一種銅鉻觸頭表面激光重熔方法及真空斷路器技術

本申請揭示了一種銅鉻觸頭表面激光重熔方法及真空斷路器，所述方法包括：對銅鉻觸頭進行噴砂處理；采用激光打印機對噴砂處理后的所述銅鉻觸頭進行激光重熔，以在所述銅鉻觸頭表面形成重熔層；對所述銅鉻觸頭表面的重熔層進行磁力研磨，以獲得表面平整的銅鉻觸頭。本申請能夠顯著提升銅鉻觸頭在高電壓和大電流條件下的電性能和機械性能，從而延長銅鉻觸頭的使用壽命。

【技術實現步驟摘要】

本申請屬于電氣工程和材料，具體涉及一種銅鉻觸頭表面激光重熔方法及真空斷路器。

技術介紹

1、現有技術在制備銅鉻觸頭的過程中，尤其是在觸頭電弧老練后，形成的重熔層微觀結構較為復雜且不均勻，甚至夾雜一些電弧作用過程中產生的雜質。這些雜質和不均勻的晶粒結構會影響真空滅弧室內壁的絕緣性，進而影響真空斷路器的工作性能。此外，現有的老練工藝中，揮發物可能會吸附在管子或磁殼上，進一步影響絕緣性能。而且，這一過程不僅成本高，時間長，還增加了生產周期，限制了大規模生產的效率。因此，現有技術在提升觸頭材料的耐電壓強度、開斷電流能力和降低截流值等方面面臨挑戰，難以完全滿足現代工業對真空斷路器向高電壓、大容量、小型化發展的需求。

技術實現思路

1、本申請的主要目的在于提供一種銅鉻觸頭表面激光重熔方法及真空斷路器，本申請旨在提高銅鉻觸頭的各向性能。

2、為實現上述目的，本申請提供以下技術方案：

3、一種銅鉻觸頭表面激光重熔方法，包括：對銅鉻觸頭進行噴砂處理；采用激光打印機對噴砂處理后的所述銅鉻觸頭進行激光重熔，以在所述銅鉻觸頭表面形成重熔層；對所述銅鉻觸頭表面的重熔層進行磁力研磨，以獲得表面平整的銅鉻觸頭。

4、可選的，在0.5-1.0mpa的空氣壓力下對所述銅鉻觸頭進行噴砂處理。

5、可選的，激光打印機的工作腔室內的氧含量保持在100-600ppm。

6、可選的，激光重熔時間為10-60s。

7、可選的，激光重熔后冷卻時間為1-2min。

8、可選的，激光重熔后，所述銅鉻觸頭表面的重熔層的厚度為10-30μm。

9、可選的，磁力研磨的研磨時間為10-20min。

10、可選的，磁力研磨后，所述銅鉻觸頭表面的重熔層的粗糙度為1-3μm。

11、本申請還提供一種真空斷路器，所述真空斷路器包括銅鉻觸頭，所述銅鉻觸頭由如前任一所述的銅鉻觸頭表面激光重熔方法制備獲得。

12、本申請能夠帶來以下有益效果：本申請通過優化的噴砂處理、激光重熔和磁力研磨工藝，能夠提高銅鉻觸頭的耐壓性能和開斷能力，并能夠大幅降低觸頭表面粗糙度，從而能夠顯著提升銅鉻觸頭在高電壓和大電流條件下的電性能和機械性能，延長了銅鉻觸頭的使用壽命，從而能夠增強真空斷路器的可靠性和安全性。

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【技術保護點】

1.一種銅鉻觸頭表面激光重熔方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在0.5-1.0MPa的空氣壓力下對所述銅鉻觸頭進行噴砂處理。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，激光打印機的工作腔室內的氧含量保持在100-600ppm。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，激光重熔時間為10-60s。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，激光重熔后冷卻時間為1-2min。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，激光重熔后，所述銅鉻觸頭表面的重熔層的厚度為10-30μm。

7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，磁力研磨的研磨時間為10-20min。

8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，磁力研磨后，所述銅鉻觸頭表面的重熔層的粗糙度為1-3μm。

9.一種真空斷路器，其特征在于，所述真空斷路器包括銅鉻觸頭，所述銅鉻觸頭由權利要求1-8任一所述的銅鉻觸頭表面激光重熔方法制備獲得。

【技術特征摘要】

1.一種銅鉻觸頭表面激光重熔方法，其特征在于，所述方法包括：

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，在0.5-1.0mpa的空氣壓力下對所述銅鉻觸頭進行噴砂處理。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，激光打印機的工作腔室內的氧含量保持在100-600ppm。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，激光重熔時間為10-60s。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，激光重熔后冷卻時間為1-2min。...

【專利技術屬性】
技術研發人員：韓寧，王小軍，李鵬，雷星宇，徐常禮，王勇，
申請(專利權)人：陜西斯瑞新材料股份有限公司，
類型：發明
國別省市：