【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本申請涉及半導(dǎo)體制造設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及晶圓清洗裝置和晶圓處理設(shè)備。
技術(shù)介紹
1、晶圓制造是制約超大規(guī)模集成電路(即芯片,ic,i?ntegrated?ci?rcu?it?chi?p)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。隨著集成電路特征尺寸持續(xù)微縮，晶圓表面質(zhì)量要求越來越高，因而晶圓制造過程對缺陷尺寸和數(shù)量的控制越來越嚴格。污染物是造成晶圓表面質(zhì)量下降甚至產(chǎn)生缺陷的重要因素，因此需要采用清洗技術(shù)去除晶圓表面污染物，從而獲得超清潔表面，特別是在化學(xué)機械拋光(cmp,chemica?l?mechan?ica?l?po?l?i?sh?ing)的后清洗干燥中，晶圓表面水膜可能殘存顆粒物、化學(xué)液等污染成分，工藝部件與晶圓表面水膜撞擊會濺射產(chǎn)生大量霧滴。
2、清洗晶圓的箱體內(nèi)部是一個濕度很大的環(huán)境，易在箱體頂部凝結(jié)液滴，并且在清洗過程中還會有液體被甩到箱體頂蓋上，導(dǎo)致當晶圓清洗結(jié)束在機械手取片時，箱體頂蓋上面的污水會滴落下來，污染已經(jīng)清洗干凈的晶圓表面，造成晶圓表面的二次污染，嚴重影響清洗效果。此外，霧滴從活動門板和固定蓋板的縫隙中溢出容易導(dǎo)致污染后清洗單元內(nèi)空氣環(huán)境，同時在活動門板下表面和側(cè)表面積累形成污染源，嚴重影響芯片制造良率。
技術(shù)實現(xiàn)思路
1、本申請實施例提供了一種晶圓清洗裝置和晶圓處理裝置，旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。
2、本申請實施例提供一種晶圓清洗裝置，包括箱體及其內(nèi)部的清洗組件，所述箱體具有頂蓋、側(cè)壁和底板，所述頂蓋包括固定蓋板、活動門和固定接液盤，所述
3、在一個實施例中，所述固定蓋板的下表面在靠近所述開口處具有一凹陷部，所述凹陷部由中間向兩側(cè)傾斜，以引導(dǎo)在固定蓋板下表面形成的液體傾斜流下，其中向開口一側(cè)流下的液滴被引導(dǎo)向所述活動接液盤。
4、在一個實施例中，所述第一傾斜底板在向下傾斜的末端具有導(dǎo)流孔和凸出所述第一傾斜底板的上表面的第一擋部，所述第一擋部的上端部靠近所述固定蓋板的下表面。
5、在一個實施例中，所述固定接液盤在靠近所述側(cè)壁處具有縫隙，所述縫隙用于引導(dǎo)所述第二傾斜底板的上表面的液滴沿縫隙和側(cè)壁排出。
6、在一個實施例中，所述活動門板具有一與所述第一傾斜底板傾斜方向相同的中間部和鄰接于所述中間部的上端部和下端部，所述上端部具有凸出所述活動門板下表面的第二擋部，所述下端部具有凸出所述活動門板的下表面的第三擋部，所述第二擋部的下端部和所述第三擋部的下端部靠近所述固定蓋板的上表面。
7、在一個實施例中，所述固定蓋板的上表面在開口處具有凸出所述上表面的第四擋部，所述第二擋部、第三擋部、第四擋部具有傾斜面和尖端，所述第三擋部的傾斜面和所述第四擋部的傾斜面相對設(shè)置，所述第三擋部的傾斜面和所述第四擋部的傾斜面相對設(shè)置；所述連接件靠近所述第二擋部，當所述活動門封閉所述開口時，所述第一擋部、所述第二擋部、所述第三擋部和所述第四擋部用于防止霧滴溢出。
8、在一個實施例中，所述上端部具有凸出所述活動門板上表面的第五擋部，所述第五擋部具有與所述中間部的傾斜方向相同的傾斜表面，所述第五擋部的傾斜表面與所述中間部相接，并且所述第五擋部的傾斜表面的傾斜角度大于所述中間部的傾斜角度。
9、在一個實施例中，所述第一傾斜底板朝所述活動門打開所述開口的方向向下傾斜，所述中間部的傾斜角度小于等于所述第一傾斜底板的傾斜角度，所述中間部的傾斜角度為1-10°，所述第一傾斜底板的傾斜角度為5-15°。
10、在一個實施例中，所述清洗組件用于晶圓豎直清洗，所述清洗組件與所述固定接液盤分別位于所述開口的相對側(cè)。
11、本申請另一個實施例提供晶圓處理設(shè)備，包括前述任一實施例所述的晶圓清洗裝置和晶圓輸送裝置，所述晶圓輸送裝置用于將晶圓經(jīng)所述開口放入和取出所述晶圓清洗裝置，所述晶圓清洗裝置在清洗晶圓時關(guān)閉所述活動門。
12、本申請實施例的有益效果包括：有效避免了霧滴從活動門板和固定蓋板的縫隙中溢出箱體并污染后清洗單元內(nèi)空氣環(huán)境進而污染清洗后的晶圓；有效避免了工藝處理過程中大量霧滴在頂蓋下表面積累成液滴并滴落，進而污染晶圓的問題，使晶圓清洗效果得到穩(wěn)定改善。
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1.一種晶圓清洗裝置，其特征在于，包括箱體及其內(nèi)部的清洗組件，所述箱體具有頂蓋、側(cè)壁和底板，所述頂蓋包括固定蓋板、活動門和固定接液盤，所述固定蓋板中間位置設(shè)有開口，所述活動門安裝于所述開口處并能夠相對于所述固定蓋板水平移動以打開和封閉所述開口；
