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    用于改變折射率的光學材料和方法技術

    技術編號:5397621 閱讀:361 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
    本發明專利技術涉及一種用于改變光學聚合物材料的折射率的方法。該方法包括用具有0.05nJ至1000nJ的脈沖能量的聚焦的可見或近紅外激光照射光學聚合物材料的選定區域。該照射導致折射率光學結構的形成,其呈現出很少的散射損耗或根本沒有散射損耗。該方法可用于在將人工晶狀體插入到人眼中后改變該晶狀體的折射率。本發明專利技術還針對包括折射率光學結構的光學器件,其呈現出很少的散射損耗或根本沒有散射損耗并且特征在于折射率的正向改變。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】

    【技術保護點】
    一種用于改變光學聚合物材料的折射率的方法,該方法包括用具有0.05nJ至1000nJ的脈沖能量的聚焦的可見或近紅外激光照射該光學聚合物材料的選定區域,其中照射區域呈現出很少的散射損耗或根本沒有散射損耗。

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:WH諾克斯丁立,JF金茨勒,DM亞尼CD平托,
    申請(專利權)人:博士倫公司,
    類型:發明
    國別省市:US[美國]

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