【技術實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術涉及評價方法、搜索方法以及搜索系統(tǒng)。
技術介紹
1、一般,在制造系統(tǒng)中,與制造相關的數(shù)據(jù)非常重要,有價值。并且,伴隨數(shù)據(jù)分析的工具以及算法的進步,為了減少我們的作業(yè)負擔而始終謀求精煉且簡單的方法,這對于競爭激烈的商業(yè)環(huán)境中的積極的成長是重要的。
2、隨著收集許多信息,數(shù)據(jù)的量存在急速擴大的可能性。由此,在分析中需要愈發(fā)多的資源以及時間,工藝開發(fā)有停滯的傾向。
3、這樣的狀況也適用于半導體產業(yè)。例如,為了評價蝕刻試驗的成果,需要利用了顯微鏡圖像的龐大的分析。
4、過去以來,提出顯微鏡圖像的分析方法。例如,專利文獻1公開了一種尺寸測量裝置,縮短尺寸測量所需的時間,并且將操作人員引起的誤差排除。專利文獻1中的尺寸測量裝置使用遍及截面圖像整體來提取加工構造與背景之間的邊界線及/或異種材料間的界面的邊界線的第1圖像識別模型、輸出用于按構成重復圖案的每個單位圖案來區(qū)分從第1圖像識別模型得到的遍及截面圖像整體的邊界線的信息的第2圖像識別模型,來求取按每個單位圖案預先定義的多個特征點的坐標,測量被定義為多個特征點當中的給定的2點間的距離的尺寸。
5、現(xiàn)有技術文獻
6、專利文獻
7、專利文獻1:國際公開第2020/121564
8、在專利文獻1中,在顯微鏡圖像中提取用于評價重復圖案的尺寸的多個特征點,但關于圖案的形狀自身的評價方法,還留有改善的余地。
技術實現(xiàn)思路
1、因此,在本專利技術中,目的在于,提供用
2、為了解決上述的課題,代表性的本專利技術的評價方法之一評價目標形狀與電子顯微鏡圖像的截面形狀之差,所述評價方法的特征在于,具有:第一步驟,測定所述截面形狀的特征性的尺寸;第二步驟,在所述第一步驟后,作成從所述尺寸得到的所述截面形狀中的所述目標形狀的模板;和第三步驟,通過歸一化的指標來比較所述模板與所述截面形狀的差異。
3、專利技術的效果
4、根據(jù)本專利技術,能評價截面圖像中出現(xiàn)的形狀。
5、上述以外的課題、結構以及效果通過用于進行以下的實施的方式中的說明而得以明確。
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1.一種評價方法,評價目標形狀與電子顯微鏡圖像的截面形狀之差,
2.根據(jù)權利要求1所述的評價方法,其中,
3.根據(jù)權利要求2所述的評價方法,其中,
4.根據(jù)權利要求2所述的評價方法,其中,
5.一種搜索方法,使用機器學習來搜索用于等離子蝕刻裝置的處理結果成為目標形狀的蝕刻條件,
6.一種搜索系統(tǒng),使用機器學習來搜索用于等離子蝕刻裝置的處理結果成為目標形狀的蝕刻條件,
【技術特征摘要】
1.一種評價方法,評價目標形狀與電子顯微鏡圖像的截面形狀之差,
2.根據(jù)權利要求1所述的評價方法,其中,
3.根據(jù)權利要求2所述的評價方法,其中,
4.根據(jù)權利要求2所述的評價方...
【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員:伊薩克·奧布賴恩特,松田航平,土橋高志,杰克·D·奧戈爾曼,斯蒂芬·布萊克,
申請(專利權)人:株式會社日立高新技術,
類型:發(fā)明
國別省市:
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