2.如權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述固定蓋板的下表面在靠近所述開口處具有一凹陷部，所述凹陷部由中間向兩側(cè)傾斜，以引導(dǎo)在固定蓋板下表面形成的液體傾斜流下，其中向開口一側(cè)流下的液滴被引導(dǎo)向所述活動接液盤。
3.如權(quán)利要求2所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述第一傾斜底板在向下傾斜的末端具有導(dǎo)流孔和凸出所述第一傾斜底板的上表面的第一擋部，所述第一擋部的上端部靠近所述固定蓋板的下表面。
4.如權(quán)利要求3所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述固定接液盤在靠近所述側(cè)壁處具有縫隙，所述縫隙用于引導(dǎo)所述第二傾斜底板的上表面的液滴沿縫隙和側(cè)壁排出。
5.如權(quán)利要求2所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述活動門板具有一與所述第一傾斜底板傾斜方向相同的中間部和鄰接于所述中間部的上端部和下端部，所述上端
6.如權(quán)利要求5所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述固定蓋板的上表面在開口處具有凸出所述上表面的第四擋部，所述第二擋部、第三擋部、第四擋部具有傾斜面和尖端，所述第三擋部的傾斜面和所述第四擋部的傾斜面相對設(shè)置，所述第三擋部的傾斜面和所述第四擋部的傾斜面相對設(shè)置；
7.如權(quán)利要求5所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述上端部具有凸出所述活動門板上表面的第五擋部，所述第五擋部具有與所述中間部的傾斜方向相同的傾斜表面，所述第五擋部的傾斜表面與所述中間部相接，并且所述第五擋部的傾斜表面的傾斜角度大于所述中間部的傾斜角度。
8.如權(quán)利要求5所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述第一傾斜底板朝所述活動門打開所述開口的方向向下傾斜，所述中間部的傾斜角度小于等于所述第一傾斜底板的傾斜角度，所述中間部的傾斜角度為1-10°，所述第一傾斜底板的傾斜角度為5-15°。
9.如權(quán)利要求1至8任一項所述的晶圓清洗裝置，所述清洗組件用于晶圓豎直清洗，所述清洗組件與所述固定接液盤分別位于所述開口的相對側(cè)。
10.一種晶圓處理設(shè)備，包括晶圓輸送裝置和如權(quán)利要求1至9任一項所述的晶圓清洗裝置，所述晶圓輸送裝置包括用于將晶圓經(jīng)所述開口放入和取出所述晶圓清洗裝置的機械手，所述晶圓清洗裝置在清洗晶圓時關(guān)閉所述活動門。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種晶圓清洗裝置，其特征在于，包括箱體及其內(nèi)部的清洗組件，所述箱體具有頂蓋、側(cè)壁和底板，所述頂蓋包括固定蓋板、活動門和固定接液盤，所述固定蓋板中間位置設(shè)有開口，所述活動門安裝于所述開口處并能夠相對于所述固定蓋板水平移動以打開和封閉所述開口；
2.如權(quán)利要求1所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述固定蓋板的下表面在靠近所述開口處具有一凹陷部，所述凹陷部由中間向兩側(cè)傾斜，以引導(dǎo)在固定蓋板下表面形成的液體傾斜流下，其中向開口一側(cè)流下的液滴被引導(dǎo)向所述活動接液盤。
3.如權(quán)利要求2所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述第一傾斜底板在向下傾斜的末端具有導(dǎo)流孔和凸出所述第一傾斜底板的上表面的第一擋部，所述第一擋部的上端部靠近所述固定蓋板的下表面。
4.如權(quán)利要求3所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述固定接液盤在靠近所述側(cè)壁處具有縫隙，所述縫隙用于引導(dǎo)所述第二傾斜底板的上表面的液滴沿縫隙和側(cè)壁排出。
5.如權(quán)利要求2所述的晶圓清洗裝置，其特征在于，所述活動門板具有一與所述第一傾斜底板傾斜方向相同的中間部和鄰接于所述中間部的上端部和下端部，所述上端部具有凸出所述活動門板下表面的第二擋部，所述下端部具有凸出所述活動門板的下表面的第三擋部，所述第二擋部的下端部和所述第三擋部的下端部靠近所述固定蓋板的上表面。...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：曹自立，王科，周靜，李燈，李長坤，
申請(專利權(quán))人：華海清科股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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