溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。

真空設備和真空設備部件。該真空設備(100)包括：具有工藝處理區域(111)的真空室(110)；用于借助于工藝在工藝處理區域(111)中對襯底(241)進行工藝處理的工藝處理設備(120)，其中氣態材料(150)被發射到工藝處理區域(111...
該專利屬于馮所有，僅供學習研究參考，未經過馮授權不得商用。

詳細技術文檔下載地址

溫馨提示：您尚未登錄，請點 登陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。