一種跪墊制造技術

一種跪墊，包括圓盤狀的跪墊本體，跪墊本體的中心截面形狀呈波浪形，跪墊本體上部中心處加工環形下凹槽，環形下凹槽的寬度由上至下逐漸減小，環形下凹槽將跪墊本體上部分隔形成側弧形頂和中心弧形頂，跪墊本體下部由內至外依次設有中心上凹槽、環形上凹槽、環形支撐部，中心上凹槽與環形上凹槽連接處形成向下彎曲的弧形過渡段，環形支撐部底部為平面，弧形過渡段最低點要高于環形支撐部底面。該跪墊結構模擬水波紋形狀進行設計，中心受力處向上凸起，相較于平面跪墊能承受更大的壓力，增加使用的舒適度。用的舒適度。用的舒適度。

【技術實現步驟摘要】
一種跪墊


[0001]本技術涉及一種跪墊。

技術介紹

[0002]日常鍛煉、跪拜或冥思時常常會用到跪墊對膝蓋進行支撐，現有的跪墊可能一般都是平墊，跪墊的舒適程度主要靠厚度和材質來決定，太薄的跪墊使用起來支撐力不夠，會造成膝蓋受損，厚度過大則增大了生產成本，直接影響企業利潤。

技術實現思路

[0003]針對上述問題中存在的不足之處，本技術提供一種跪墊。
[0004]為實現上述目的，本技術提供一種跪墊，包括圓盤狀的跪墊本體，所述跪墊本體的中心截面形狀呈波浪形，所述跪墊本體上部中心處加工環形下凹槽，所述環形下凹槽的寬度由上至下逐漸減小，所述環形下凹槽將所述跪墊本體上部分隔形成側弧形頂和中心弧形頂，所述跪墊本體下部由內至外依次設有中心上凹槽、環形上凹槽、環形支撐部，所述中心上凹槽與所述環形上凹槽連接處形成向下彎曲的弧形過渡段，所述環形支撐部底部為平面，所述弧形過渡段最低點要高于所述環形支撐部底面。
[0005]作為本技術進一步改進，所述環形上凹槽的形狀與所述側弧形頂相對應，所述弧形過渡段的形狀與所述環形下凹槽相對應，所述中心上凹槽的形狀與所述中心弧形頂相對應。
[0006]作為本技術進一步改進，所述側弧形頂與所述環形支撐部之間圓弧過渡。
[0007]作為本技術進一步改進，所述弧形過渡段底部還設有防滑凸點。
[0008]作為本技術進一步改進，所述防滑凸點為半球狀或者齒狀。
[0009]本技術的有益效果為：
[0010]該跪墊結構模擬水波紋形狀進行設計，中心受力處向上凸起，相當于在波紋的波峰處進行施力，下壓后下部的弧形過渡段先接觸地面，隨后中心上凹槽與地面之間的距離逐漸減小直到接觸地面，相同的厚度情況下，相較于平面跪墊能承受更大的壓力，增加使用的舒適度，防滑凸點的設計具有更好的抓地力。
附圖說明
[0011]圖1為本技術一種跪墊的剖視圖；
[0012]圖2為圖1中A處的放大圖；
[0013]圖3為跪墊本體1受力后的形變示意圖；
[0014]圖4為本技術一種跪墊的立體圖。
[0015]圖中：1、跪墊本體；2、側弧形頂；3、環形下凹槽；4、中心弧形頂；5、環形支撐部；6、環形上凹槽；7、弧形過渡段；8、中心上凹槽；9、防滑凸點。
具體實施方式
[0016]如圖1所示，本技術所述的一種跪墊，包括圓盤狀的跪墊本體1，跪墊本體1的中心截面形狀呈波浪形，跪墊本體1上部中心處加工環形下凹槽3，環形下凹槽3的寬度由上至下逐漸減小，環形下凹槽3將跪墊本體1上部分隔形成側弧形頂2和中心弧形頂4，跪墊本體1下部由內至外依次設有中心上凹槽8、環形上凹槽6、環形支撐部5，中心上凹槽8與環形上凹槽6連接處形成向下彎曲的弧形過渡段7，弧形過渡段7底部還設有防滑凸點9(參見圖2)，防滑凸點9為半球狀或者齒狀，環形上凹槽6的形狀與側弧形頂2相對應，弧形過渡段7的形狀與環形下凹槽3相對應，中心上凹槽8的形狀與中心弧形頂4相對應，環形支撐部5底部為平面，側弧形頂2與環形支撐部5之間圓弧過渡，弧形過渡段7最低點要高于環形支撐部5底面。
[0017]該跪墊結構模擬水波紋形狀進行設計，中心受力處向上凸起，相當于在波紋的波峰處進行施力，下壓后下部的弧形過渡段先接觸地面，隨后中心上凹槽與地面之間的距離逐漸減小直到接觸地面，相同的厚度情況下，相較于平面跪墊能承受更大的壓力，增加使用的舒適度，防滑凸點的設計具有更好的抓地力。
[0018]具體使用時，為方便理解本技術，結合附圖進行描述；
[0019]如圖3所示，使用時，一個膝蓋需要使用一個跪墊，膝蓋位置對應跪墊本體上部的中心弧形頂，中心弧形頂受力后逐漸向下凹陷，壓力分散至跪墊本體的各個部分，跪墊本體下部是由環形支撐部進行支撐，弧形過渡段的位置高于環形支撐部并且低于中心處的中心上凹槽，在受到向下的壓力后弧形過渡段會接觸地面，隨后中心上凹槽與地面之間的距離逐漸減小直到接觸地面。
[0020]以上所述僅為本技術的優選實施例而已，并不用于限制本技術，對于本領域的技術人員來說，本技術可以有各種更改和變化。凡在本技術的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本技術的保護范圍之內。
本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種跪墊，其特征在于：包括圓盤狀的跪墊本體(1)，所述跪墊本體(1)的中心截面形狀呈波浪形，所述跪墊本體(1)上部中心處加工環形下凹槽(3)，所述環形下凹槽(3)的寬度由上至下逐漸減小，所述環形下凹槽(3)將所述跪墊本體(1)上部分隔形成側弧形頂(2)和中心弧形頂(4)，所述跪墊本體(1)下部由內至外依次設有中心上凹槽(8)、環形上凹槽(6)、環形支撐部(5)，所述中心上凹槽(8)與所述環形上凹槽(6)連接處形成向下彎曲的弧形過渡段(7)，所述環形支撐部(5)底部為平面，所述弧形過渡段(7)最低點要高于所述環...

【專利技術屬性】
技術研發人員：黃吉力，
申請(專利權)人：浙江善力高科新材料有限公司，
類型：新型
國別省市：