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一種跪墊，包括圓盤(pán)狀的跪墊本體，跪墊本體的中心截面形狀呈波浪形，跪墊本體上部中心處加工環(huán)形下凹槽，環(huán)形下凹槽的寬度由上至下逐漸減小，環(huán)形下凹槽將跪墊本體上部分隔形成側(cè)弧形頂和中心弧形頂，跪墊本體下部由內(nèi)至外依次設(shè)有中心上凹槽、環(huán)形上凹槽、環(huán)...該專利屬于浙江善力高科新材料有限公司所有，僅供學(xué)習(xí)研究參考，未經(jīng)過(guò)浙江善力高科新材料有限公司授權(quán)不得商用。