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    真空設備和真空設備部件制造技術

    技術編號:38422769 閱讀:31 留言:0更新日期:2023-08-07 11:22
    真空設備和真空設備部件。該真空設備(100)包括:具有工藝處理區(qū)域(111)的真空室(110);用于借助于工藝在工藝處理區(qū)域(111)中對襯底(241)進行工藝處理的工藝處理設備(120),其中氣態(tài)材料(150)被發(fā)射到工藝處理區(qū)域(111)中;和預制的積聚表面結構(230),該積聚表面結構具有多個不平坦部(231),用于積聚氣態(tài)材料(150);其中多個不平坦部(231)借助于嵌入預制的積聚表面結構(230)的結構材料中的固體顆粒或借助于結構材料的激光結構化來提供。供。供。

    【技術實現步驟摘要】
    真空設備和真空設備部件


    [0001]不同的實施例涉及真空設備和真空設備部件。

    技術介紹

    [0002]通常,真空設施的暴露于在其中執(zhí)行的覆層工藝的一個或多個構件同樣會被覆層,使得這些構件獲得寄生覆層(也稱作為寄生層),其中在所述覆層工藝中應對襯底覆層。這種寄生覆層會不利地影響真空設施,例如當寄生覆層的組成部分脫離進而干擾真空設施內的真空和/或覆層工藝時。
    [0003]通常,定期清潔寄生覆層的表面以移除寄生覆層,這當然是耗費的并且會與高成本聯系在一起。傳統(tǒng)的清潔工藝還會損壞相關的構件,由此通常整體地更換尤其小的和/或敏感的構件。此外,清潔工藝會與真空設施的停機時間和工藝效率的減小聯系在一起。

    技術實現思路

    [0004]根據不同的方面已經認識到,會有利的是:寄生覆層盡可能牢固地附著(也稱為附著)進而結合在真空系統(tǒng)內。這例如抑制寄生覆層的組成部分的脫離進而抑制由于寄生覆層(也稱作寄生層)而對真空系統(tǒng)的不利影響。因此,可以擴大兩個清潔工藝之間的時間間距,這降低了成本和/或提高了工藝效率。
    [0005]直觀地已經認識到:寄生覆層的附著例如可以通過如下方式改進:上面形成寄生覆層的表面被粗化,例如表面設有不平坦部。這有助于寄生覆層與表面不平坦部的機械聯結(也稱作為形狀配合)。在該上下文中認識到:用于粗化表面的常規(guī)的工藝(例如噴砂或酸洗)是昂貴的和/或會引起損壞。與之相對,根據不同的實施方式,粗化借助于激光結構化或借助于用固體顆粒覆層來進行,這是便宜的并且溫和地進行(例如,損壞更小)。
    [0006]根據不同的實施方式,可以提供一種設備和方法,其改進表面和沉積在表面上的材料(在本文中也稱為寄生層或積聚部)之間的增附。
    [0007]根據不同的方面,提供一種預制的積聚表面結構、其用途和其預制,例如作為寄生層可以附著在其上的更復雜的設備的構件。
    [0008]根據不同的方面,積聚表面結構具有借助于預制物形成的粗糙表面(也稱為積聚表面)。
    [0009]根據不同的方面,可以提供一種真空設備,該真空設備的表面具有多個不平坦部作為表面結構(也稱為結構化表面),氣態(tài)材料可以附著在該表面結構處。
    [0010]根據不同的方面,可以提供一種真空設備部件(也稱為真空系統(tǒng)構件)及用于其預制的方法,其中該真空設備部件具有表面結構,氣態(tài)材料可以積聚在該表面結構處或者其他材料可以被積聚在該表面結構處。
    [0011]根據不同的方面,提供一種可以在真空設備內使用以增強氣態(tài)材料在其處的附著的表面結構。根據不同的方面,表面結構可以具有多個不平坦部。
    [0012]根據不同的方面,多個不平坦部可以借助于多個固體顆粒來提供,固體顆粒可以
    嵌入表面結構的結構材料中。替代地或附加地,表面結構可以借助于激光來產生。
    附圖說明
    [0013]不同的實施方式在附圖中示出并且在下文更詳細地解釋。
    [0014]附圖示出
    [0015]圖1至圖3分別示意地示出根據不同的方面的真空設備,
    [0016]圖4A至圖4D分別示意地示出根據不同的方面的真空設備部件,和
    [0017]圖5示意地示出根據不同的方面的用于運行真空設備的方法。
    具體實施方式
    [0018]在下面詳細的說明書中參考附圖,這些附圖形成說明書的一部分,并且其中示出能夠實施本專利技術的具體的實施形式以用于說明。在此方面,相關于所描述的一個(多個)附圖的取向而使用方向術語例如是“上”、“下”、“前”、“后”、“前部”、“后部”等等。因為實施形式的部件能夠以多個不同的取向來定位,所以方向術語用于說明并且不以任何方式受到限制。要理解的是,能夠使用其他的實施方式并且能夠進行結構上的或邏輯上的改變,而不偏離本專利技術的保護范圍。要理解的是,只要沒有特殊地另外說明,就能夠將在此描述的不同的示例性的實施方式的特征互相組合。因此,下面詳細的描述不能夠理解為限制性的意義,并且本專利技術的保護范圍通過所附的權利要求來限定。
    [0019]在本文中,術語“積聚”表示流體(例如液體和/或氣體)的一個或多個原子和/或一個或多個分子在固體表面處的富集,借助積聚從中形成固體積聚部(例如層)。借助于積聚形成積聚物(例如層)的表面在本文中也可以稱作為積聚表面。待積聚的材料在積聚之前例如存在于氣相并且在積聚后存在于固相,例如以層的形式存在(例如也稱作為寄生層、寄生積聚物或積聚覆層)。
    [0020]“寄生層”在本文中可表示在層形成工藝期間不期望形成的積聚物。寄生層可以被理解為由材料(也稱作為覆層材料)構成的層,這些層在真空設備的部件上形成,而襯底用相同的覆層材料覆層。
    [0021]在本說明書的范圍內,固體顆粒可以理解為具有固體或由固體形成的顆粒(直觀地粒狀結構),即以固態(tài)聚集態(tài)存在的物質(其中物質可以具有多個原子和/或分子)。固體顆粒也可以簡稱為“顆粒”。固體顆粒可以具有大于5nm的、例如大于0.1μm、例如小于1mm的擴展(直觀地顆粒尺寸)。直觀地,固體顆粒可以形成粒料或粉末。固體顆粒的擴展可以是其平均擴展,例如對所有固體顆粒取平均和/或對每個固體顆粒單獨取平均。單個固體顆粒的平均的擴展直觀地可以對應于具有固體顆粒體積的球的直徑。例如,固體顆粒可以作為粉末或粒料存在。
    [0022]“真空設備部件”在本文中理解為可以在真空內使用的構件(也稱為機器部件),例如其由金屬和/或陶瓷構成。例如,將真空設備部件理解為構件組形式的一個或多個構件,該構件包含在真空設備中并且該構件在真空設備運行中暴露于真空,例如設置在真空室內。例如,襯底保持器、運輸設備、室壁、工藝處理設備、真空室內的屏蔽件等可以被稱為真空設備部件。
    [0023]表面結構在本文中理解為主體(例如真空設備部件)的設有三維結構的區(qū)域,表面
    結構的不平坦部提供主體的表面。例如,表面結構可以具有多個不平坦部,這些不平坦部以周期性圖案設置并且借助于激光結構化產生。替代地,不平坦部可以不規(guī)則地設置和/或創(chuàng)建,例如當其借助于固體顆粒提供時。表面結構在其引入真空室中之前在其中預制,使得表面結構不借助于在真空室中執(zhí)行的覆層工藝來形成。
    [0024]例如,與主體的其他區(qū)域相比,激光結構化的區(qū)域可以被變色,例如由于通過借助激光的加工(例如結構化)產生的熱量輸入而被變色。例如,借助于激光結構化產生的表面結構可以具有與機械產生的表面結構的微觀的差異,即例如變色、熔化材料的殘留物和/或均勻的例如周期性的圖案。
    [0025]預制的積聚表面結構例如可以具有嵌入在所謂的結構材料(例如金屬,例如鎳)中的固體顆粒。例如通過將結構材料至少部分地和/或暫時地引入可變形狀態(tài)(例如熔化)使得固體顆粒可以進入結構材料中的方式,進行固體顆粒的嵌入。作為預制的結果,固體顆粒可以從結構材料伸出(例如本身沒有借此被覆層)。在嵌入固體顆粒后,結構材料例如會硬化。結構材料例如可以作為固體層存在,并且為了嵌入固體顆粒可以暫時熔化。但是,結構材料也可以直接以液體形式作為層施加,使得結構材料在固體顆粒嵌入之前不硬化。例如,預本文檔來自技高網
    ...

