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本實(shí)用新型涉及一種增加真空度的裝置，包括裝置系統(tǒng)主體，所述裝置系統(tǒng)主體內(nèi)設(shè)有真空泵系統(tǒng)盤面，所述真空泵系統(tǒng)盤面上安裝有原氣動閥組件，所述原氣動閥組件包括原氣動閥件AV、原氣動閥件CV和原氣動閥件VG，所述原氣動閥組件的一側(cè)安裝有新增氣動閥組...該專利屬于上海吉威電子系統(tǒng)工程有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過上海吉威電子系統(tǒng)工程有限公司授權(quán)不得商用。