步說明。
[0015]參閱圖1所示，本技術提供一種增加真空度的裝置，包括裝置系統主體1，裝置系統主體1內設有真空泵系統盤面2，真空泵系統盤面2上安裝有原氣動閥組件4，原氣動閥組件4包括原氣動閥件AV1141、原氣動閥件CV42和原氣動閥件VG43，原氣動閥組件4的一側安裝有新增氣動閥組件5，新增氣動閥組件 5包括新增氣動閥件AV1051、新增氣動閥件AV652和新增氣動閥件AV1253，新增氣動閥組件5的上、下兩側分別安裝有新增壓力傳感器PT6和真空泵體7，增加真空度的裝置包括真空泵體7、新增氣動閥組件5和新增壓力傳感器PT6，新增氣動閥組件5包括新增氣動閥件AV1051、新增氣動閥件AV652和新增氣動閥件 AV1253，在原本盤面上只有普通的真空發生器裝置以及原氣動閥組件4的部分，原氣動閥組件4包括原氣動閥件AV1141、原氣動閥件CV42和原氣動閥件VG43，原結構特氣盤面吹掃抽真空僅有原氣動閥件AV1141和原氣動閥件VG43作動，目前在硬件上新增加三個氣動閥和一個壓力傳感器，也就是新增了上述的新增氣動閥件AV1051、新增氣動閥件AV652、新增氣動閥件AV1253 和新增壓力傳感器PT6，當特氣鋼瓶用完需要更換新瓶時，會做特氣盤面吹掃動作，原結構盤面抽真空，實際狀況達到的真空度很難滿足制程需求，此時新增的系統會介入幫助原結構盤面抽真空，以達到制程所需求的真空度，有效的解決了原先真空度不足，對盤面管路吹掃的潔凈度到不到制程要求，進而會影響產品良率的問題，保證吹掃過程正常有序的進行。本技術根據附圖對該裝置作進一步說明。
[0016]進一步的，如圖1所示，新增氣動閥件AV1051、新增氣動閥件AV652、新增氣動閥件AV1253、新增壓力傳感器PT6和真空泵體7均設置有一個，單個新增氣動閥件AV1051、新增氣動閥件AV652、新增氣動閥件AV1253、新增壓力傳感器PT6和真空泵體7的增設，能有效的解決盤面管路抽真空的問題，使得盤面管路潔凈度高。
[0017]進一步的，如圖1所示，真空泵體7上設有泵口，泵口的設置，便于對真空泵體7進行相應的連接，保證真空泵體7能夠正常穩定的運行工作。
[0018]進一步的，如圖1所示，原氣動閥組件4、新增氣動閥組件 5、新增壓力傳感器PT6和真空泵體7之間連接有真空泵系統管路3，真空泵系統管路3的設置，使得原氣動閥組件4、新增氣動閥組件5、新增壓力傳感器PT6和真空泵體7之間能夠正常穩定的連接運作。
[0019]進一步的，如圖1所示，真空泵體7與外設電源電性連接，真空泵體7的設置，會介入幫助原結構盤面抽真空，以達到制程所需求的真空度，有效的解決了原先真空度不足，對盤面管路吹掃的潔凈度到不到制程要求。
[0020]本技術的工作原理是：本技術在使用的過程中，增加真空度的裝置包括真空泵體7、新增氣動閥組件5和新增壓力傳感器PT6，新增氣動閥組件5包括新增氣動閥件AV1051、新增氣動閥件AV652和新增氣動閥件AV1253，在原本盤面上只有普通的真空發生器裝置以及原氣動閥組件4的部分，原氣動閥組件 4包括原氣動閥件AV1141、原氣動閥件CV42和原氣動閥件VG43，原結構特氣盤面吹掃抽真空僅有原氣動閥件AV1141和原氣動閥件VG43作動，目前在硬件上新增加三個氣動閥和一個壓力傳感器，也就是新增了上述的新增氣動閥件AV1051、新增氣動閥件 本文檔來自技高網...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
1.一種增加真空度的裝置，包括裝置系統主體，其特征在于，所述裝置系統主體內設有真空泵系統盤面，所述真空泵系統盤面上安裝有原氣動閥組件，所述原氣動閥組件包括原氣動閥件AV11、原氣動閥件CV和原氣動閥件VG，所述原氣動閥組件的一側安裝有新增氣動閥組件，所述新增氣動閥組件包括新增氣動閥件AV10、新增氣動閥件AV6和新增氣動閥件AV12，所述新增氣動閥組件的上、下兩側分別安裝有新增壓力傳感器PT和真空泵體。2.根據權利要求1所述一種增加真空度的裝置，其特征在于，...
【專利技術屬性】
技術研發人員：張猛，
申請(專利權)人：上海吉威電子系統工程有限公司，
類型：新型
國別省市：
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