一種具有冷卻機構的環形坩堝制造技術

本技術涉及真空鍍膜技術領域，具體涉及一種具有冷卻機構的環形坩堝。一種具有冷卻機構的環形坩堝，包括環形的底座和環形坩堝本體，在所述底座的頂部設有環形的放置槽，所述環形坩堝本體的底部與放置槽配合，在底座的內環中設有固定塊，所述固定塊通過連接臂與底座的內壁固定連接，在所述連接臂上安裝有液壓缸，所述液壓缸的活塞桿與環形坩堝本體的內壁接觸，在放置槽中安裝有環繞多圈的冷卻管，所述冷卻管與環形坩堝本體的底面接觸，冷卻管的兩端分別連通有進水管與出水管。本技術通過在底座的放置槽中設置環繞多圈的冷卻管，使環形坩堝本體的底部能夠充分與冷卻管接觸，使得環形坩堝的冷卻效果均勻。

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及真空鍍膜，具體涉及一種具有冷卻機構的環形坩堝。

技術介紹

1、真空鍍膜是一種由物理方法產生薄膜材料的技術，在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上，真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應用場合非常豐富，總體來說，真空鍍膜的主要功能包括改變被鍍件表面物理特性，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，或提供所需的光學性能。

2、坩堝是真空鍍膜技術中必不可少的，它主要用于盛放鍍膜材料，通過對鍍膜材料高溫蒸發達到鍍膜的目的，對于不同的鍍膜材料加熱的溫度不同，鍍膜過程中需要對坩堝進行降溫。而普通坩堝的水冷方式無法保證冷卻效果均勻，容易出現空穴現象，最終會影響蒸鍍過程進而破壞產品性能。

技術實現思路

1、本技術的目的在于提供一種具有冷卻機構的環形坩堝，解決普通坩堝容易出現空穴現象的問題。

2、為解決上述的技術問題，本技術采用以下技術方案：

3、一種具有冷卻機構的環形坩堝，包括環形的底座和環形坩堝本體，在所述底座的頂部設有環形的放置槽，所述環形坩堝本體的底部與放置槽配合，在底座的內環中設有固定塊，所述固定塊通過連接臂與底座的內壁固定連接，在所述連接臂上安裝有液壓缸，所述液壓缸的活塞桿與環形坩堝本體的內壁接觸，在放置槽中安裝有環繞多圈的冷卻管，所述冷卻管與環形坩堝本體的底面接觸，冷卻管的兩端分別連通有進水管與出水管。

4、進一步的技術方案是，在所述放置槽內設有配合塊，所述配合塊的兩側與放置槽的槽壁接觸，配合塊的頂面與環形坩堝本體的底面固定連接。

5、更進一步的技術方案是，所述連接臂有四個，在四個連接臂上分別安裝有相應的液壓缸。

6、更進一步的技術方案是，在所述液壓缸的活塞桿上固定連接有弧形的推板，所述推板與環形坩堝本體的內壁配合。

7、更進一步的技術方案是，在所述放置槽中設有升降液壓缸，在所述升降液壓缸的活塞桿上固定連接有固定板，在所述固定板的頂面上固定連接有多個支撐桿，所述支撐桿的頂端穿過冷卻管的間隙后與環形坩堝本體的底面接觸。

8、與現有技術相比，本技術的有益效果是：

9、1、本技術通過在底座的放置槽中設置環繞多圈的冷卻管，使環形坩堝本體的底部能夠充分與冷卻管接觸，使得環形坩堝的冷卻效果均勻，而設置在連接臂上的液壓缸會對環形坩堝本體的側面施加壓力，使得環形坩堝本體能夠與底座穩定連接。

10、2、本技術通過在放置槽中設置升降液壓缸，在需要進行檢修工作時，可以通過啟動升降液壓缸是支撐桿將環形坩堝本體頂起，這樣方便工作人員施力搬動環形坩堝本體，可以有效提升檢修工作的效率。

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【技術保護點】

1.一種具有冷卻機構的環形坩堝，其特征在于：包括環形的底座（1）和環形坩堝本體（2），在所述底座（1）的頂部設有環形的放置槽（3），所述環形坩堝本體（2）的底部與放置槽（3）配合，在底座（1）的內環中設有固定塊（4），所述固定塊（4）通過連接臂（5）與底座（1）的內壁固定連接，在所述連接臂（5）上安裝有液壓缸（6），所述液壓缸（6）的活塞桿與環形坩堝本體（2）的內壁接觸，在放置槽（3）中安裝有環繞多圈的冷卻管（8），所述冷卻管（8）與環形坩堝本體（2）的底面接觸，冷卻管（8）的兩端分別連通有進水管（9）與出水管（10）。

2.根據權利要求1所述的一種具有冷卻機構的環形坩堝，其特征在于：在所述放置槽（3）內設有配合塊（11），所述配合塊（11）的兩側與放置槽（3）的槽壁接觸，配合塊（11）的頂面與環形坩堝本體（2）的底面固定連接。

3.根據權利要求1所述的一種具有冷卻機構的環形坩堝，其特征在于：所述連接臂（5）有四個，在四個連接臂（5）上分別安裝有相應的液壓缸（6）。

4.根據權利要求1所述的一種具有冷卻機構的環形坩堝，其特征在于：在所述液壓缸（6）的活塞桿上固定連接有弧形的推板（7），所述推板（7）與環形坩堝本體（2）的內壁配合。

5.根據權利要求1所述的一種具有冷卻機構的環形坩堝，其特征在于：在所述放置槽（3）中設有升降液壓缸（12），在所述升降液壓缸（12）的活塞桿上固定連接有固定板（13），在所述固定板（13）的頂面上固定連接有多個支撐桿（14），所述支撐桿（14）的頂端穿過冷卻管（8）的間隙后與環形坩堝本體（2）的底面接觸。

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【技術特征摘要】

1.一種具有冷卻機構的環形坩堝，其特征在于：包括環形的底座（1）和環形坩堝本體（2），在所述底座（1）的頂部設有環形的放置槽（3），所述環形坩堝本體（2）的底部與放置槽（3）配合，在底座（1）的內環中設有固定塊（4），所述固定塊（4）通過連接臂（5）與底座（1）的內壁固定連接，在所述連接臂（5）上安裝有液壓缸（6），所述液壓缸（6）的活塞桿與環形坩堝本體（2）的內壁接觸，在放置槽（3）中安裝有環繞多圈的冷卻管（8），所述冷卻管（8）與環形坩堝本體（2）的底面接觸，冷卻管（8）的兩端分別連通有進水管（9）與出水管（10）。

2.根據權利要求1所述的一種具有冷卻機構的環形坩堝，其特征在于：在所述放置槽（3）內設有配合塊（11），所述配合塊（11）的兩側與放置槽（3）的槽壁接觸，配合塊（...

【專利技術屬性】
技術研發人員：李賢兵，周榮，
申請(專利權)人：成都友臻科技有限公司，
類型：新型
國別省市：