    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    1.一種真空設備(100),其特征在于,包括:真空室(110),具有工藝處理區(qū)域(111);工藝處理設備(120),用于借助于工藝在所述工藝處理區(qū)域(111)中對襯底(241)進行工藝處理,其中氣態(tài)材料(150)發(fā)射到所述工藝處理區(qū)域(111)中;和預制的積聚表面結構(230),所述積聚表面結構具有多個不平坦部(231),用于將所述氣態(tài)材料(150)積聚在所述不平坦部處;其中所述多個不平坦部(231)借助于嵌入預制的所述積聚表面結構(230)的結構材料中的固體顆粒或借助于所述結構材料的激光結構化來提供。2.根據權利要求1所述的真空設備(100),其特征在于,還具有:襯底承載設備(240),用于承載設置在所述工藝處理區(qū)域(111)中的所述襯底(241);其中所述襯底承載設備(240)具有預制的所述積聚表面結構。3.根據權利要求2所述的真空設備(100),其特征在于,所述襯底承載設備(240)具有襯底容納區(qū)域,用于容納所述襯底(241),所述襯底容納區(qū)域由預制的所述積聚表面結構限界。4.根據權利要求2或3所述的真空設備(100),其特征在于,所述襯底承載設備具有用于承載所述襯底的襯底承載件;并且在于,所述襯底承載件具有所述積聚表面結構。5.根據權利要求4所述的真空設備(100),其特征在于,所述襯底承載設備設計為運輸設備,用于將所述襯底運輸到所述工藝處理區(qū)域和/或穿過所述工藝處理區(qū)域,其中,所述運輸設備具有用于承載所述襯底的所述襯底承載件和用于運輸所述襯底承載件的多個運輸輥。6.根據權利要求1所述的真空設備(100),其特征在于,所述結構材...

    【專利技術屬性】
    技術研發(fā)人員:R
    申請(專利權)人:
    類型:新型
    國別省市:

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